「alignment process」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern-formed from which color filter is efficiently manufactured through a a simple process and which does not cause cracking and does not affect alignment of liquid crystal, and to provide a color filter obtained by using the pattern-formed body.例文帳に追加

本発明は、カラーフィルタを簡易な工程で、効率よく製造でき、かつクラックや液晶の配向に影響等のない、パターン形成体や、カラーフィルタを提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide a simple manufacturing process capable of suppressing coloring of a transmission part due to an alignment layer for a retardation film in a transflective type liquid crystal display device with built-in the retardation film in a reflection display part.例文帳に追加

反射表示部に位相差板を内蔵した半透過型液晶表示装置において、位相差板用の配向膜による透過部の着色を抑制でき、かつ簡易な製造プロセスを提供する。 - 特許庁

During the process, wiring parts 51, 71, a substrate mount terminal 28 and an alignment mark 55 formed in a protruding region 25 are covered with a protective layer 90, while the surface of a driving IC 13 is exposed.例文帳に追加

その際、張り出し領域２５に形成されている配線部分５１、７１、基板実装端子２８、アライメントマーク５５を保護層９０で覆うが、駆動用ＩＣ１３の表面は露出させておく。 - 特許庁

The method for producing an optically anisotropic layer which comprises a liquid crystal compound having the hybrid alignment includes the processes of: horizontally aligning the liquid crystal compound in the presence of a polymer containing a fluoro aliphatic group; subjecting the liquid crystal compound to hybrid alignment processing after the first process; and fixing the liquid crystal compound in the hybrid alignment.例文帳に追加

フルオロ脂肪族基含有ポリマーの存在下で液晶性化合物を水平配向させる工程、および該工程後、液晶性化合物をハイブリッド配向させる工程、さらにはハイブリッド配向状態にある上記液晶性化合物を固定する工程を含むハイブリッド配向した液晶性化合物からなる光学異方性層の製造方法、並びにこの光学異方性層を有する光学補償シート。 - 特許庁

This device for an alignment process of the alignment film formed on the substrate includes a particle source which irradiates particle rays, a particle source control part which controls the particle source so that the particle source irradiates the particle rays intermittently, and a drive mechanism which moves the substrate.例文帳に追加

基板上に形成された配向膜の配向処理を行なう装置であって、粒子線を照射する粒子源と、前記粒子源が前記粒子線を間欠的に照射するように、前記粒子源を制御する粒子源制御部と、前記基板を移動させる駆動機構と、を備えているようにした。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device of a vertical alignment mode that can secure a specified contrast ratio by suppressing a light leak in a normally black mode and prevents stainlike unevenness without making the process of manufacturing an alignment film complicated to improve the display quality.例文帳に追加

垂直配向モードの液晶表示装置において、ノーマリーブラックモードにおける光漏れを抑えて所定のコントラスト比を確保できるとともに、配向膜の製造工程を煩雑にすることなく、シミ状ムラを防止して表示品位の向上が図れる液晶表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the rubbing process, since an electrode forming an in-plane electric field has the circular structure, the directivity of a liquid crystal is excluded regardless of an alignment direction, the alignment direction in the range of all directions can be freely designed, and the size of a rubbing roll is reduced to reduce manufacturing costs of a rubbing apparatus by performing rubbing in the longitudinal direction of a substrate.例文帳に追加

横電界を形成する電極が、円形構造であることに応じて、配向方向とは無関係に、液晶の方向性を排除し、全方向の範囲で配向方向が自由に設計できて、基板の長軸方向へとラビングを行い、ラビングロールのサイズを縮めて、ラビング装備の製造費用を節減させる。 - 特許庁

The substrate processing device comprises a heater 4 for heating a substrate inside a processing chamber 20; the heater is supported via a horizontal alignment unit 39 provided outside the processing chamber via a support member 5; and the position of the heater is adjusted relative to the process chamber by the horizontal alignment unit.例文帳に追加

処理室２０の内部に基板加熱用のヒータ４を有する基板処理装置に於いて、前記ヒータが支持部材５を介して前記処理室外部に設けられた水平位置調整ユニット３９を介して支持され、該水平位置調整ユニットにより前記処理室に対するヒータの位置調整を可能とした。 - 特許庁

