「alignment process」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing apparatus for a display element and a manufacturing method for the display element which provide high productivity by making alignment of prescribed patterns formed on the surfaces of respective substrates accurate and easy in a process for sticking the flexible substrates to each other.例文帳に追加

可撓性の各基板を貼り合わせる工程において、各基板表面に形成される所定のパターンの位置合わせを正確かつ容易とすることで、生産性の高い表示素子の製造装置および表示素子の製造方法を実現する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern by which an alignment mark can be accurately detected to form a pattern even when high positional accuracy is required with a small-sized high performance device, in exposure techniques in a photolithography process of a semiconductor device and a printed wiring board or in a simple curing process of a photosensitive resin.例文帳に追加

本発明は、半導体素子やプリント配線板などにおけるフォトリソグラフィ工程或いは単に感光性樹脂を硬化させる工程における露光技術に関し、小型化、高性能化に伴ない高い位置精度が必要とされる場合でも、的確にアライメントマークの検出し、パターンを形成することができる、パターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The manufacture method of the optical fiber Fabry-Perot sensor comprises a process of fixing optical fibers on a substrate and a process of forming at least one gap in the optical fibers after fixing the optical fibers on the substrate in order that a pair of optical fiber end surfaces, which are disposed oppositely to each other by automatic alignment and has a separated interval, are established in the Fabry-Perot sensor.例文帳に追加

光ファイバーファブリ−ペロセンサーの製造方法は、基板に光ファイバーを固定する段階と、ファブリ−ペロセンサーにおいて少なくとも一対の自動整列で相反する離れた間隔の光ファイバーの末端面を確定するために光ファイバーが基板に固定された後に、光ファイバーに少なくとも一つのギャップを形成する段階とを有する。 - 特許庁

To provide a holding tray for a substrate with which at least a part or more of a substrate holding means is contained so that the substrate is fixedly supported on the flat-plate surface of the vertical substrate holding tray for vacuum process, and the high accurate alignment can be obtained by holding and supporting the substrate arranged at the vertical-state and the stable vapor-deposition process is performed.例文帳に追加

真空工程用鉛直基板固定トレイの平板面上に前記基板が固定支持されるように少なくとも一部分以上基板固定手段を含んでなり、鉛直に配置された基板を固定及び支持して高精密の整列が可能で、かつ安定した蒸着工程がなされる基板固定トレイを提供すること。 - 特許庁

To attempt to decrease a manufacturing cost by eliminating uselessness of a sheet material with moisture permeability and water non-permeability to achieve a process with a high environmental adaptability decreasing industrial waste in a producing process for dehumidifiers assuming that assembly packaging is performed, and to avoid to repeatedly perform a complicated alignment work for the containers, to attempt to achieve efficiency of the work including a packaging process and to achieve improvement of productivity.例文帳に追加

集合包装を行うことを前提とした除湿器の生産工程において、透湿性及び非透水性を有するシート材の無駄を無くして生産コストの低減化を図り、更には産業廃棄物を少なくした環境適応性の高い工程を実現すること、また、煩雑な容器の整列作業を繰り返し行うことを避け、包装工程まで含めた作業の効率化を図り、生産性の向上を実現することができること。 - 特許庁

A post-process to adjust the pretilt angle θp of liquid crystal molecules 50a on alignment layers 16, 22 by heat treatment or humidification treatment is carried out (S14) at least for a liquid crystal device 1 comprising a liquid crystal injected between a pair of substrates (S1 to S13).例文帳に追加

少なくとも一対の基板間に液晶を注入した液晶装置１に対して（Ｓ１〜Ｓ１３）、加熱処理或いは加湿処理を施して配向膜１６，２２上の液晶分子５０ａのプレチルト角θｐを調整する後工程を実施する（Ｓ１４）。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a gas discharge display device, wherein there is no need for alignment in forming an electrode, the time needed for an electrode forming process can be substantially shortened, and the material cost of the electrode and the cost of a manufacturing facility can be reduced.例文帳に追加