In a manufacturing process of the liquid crystal panel 5, thin films composed of an alignment material are formed on the substrates 15, 16 on which electrodes are formed beforehand for the purpose of manufacture of the alignment layers 19, 20, and the thin layers are subjected to a prescribed orientation processing.例文帳に追加

液晶パネル５の製造工程中、配向膜１９，２０の製造のために、電極形成後の基板１５，１６上に配向材料からなる薄膜が形成され、該薄膜に対して予め定める配向処理が施され、該薄膜内の配向処理に基づくむらが生じている部分に、紫外線が照射される。 - 特許庁

Since a color filter can be superposed and arranged also on a plurality of photo sensors provided between adjacent pixel electrodes, and the superposition of the color filter on the photo sensor can be performed in the same process and by use of the same alignment as a color filter to be superposed on the pixel electrode, merits in the manufacturing process can be obtained.例文帳に追加

また、隣り合う画素電極の間に設けられた複数のフォトセンサにもカラーフィルタを重ねて配置することができ、フォトセンサと重ねるカラーフィルタを画素電極と重ねるカラーフィルタと同じ工程、且つ、同じアライメントを用いて重ねることができるため、製造プロセス上のメリットが得られる。 - 特許庁

A manufacturing method of the SAW device comprises a pattern formation process for forming a conductor pattern including an interdigital electrode on a piezoelectric wafer in which the SAW device should be formed, and providing the alignment mark on the piezoelectric wafer; and a cutting process for cutting the piezoelectric wafer to divide the piezoelectric wafer.例文帳に追加

ＳＡＷ装置を形成すべき圧電ウェハ上に櫛形電極を含む導体パターンを形成すると共に、圧電ウェハ上にアライメントマークを設けるパターン形成工程と、圧電ウェハを切断して圧電ウェハを分割する切断工程とを含むＳＡＷ装置の製造方法である。 - 特許庁

To provide a composition for treating a photoresist pattern to be used in a double patterning process in photolithographic patterning techniques such as lithography-lithography-etching and self-alignment spacer double patterning, and for a reduction process useful to form a contact hole and a groove.例文帳に追加

フォトリソグラフィパターニング技術、例えば、リソ−リソ−エッチおよび自己整合スペーサーダブルパターニングのようなダブルパターニングプロセスなどに、並びに、コンタクトホールおよび溝形成において有用な縮小プロセスに使用されうるフォトレジストパターンを処理するための組成物およびこの組成物を使用する方法を提供する。 - 特許庁

To simplify a manufacturing process by reducing an element area by allowing an electrode of a pad to be formed on a so-called back side (light incident side), and allowing structures of an alignment mark and a contact part to be manufactured in the same process by forming the structures with the same material.例文帳に追加

本発明は、パッドの電極をいわゆる裏面側（光入射側）に形成することを可能にして素子面積を縮小し、アライメントマークとコンタクト部の構成を同一材料とすることで、同一工程で製造することを可能にして、製造工程を簡略化することを可能にする。 - 特許庁

The process comprises, as main components, 1) a process for manufacturing a removable side wall for manufacturing the ultra-short channel and the side wall control gate with or without a step structure, and 2) the formation of the control gate, by self-alignment, on a storage nitride film and the impurity film.例文帳に追加

本プロセスで用いられる主要素は、１）ステップ構造を有するか、または無しで、超短チャネルおよびサイドウォール制御ゲートを製造するための、除去可能なサイドウォールの製造プロセス、および２）蓄積窒化膜および不純物膜上の制御ゲートの自己整合による形成である。 - 特許庁

The method of evaluating gray hair to an inspection object has: a specific process for specifying the measured part of the inspection object; and an alignment process for obtaining a group of arrayed hair by aligning a group of hair existing a specified part to be measured through a hair fixing member.例文帳に追加

検査対象に対する白髪の評価方法であって：前記検査対象の測定部位を特定する特定工程；及び毛髪固定部材を介して、前記の特定された測定部位に存在する毛髪群を整列して配列毛髪群を得る整列工程；を有することを特徴としている。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer transfer apparatus where a semiconductor wafer can be sucked and fixed on a suction table side in a flat state when conveying the wafer among each process such as an alignment for positioning the wafer, a UV irradiation, a protective tape peel-off or the like, in a process for manufacturing the wafer.例文帳に追加

ウェハの製造工程において、ウェハ位置決めを行うアライメント、ＵＶ照射、保護テープ剥離などの各工程の間をウェハを搬送する際に、半導体ウェハを吸着テーブル側に平坦な状態で吸着固定することのできる半導体ウェハの移載装置を提供する。 - 特許庁

One side of a semiconductor wafer is polished to comparatively higher degree that is suitable for making a fine pattern by a lithography process, and the other side thereof is polished to comparatively low degree, that is appropriate to provide alignment marks WM3 and WM4 effective for arranging wafers in the lithography process.例文帳に追加

一方の側を、リソグラフィ・プロセスによって微細パターンを作り出すために適した比較的高い程度にまで研磨し、他方の側を、比較的低い程度であるが、それでもリソグラフィ・プロセス中にウェハを整列させるために有効なアラインメント・マークを備えるのに適している程度にまで研磨する。 - 特許庁

The manufacturing method for the SONOS EEPROM is adapted such that the electric charge trapping layer located at the both ends of the gate without erroneous alignment, the gate is manufactured without the use of a gate forming mask, whereby a cell having a structure excellent in uniformity can be manufactured, a photographic process is not used, and hence a limit due to the manufacturing process can be conqered.例文帳に追加

また、ゲート両端の電荷トラッピング層を誤整列なしに形成し、ゲート形成マスクなしにゲートを製造することであって、均一性に優れる構造のセルが製造でき、写真工程を使用せず、それによる限界を克服しうるＳＯＮＯＳＥＥＰＲＯＭの製造方法である。 - 特許庁

To provide a method and a system for managing semiconductor device manufacturing process by which the deviation in alignment which occurs when each layer is laminated can be suppressed effectively in a semiconductor device manufacturing process by reducing the measurement error in superimpose.例文帳に追加

重ね合わせ量の測定誤差を低減し、半導体装置製造工程において各層を積層する際の位置合わせずれを有効に抑制することを可能とする半導体装置製造工程管理方法および半導体装置製造工程管理システムを提供すること。 - 特許庁

Kinetic energy is provided to the electronic parts 21 placed on the substrate 11 through the vibration of the substrate 11, whereby there is provided as a self-alignment process the whole process in which the electronic parts 21 are moved to the position of the recess 13 and fallen therein, and disposed at a desired position.例文帳に追加

基板１１の振動を介して基板１１上に載置された電子部品２１に運動のエネルギーを付与することで、電子部品２１を凹部１３の位置まで移動させて落とし込み、所望の位置に配置する工程すべてを自己整列プロセスとすることができる。 - 特許庁

Using the protection layer as an etching stopper, the process includes, in producing a peripheral driving circuit structure, arranging TFTs having an LDD structure through self-alignment process using sidewalls 126, while, in producing a pixel matrix, arranging TFTs having an LDD structure through non-self-alignment process using insulators 125.例文帳に追加

耐熱性の高いＴａ膜またはＴａを主成分とする膜を配線材料に用い、さらに保護層で覆うことで、高温（４００〜７００℃）での加熱処理を施すことが可能となり、且つ保護層をエッチングストッパーとして用いることで周辺駆動回路部においては、サイドウォール１２６を用いた自己整合プロセス（セルフアライン）によるＬＤＤ構造を備えたＴＦＴを配置する一方、画素マトリクス部においては、絶縁物１２５を用いた非自己整合プロセス（ノンセルフアライン）によるＬＤＤ構造を備えたＴＦＴを配置する - 特許庁

The method for manufacturing a color filter includes the steps of: forming barrier walls on a substrate; forming a plurality of colored pixel patterns having predetermined retardations among the barrier walls by a photolithographic method; forming alignment films subjected to an alignment process on the colored pixel patterns; and forming liquid crystal retardation layers on the alignment films by a printing method corresponding to the respective retardations of the colored pixel patterns.例文帳に追加