電極形成時におけるアラインメントの必要が無く、電極形成工程に要する時間を大幅に短縮することができ、電極の材料コスト及び製造設備のコストを低減することができるガス放電表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Considering the detected positional information on the alignment mark(s), the main controller 20 determines a target position of movement of the substrate at the time of exposing a plurality of specific zones except for the first one on the substrate by a process including statistical calculation.例文帳に追加

また、主制御装置２０は、検出されたアライメントマークの位置情報を考慮して、基板上の最初の区画領域を除く特定の複数の区画領域を露光する際の基板の移動目標位置を統計演算を含む処理により決定する。 - 特許庁

The wafer identification information is acquired by detecting the displacement amount in the reference layer when the correction amount is determined through wafer alignment treatment in the exposure process for forming the patterns of the first hierarchy and the subsequent on the wafer, and by being based on the detected result.例文帳に追加

ウエハ識別情報は、ウエハ上に形成される第一階層以降のパターンを形成する露光工程において、前記ウエハの位置合わせ処理で補正量を求める際に、基準層でのずらし量を検出し、検出結果に基づいて取得する。 - 特許庁

An exposure process for patterning for making the area of the SiO_2 film to be polished by CMP uniform and exposure for patterning for imparting step-difference to an alignment mark are covered by the same exposure, thereby reducing the number of times of exposure processing to two.例文帳に追加

あるいは、ＣＭＰで研磨するＳｉＯ_2膜の面積を揃えることを目的としたパターニングのための露光工程と、アライメントマークに段差を持たせることを目的としたパターニングのための露光を同一露光で賄うことで、露光工程の回数を２回に低減する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which when the same kind of a semiconductor material as that of a semiconductor layer is used as a substrate for growing the semiconductor layer making up a semiconductor element structure, allow a recognizable alignment mark to be formed at the time of a light exposure process following the growth of the semiconductor layer.例文帳に追加

半導体素子構造を構成する半導体層の成長用基板として、該半導体層と同種の半導体材料を用いる場合に、半導体層を成長した後の露光時に認識可能なアライメントマークを形成できるようにする。 - 特許庁

To promote alignment on the same chip as for a general integrated circuit manufactured in the manufacturing process for the CMOS in order to have a horizontal structure in addition to a high breakdown voltage, high output current, and fast working speed in a power MOS transistor.例文帳に追加

パワーＭＯＳトランジスタにおいて、高い降伏電圧、高い出力電流および高速の動作速度を備えるのみならず、水平構造を備えるために、ＣＭＯＳの製造工程で製作された一般的な集積回路と同一のチップ上に整合させる。 - 特許庁

A liquid crystal (LC) medium for polymerization alignment process is provided which includes at least a set of LC molecules, at least a set of reactive monomers, and at least one inhibitor at a concentration in a range of 0.01-1 wt.% of the reactive monomers.例文帳に追加

重合配向処理のための液晶（ＬＣ）媒体が、少なくとも一組のＬＣ分子、少なくとも一組の反応性単量体、及び、該反応性単量体の０．０１〜１％ｗｔという範囲の濃度で阻害剤を少なくとも１つ含んでいる。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a thin film transistor in which alignment precision of a gate electrode, a source electrode and a drain electrode is enhanced without using an expensive deposition lift-off step, and overlap of the source electrode and drain electrode is reduced for the gate electrode.例文帳に追加

蒸着リフトオフという高価な工程を使用せずに、ゲート電極、ソース電極およびドレイン電極の位置合わせ精度を向上させ、ゲート電極に対するソース電極およびドレイン電極の重なりを小さい薄膜トランジスタ製造方法の提供。 - 特許庁

Since both free ends of the pipe frame 14, i.e., the rear end 15A and the lower end 18B, are fixed at respective different positions on the center pillar 19, no alignment of the rear end 15A with the lower end 18B is needed, thus the severeness of bending accuracy in a bending process or the like is eased.例文帳に追加

一方、パイプフレーム１４は、両方の自由端をそれぞれセンタピラーの別個の位置に固着しているから、パイプフレーム１４の後端１５Ａ、下端１８Ｂを互いに位置合わせする必要がなく、曲げ加工等の加工精度を緩和することができる。 - 特許庁

In the manufacturing process, a protective film 12 is formed with a transparent insulating film such as silicon nitride, silicon oxide or the like on a substrate on which thin film transistors are formed, and besides, an alignment film 13 composed of polyimide or the like is formed by a method such as screen printing or transferring in a region other than terminal parts.例文帳に追加

薄膜トランジスタが形成された基板上に、保護膜１２を窒化シリコン、酸化シリコン等の透明絶縁膜により成膜し、さらに、端子部を除く領域にポリイミド等よりなる配向膜１３をスクリーン印刷または転写等の方法で形成する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal device having color filters, which can be manufactured by a simple method and wherein ejection trace of a liquid crystal, change of alignment and influence of an electric field and light in the lateral direction of a pixel are hardly caused and shortening of a manufacturing process and reduction of a manufacturing material are attained.例文帳に追加

極めて簡便な方法により、液晶の吐出痕や配向の変化、画素の横方向の電界や光の影響が生じ難い、かつ製造工程の短縮や製造材料を削減したカラーフィルタを有する液晶装置を提供する。 - 特許庁

This process flow provides a direct body tie contact 222 to mitigate floating body effects but also eliminates hysteresis and transient upset effects common in non-direct body tie contact configurations, without the critical alignment requirements and critical dimension control of the layout.例文帳に追加

このプロセスフローは、浮遊ボディ効果を緩和するように直接ボディ・タイ・コンタクト２２２を提供するが、臨界的なアライメント要求ならびにレイアウトの臨界的な寸法制御なしで、非直接ボディ・タイ・コンタクトに共通のヒステリシスおよび過渡アップセット効果をも除去する。 - 特許庁

To provide a photolithographic process allowing reduction of an alignment error of an exposure shot formed on a wafer using a method not increasing costs, improving the accuracy of superposition between upper and lower mask patterns even when exposure devices having different shot area sizes are used together.例文帳に追加

コスト上昇を招くことのない方法によってウェーハ上に形成される露光ショットの配列誤差を低減し、ショットエリアの大きさが異なる露光装置を混用しても上下のマスクパターンの重ね合わせ精度が向上できるフォトリソ工程を提供する。 - 特許庁

Moreover, a light source control part 140 makes the first light source 121 whose power is small in two light sources to be in a lighting state throughout respective processes and the second light source 122 whose power is large to be in a lighting state only in the second alignment process.例文帳に追加

光源制御部１４０は、２つの光源のうち、パワーの小さな第１の光源１２１については各工程を通じて点灯状態とし、パワーの大きな第２の光源１２２については第２の位置合わせ工程においてのみ点灯状態とする。 - 特許庁

To provide a method of controlling position by which an ultra-fine pattern can be formed in a highly reproducible state with high accuracy when an auto-alignment mechanism is unusable or the fine adjustment of a sample holder is difficult after the holder is fixed in a lithography step performed in the manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程のリソグラフィー工程において、オートアライメント機構の使用が不可能な場合、またはサンプルホルダー固定後の微調整が困難な場合に極微細パターンを高精度で再現性良く形成できる位置制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal aligning agent which has superior printing properties and by which product yield in a large manufacturing process can be improved and obtained liquid crystal alignment layer has a superior voltage holding ratio, and to provide a liquid crystal display element that shows display characteristics of high quality.例文帳に追加

印刷性に優れ大型ラインによる製造工程における製品歩留まりを改善することができ、且つ得られる液晶配向膜の電圧保持率に優れた液晶配向剤、および高品位の表示特性を示す液晶表示素子を提供すること。 - 特許庁

First and second needles for position detection are brought into contact with pads 102, 103 for alignment, respectively, in a state that predetermined potential is applied to a terminal 105 and a terminal 106, and potential in contact positions 104, 107 is measured (a potential measuring process).例文帳に追加

端子１０５および端子１０６に所定の電位を与えた状態で、それぞれに第１および第２の位置検出用針を位置合わせ用パッド１０２，１０３に接触させることにより、コンタクト位置１０４，１０７での電位を測定する（電位測定工程）。 - 特許庁