基板上に隔壁を形成する工程、前記隔壁間に、所定のリタデーションを有する複数の着色画素パターンを、フォトリソグラフィー法により形成する工程、前記着色画素パターン上に、配向処理された配向膜を形成する工程、及び前記複数の着色画素パターンのそれぞれのリタデーションに対応して、前記配向膜上に印刷法により、液晶位相差層を形成する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a color filter includes the steps of: forming barrier walls on a substrate; forming a plurality of colored pixel patterns having predetermined retardations among the barrier walls by a printing method; forming alignment films subjected to an alignment process on the colored pixel patterns; and forming liquid crystal retardation layers on the alignment films by a photolithographic method corresponding to the respective retardations of the colored pixel patterns.例文帳に追加

基板上に隔壁を形成する工程、前記隔壁間に、所定のリタデーションを有する複数の着色画素パターンを、印刷法により形成する工程、前記着色画素パターン上に、配向処理された配向膜を形成する工程、及び前記複数の着色画素パターンのそれぞれのリタデーションに対応して、前記配向膜上にフォトリソグラフィー法により、液晶位相差層を形成する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a color filter includes the steps of: forming barrier walls on a substrate; forming a plurality of colored pixel patterns having predetermined retardations among the barrier walls by a photolithographic method; forming alignment films subjected to an alignment process on the colored pixel patterns; and forming liquid crystal retardation layers on the alignment films by a photolithographic method corresponding to the respective retardations of the colored pixel patterns.例文帳に追加

基板上に隔壁を形成する工程、前記隔壁間に、所定のリタデーションを有する複数の着色画素パターンを、フォトリソグラフィー法により形成する工程、前記着色画素パターン上に配向処理された配向膜を形成する工程、及び前記複数の着色画素パターンのそれぞれのリタデーションに対応して、前記配向膜上にフォトリソグラフィー法により、液晶位相差層を形成する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a color filter includes the steps of: forming barrier walls on a substrate; forming a plurality of color pixel patterns having predetermined retardations among the barrier walls by an ink-jet method; forming alignment films subjected to an alignment process on the color pixel patterns; and forming liquid crystal retardation layers on the alignment films by a printing method corresponding to the respective retardations of the color pixel patterns.例文帳に追加

基板上に隔壁を形成する工程、前記隔壁間に、所定のリタデーションを有する複数の着色画素パターンを、インクジェット法により形成する工程、前記着色画素パターン上に、配向処理された配向膜を形成する工程、及び前記複数の着色画素パターンのそれぞれのリタデーションに対応して、前記配向膜上に印刷法により、液晶位相差層を形成する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a color filter includes the steps of: forming barrier walls on a substrate; forming a plurality of colored pixel patterns having predetermined retardations among the barrier walls by a photolithographic method; forming alignment films subjected to an alignment process on the colored pixel patterns; and forming liquid crystal retardation layers on the alignment films by an ink-jet method corresponding to the respective retardations of the colored pixel patterns.例文帳に追加

基板上に隔壁を形成する工程、前記隔壁間に、所定のリタデーションを有する複数の着色画素パターンを、フォトリソグラフィー法により形成する工程、前記着色画素パターン上に、配向処理された配向膜を形成する工程、及び前記複数の着色画素パターンのそれぞれのリタデーションに対応して、前記配向膜上にインクジェット法により、液晶位相差層を形成する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a color filter includes the steps of: forming barrier walls on a substrate; forming a plurality of colored pixel patterns having predetermined retardations among the barrier walls by an ink-jet method; forming alignment films subjected to an alignment process on the colored pixel patterns; and forming liquid crystal retardation layers on the alignment films by a photolithographic method corresponding to the respective retardations of the colored pixel patterns.例文帳に追加

基板上に隔壁を形成する工程、前記隔壁間に、所定のリタデーションを有する複数の着色画素パターンを、インクジェット法により形成する工程、前記着色画素パターン上に配向処理された配向膜を形成する工程、及び前記複数の着色画素パターンのそれぞれのリタデーションに対応して、前記配向膜上にフォトリソグラフィー法により、液晶位相差層を形成する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a color filter includes the steps of: forming barrier walls on a substrate; forming a plurality of color pixel patterns having predetermined retardations among the barrier walls by a printing method; forming alignment films subjected to an alignment process on the colored pixel patterns; and forming liquid crystal retardation layers on the alignment layers by a printing method corresponding to the respective retardations of the colored pixel patterns.例文帳に追加

基板上に隔壁を形成する工程、前記隔壁間に、所定のリタデーションを有する複数の着色画素パターンを、印刷法により形成する工程、前記着色画素パターン上に配向処理された配向膜を形成する工程、及び前記複数の着色画素パターンのそれぞれのリタデーションに対応して、前記配向膜上に印刷法により、液晶位相差層を形成する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a lithography system, a device for collecting information about an aligner, a device for setting measuring instrument, an aligner and a method of manufacturing a semiconductor device, with which lithographic process including alignment can be maintained stably.例文帳に追加

露光処理を含むリソグラフィ工程を安定に維持することができるリソグラフィシステム、露光装置の情報収集装置、計測器の設定装置、露光装置、及び半導体デバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

The optical module comprises the optical element having a metal mark formed for the alignment, and an Si substrate 5 having an etching mark 7 formed of the same process as that for the same mask as that of a V-groove 6 for mounting an optical fiber.例文帳に追加

光モジュールにおいて、アライメント用のメタルマークが形成された光素子と、光ファイバ搭載用Ｖ溝６と同じマスクを用いた同一プロセスで形成されるエッチングマーク７が設けられたＳｉ基板５とを備える。 - 特許庁

Then, a pattern forming process is carried out for the transparent conductive layer, a source and a drain are formed, an active layer is formed in such a manner that the source, the drain, and the dielectric layer are covered, and a self-alignment TFT structure is completed.例文帳に追加

次に、該透明導電層にパターン形成プロセスを実行して、ソースとドレインとを形成し、ソース、ドレイン、及び誘電体層を覆うようアクティブ層を形成して、自己整合ＴＦＴ構造体が完成する。 - 特許庁

Since the polarization filter 16 is formed by patterning the polarization material deposited on the protective film 13, the alignment accuracy is improved because a unification can be conducted without a conventional junction process.例文帳に追加

また、偏光フィルタ１６が保護膜１３の上に堆積された偏光材料をパターニングして形成されることから従来のような接合プロセスを行わずに一体化できることによりアライメント精度が向上する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus that assures more satisfactory image formation by further improving the stability of alignment and power supply in a developer image formation area, and to provide a process cartridge and a developing cartridge.例文帳に追加

現像剤像形成領域における、アラインメント及び給電の安定性をより向上することで、より良好な画像形成を行えるようにした、画像形成装置、プロセスカートリッジ、及び現像カートリッジを提供する。 - 特許庁

Since the gate insulating film and the semiconductor film are simultaneously machined into an element shape after the heating process, the expansion and contraction of a glass substrate does not exert influence on the alignment deviation in patterning.例文帳に追加

加熱処理後にゲート絶縁膜と半導体膜を同時に素子形状に加工するため、加熱時のガラス基板の膨張、収縮がパターニングのアライメントずれに影響を及ぼさないことを特徴としている。 - 特許庁

To realize a liquid crystal display element having no display defect by eliminating nonconformities in rubbing process which is liquid crystal molecular alignment processing, when the liquid crystal display element is manufactured in an overcoatless color filter having a resin black matrix.例文帳に追加

樹脂ブラックマトリクスを有するオーバーコートレスのカラーフィルタで、液晶表示素子作製時の液晶分子配向処理であるラビング工程での不具合をなくし、表示欠陥のない液晶表示素子の実現を目的とする。 - 特許庁

To provide an ultrasonic diagnostic apparatus, observing a previously acquired reference image and a real-time image in the process of treatment at the same time, and displaying the reference image in alignment with the real-time image.例文帳に追加