To provide a charge transfer element to which alignment residual in patterning process at the time of formation does not lead to the variation in the photodetecting area of a photoelectric converter, and to provide its manufacturing method when configuring the image pick-up part of, for example, a solid state image sensor.例文帳に追加

例えば固体撮像素子の撮像部を構成した場合に、作製時のパターニング工程における位置合わせ誤差が光電変換部の受光領域の面積のばらつきにつながらない電荷転送素子及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

This semiconductor device comprises a semiconductor substrate, a plurality of gate electrodes 12 formed in a stripe shape in this semiconductor substrate, and a plurality of source regions 14 formed in the semiconductor substrate in a self-alignment process with respect to this gate electrode 12.例文帳に追加

この半導体装置は、半導体基板と、この半導体基板にストライプ状に形成された複数本のゲート電極１２と、このゲート電極１２に対して自己整合的に半導体基板に形成された複数本のソース領域１４とを備えている。 - 特許庁

For example, when θ being the initial liquid crystal alignment direction 58 is 0°, the rubbing process is carried out in a direction at 90° with respect to the longitudinal direction of the electrode opening 50, that is, in a perpendicular direction to the longitudinal direction of the electrode opening 50.例文帳に追加

例えば、初期液晶配向方向５８であるθが０°のとき、電極開口部５０の長手方向に対し９０°の方向に、すなわち電極開口部５０の長手方向に対し垂直な方向にラビング方向５４，５５をとって、ラビング処理が行われる。 - 特許庁

To provide a plane optical element which reduces costs by improving the alignment precision of plastic optical fibers and the plane optical element without requiring the increase of the number of parts and the improvement of process controllability so as to facilitate the fixing work of the plastic optical fibers to improve productivity.例文帳に追加

部品点数の増加やプロセス制御性の向上を必要とせずに、プラスチック光ファイバと面型光素子のアライメント精度を向上させ、プラスチック光ファイバの固定作業も容易にして生産性を向上させ、低コスト化を図る面型光素子である。 - 特許庁

In the method for forming an alignment mark on a glass substrate, a positive resist is applied onto the glass substrate and then is processed into a prescribed mark shape by photolithography process, and thereafter, post-baking is performed in order to reduce photosensitivity of the positive resist.例文帳に追加

ガラス基板上にポジレジストを塗布した後、該ポジレジストをフォトリソグラフィプロセスにより所定のマーク形状に加工し、その後、該ポジレジストの感光性を低下させる目的でポストベークを行うことを特徴とするガラス基板上にアライメントマークを形成する方法。 - 特許庁

The method of producing the liquid crystal display device having at least two switching elements provided for each pixel includes a process of selecting a switching element to be connected to the pixel having defects and of connecting the selected element to the pixel and a process of irradiating the defective pixel with laser light to at least modify the alignment film.例文帳に追加

液晶表示装置の製造方法において、欠陥を有する画素に対応してこの画素の一つあたり少なくとも二つがそれぞれ設けられているスイッチング素子について画素と接続される前記スイッチング素子を選択して画素と接続する工程と、欠陥を有する画素にレーザ光を照射して配向膜を少なくとも変質させる工程とを併せもつことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an electron emitting element whereby deterioration of landing characteristics of emitted electrons classified by each coloring matter due to dislocation of the alignment of a first substrate and a second substrate which is caused in an assembling process, or contraction/expansion errors of the first substrate and the second substrate which is produced during a heating process can be alleviated, and uniformity of luminance and color reproducibility can be enhanced.例文帳に追加

本発明の目的は組立工程で発生する第１基板と第２基板の整列位置外れ、又は熱工程の途中で発生する第１基板と第２基板の収縮/膨脹誤差などによる各画素別放出電子のランディング特性低下を軽減でき、輝度と色再現力の均一度を向上させられる電子放出素子を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a liquid crystal display element having excellent display quality and high reliability by preventing degradation or deterioration of a liquid crystal composition and an alignment film in a sealing process of applying a photocurable resin composition on an injection port of liquid crystal and curing the photocurable resin by ultraviolet irradiation.例文帳に追加

液晶注入口に光硬化樹脂組成物を塗布し、紫外線を照射して硬化する封止工程において、液晶組成物及び配向膜の分解または劣化を防止して高表示品質及び高信頼性な液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multilayer suspension which makes it possible to drastically curtail the number of laser welding process steps, to greatly enhance alignment accuracy and to improve vibration characteristics and wind disturbance characteristics without an increase in a spring constant, a HGA and a method of manufacturing the HGA.例文帳に追加

レーザウェルディング工程数を大幅に削減できかつ位置合わせ精度を大幅に高めることができ、また、振動特性及び風乱特性を、ばね定数の増加なく向上させることができるマルチレイヤサスペンション、ＨＧＡ及びこのＨＧＡの製造方法を提供する。 - 特許庁

To increase a packing density and a yield by eliminating a contact aperture making process by photolithography and by preventing a device from being increased in by an alignment margin, in the manufacture of a MOS semiconductor by forming a drain and a source out of polysilicon.例文帳に追加

ポリシリコンを用いたＭＯＳ半導体装置において、ドレイン、ソースにポリシリコンを形成することを特徴とするＭＯＳ半導体装置の製造方法において、フォトリソグラフィによるコンタクト開口を無くし、目合わせマージンによる素子の増大化を防止し高集積化及び高歩留り化を図る。 - 特許庁

According to the optical modulation element, a crystal can be grown in a predetermined direction from a crystalline nucleus formed at an arbitrary position of a semiconductor film deposited on an insulation substrate with a predetermined thickness, and an alignment mark AM can be formed at an arbitrary position of the semiconductor film in the same process.例文帳に追加

この光変調素子によれば、絶縁基板上に所定厚さに堆積された半導体膜の任意の位置に、結晶核を形成し、その結晶核から所定の方向に結晶を成長させるとともに、半導体膜の任意の位置にアライメントマークＡＭを、同一工程で形成できる。 - 特許庁

In the polarizer having an alignment layer formed by using a liquid crystal dichroic pigment, the high brightness polarizing plate laminates the polarizer in which the liquid crystal dichroic pigment has no crystal transition peak in a temperature lowering process in measurement of a differential scanning caloric value and a phase difference film.例文帳に追加

液晶性二色性色素を用いて形成された配向層を有する偏光子であって、液晶性二色性色素は、示差走査熱量の測定における降温過程において、結晶転移ピークが見られない偏光子と、位相差フィルムとを積層していることを特徴とする楕円偏光板。 - 特許庁

To provide a method of processing a wafer which can eliminate the need of dismounting the wafer during cutting and also the need of re-alignment, and can efficiently process the wafer even if precutting becomes necessary due to the breakage of a cutting blade during the cutting of the wafer for the exchange of the broken blade for a new cutting blade.例文帳に追加

ウエーハに対する切削途中で切削ブレードが破損して新たな切削ブレードに交換することでプリカット処理が必要となっても、切削途中のウエーハの取り外しを要せず再アライメントも不要で、効率よくウエーハを加工し得るウエーハの加工方法を提供する。 - 特許庁

To improve a display grade of a liquid crystal display device by making the sealing amount of liquid crystal easily controllable and making a cell gap uniform without the generation of air bubbles in a sealing process step of the liquid crystals by a dispenser type panel alignment filling method which shortens the time for manufacture.例文帳に追加

製造時間の短縮を図る滴下貼り合わせ注入方法による液晶の封入工程において、液晶の封入量を容易に制御可能とし、気泡を生じる事無くセルギャップの均一化を図り、液晶表示装置の表示品位向上を図る。 - 特許庁

Further, a back-side edge part of the photoreceptor drum 1, which is connected to an output axis 76 disposed in the carrier 74 through a serration coupling 34, is floatingly supported to a process case 101 which is a casing, and the front-side edge part of the photoreceptor drum is supported to a drum support shaft 113 via an alignment gear 90.例文帳に追加