予め取得しておいた参照画像と治療中のリアルタイム画像とを同時に観察でき、しかもその参照画像の表示を位置合わせして表示することが可能な超音波診断装置を提供すること。 - 特許庁

To make feasible of applying the self alignment process to a gate insulating film having no damage thereto in the case of manufacturing a transistor having the gate insulating film of a high dielectric or ferroelectric in relation to the manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造方法に関し、高誘電体或いは強誘電体のゲート絶縁膜をもつトランジスタを製造する際、ゲート絶縁膜にダメージも与えずにセルフ・アライメント方法を適用できるようにする。 - 特許庁

To provide a process for printing a high-quality decorative image having high alignment precision and a light appearance on a long strip of a flexible film for a strap with gauze at a low cost.例文帳に追加

ガーゼ付絆創膏の可撓性フィルムの長尺ストリップに、高印刷品質、画像の高い位置合わせ精度、明るい外観および低コスト等の特徴を有する装飾的な刷り込みを得ることのできるプロセスを提供する。 - 特許庁

To provide a detector for the misalignment of electrode centers in a welding gun where the troublesomeness on the alignment in the axial centers of tip electrodes is solved, and the misalignment in the centers of the tip electrodes can be easily detected even in any welding process.例文帳に追加

チップ電極の軸心合わせの煩わしさを解消し、いかなる溶接工程であってもチップ電極の芯ズレを容易に検出することのできる溶接ガンの電極芯ズレ検出装置を提供する。 - 特許庁

A bump electrode is grown with the plating process on the electrode pads 5a, 15a, respectively, formed by the semiconductor chip 11 and the circuit substrate 1 having completed the alignment in order to connect the electrode pads 5a, 15a.例文帳に追加

位置合わせを行った半導体チップ１１と回路基板１とにそれぞれ形成された電極パッド５ａ，１５ａ上にメッキ処理によって突起電極を成長させ、電極パッド５ａ，１５ａ間を接続する。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing an illuminative decorative sheet and illuminative decorative molded goods which allow the exact alignment of light shielding pattern parts and translucent pattern parts and have light shieldability and translucency which are sure even after premolding.例文帳に追加

遮光パターン部と透光パターン部とが正確に位置合わせでき、予備成形後も確実な遮光性および透光性を有する照光性加飾シートと照光性加飾成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polarizing plate or a roll type polarizing plate and a method for producing the polarizing plate that can be produced with sufficiently good productivity, upon manufacturing a liquid crystal panel having high light-transmitting property by a roll-to-panel production process, and to provide a vertically alignment type liquid crystal display device including the polarizing plate.例文帳に追加

ロールｔｏパネル製法で高い光透過性の液晶パネルを製造する際に、十分な良生産性で生産可能な偏光板ないしロール状偏光板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a high breakdown voltage MOS transistor having a low concentration diffusion layer which overlaps a region near the end of a gate electrode in a self-alignment process manner and works as a field alleviating layer, and to provide a method of manufacturing it.例文帳に追加

ゲート電極の端部近傍領域に自己整合的にオーバーラップし、電界緩和層として働く、低濃度拡散層を有する高耐圧ＭＯＳトランジスタ及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Since a process for masking and etching a part contacting a source electrode 18 is omitted to form the inter-layer insulating film 17 at a required part in self- alignment manner, higher integration is provided and greatly contributes to lowering the on-resistance.例文帳に追加

ソース電極１８にコンタクトする部分をマスクおよびエッチングする工程が省け、セルフアラインで層間絶縁膜１７を必要な部分に形成できるため、高集積化が図れ、低オン抵抗化にも大きく寄与できる。 - 特許庁

After TFT unit cells and color filter unit cells are formed on a substrate through a thin-film manufacturing process, an alignment film is formed in a non-contact state by using a DLC thin film and an atom beam.例文帳に追加

薄膜製造工程を通じて基板にTFTユニットセル及びカラーフィルタユニットセルを形成した後、ＴＦＴユニットセル及びカラーフィルタユニットセルにＤＬＣ薄膜及び原子ビームを用いて非接触で配向膜を形成する。 - 特許庁