また、キャリア７４に設けられた出力軸７６にセレーションカップリング３４を介して接続される感光体ドラム１の奥側端部をケーシングたるプロセスケース１０１に浮動支持し、手前側端部をドラム支持軸１１３に調心軸受け９０を介して支持した。 - 特許庁

Thereby, difference in electrostatic capacitance between the pixel electrode 62 and the source wiring 54a in one side and the capacitance between the pixel electrode 62 and the source wiring 54b in the other side hardly changes even when a few alignment deviations occur in each interblock in a photographic process.例文帳に追加

こうすることによって、画素電極６２と一側に在るソース配線５４aとの間の静電容量および画素電極６２と他側に在るソース配線５４bとの間の静電容量の差は、フォトリソグラフィ工程において各ブロック間に多少のアライメントずれが生じても殆ど変化しない。 - 特許庁

Since one or a plurality of vacancies 3 are formed in the toner particle 1 by the alignment of the crosslinked fine particles 4, the volume of the toner melting in the fixing process is smaller than the volume of a melting toner having no vacancy 3, and the wax 2 smoothly bleeds out to the toner surface.例文帳に追加

架橋微粒子４が配向することによってトナー粒子１に空洞３が１個または複数個形成されるので、定着時において溶融したトナーの体積は、空洞３を有しないトナーが溶融したときの体積より少なく、ワックス２が円滑にトナー表面に染出す。 - 特許庁

To provide a paper sheet post-processing device capable of preventing an edge of a paper sheet from being caught by a tamping mechanism or a cutout of an alignment tray when aligning the paper sheet for saddle stitching or folding, and capable of suitably aligning the paper sheet and carrying out saddle stitching process.例文帳に追加

用紙を中綴じや中折りのために整列させる際に、用紙のエッジ部がタンピング機構や整列トレイの切り欠き部等に引っ掛かるのを防止することができ、用紙を適正に整列させて中綴じ処理等を実行することが可能な用紙後処理装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To facilitate the exact arrangement of a recrystallization region (21) formed on an amorphous or polycrystalline semiconductor thin film (12), and to form an alignment mark (15) capable of being utilized in a process for manufacturing an electronic element, e.g. a thin film transistor (98), in the recrystallization region.例文帳に追加

非晶質または多結晶半導体薄膜（１２）に形成される再結晶領域（２１）の正確な配置を容易にし、さらにこの再結晶領域に形成される薄膜トランジスタ（９８）等の電子素子の形成工程に利用可能なアライメントマーク（１５）を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film transistor for realizing a heating process for improving the characteristics of a gate insulating film, such as reduction in the boundary surface level and reduction in the fixed charges, while preventing a problem of the alignment deviation in patterning due to expansion and contraction of glass.例文帳に追加

本発明は、ガラスの膨張、収縮がパターニングのアライメントずれの問題を引き起こさずに、界面準位低減、固定電荷低減といったゲート絶縁膜の特性向上を目的とした加熱処理を可能とする薄膜トランジスタの作製方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

In a process for manufacturing a faultless ferroelectric liquid crystal display(FLCD), a substrate 1a side provided with a semiconductor element for driving TFT or the like aligns liquid crystal molecules by optical alignment and a substrate 1b side opposed thereto aligns the liquid crystal by rubbing treatment.例文帳に追加

無欠陥強誘電性液晶（ＦＬＣＤ）ディスプレイを作製する工程において、ＴＦＴなどの駆動用半導体素を備えた基板１ａ側は光配向により液晶分子を配向し、それに対向する基板１ｂ側はラビング処理により液晶を配向する。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device outputting internal data to the outside constantly at a predetermined time point even when PVT (Process, Voltage and Temperature) is changed, by eliminating a delay element affected by the change of the PVT in a clock alignment training operation.例文帳に追加

クロック整合トレーニング動作において、ＰＶＴ（Ｐｒｏｃｅｓｓ、Ｖｏｌｔａｇｅ、Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）の変動に影響される遅延要素を除去することにより、ＰＶＴが変動した場合でも、常に所定の時点で内部データを外部に出力する半導体メモリ素子を提供すること。 - 特許庁