「alignment process」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a liquid crystal compound containing no functional group difficult to synthesize, such as an epoxy group or the like, and also to provide a cholesteric aligned liquid crystalline film using the compound which does not require a complicated process, such as photoirradiation in an inert gas atmosphere or the like, and has excellent alignment retaining property and mechanical strength after liquid crystal alignment is fixed.例文帳に追加

エポキシ基のような合成が困難な官能基を含まない重合性の液晶化合物を提供し、該化合物を用いることにより、不活性ガス雰囲気下での光照射のような煩雑な工程を必要とせず、液晶配向固定化後の配向保持能および機械的強度に優れたコレステリック配向液晶フィルムを提供する。 - 特許庁

On the other hand, a packet number counting device 25 is provided to count the number of generated TS packets and report the value to the padding data adding device 24 to exert alignment with 32 TS packets upon PES packet whereby a process for producing a padding packet to be inserted into the end of a stream to exert alignment with 32 TS packets upon TS packetization of the final frame can be reduced.例文帳に追加

また、パケット数カウント装置２５を設け、生成されたTSパケット数をカウントしておくことで、その値をパディングデータ付加装置２４に通知し、PESパケットの時点で３２のTSパケットとのアライメントを取るようにすることで、最終フレームのTSパケット化時に、３２のTSパケットとのアライメントのための、ストリームの終端に挿入するパディングパケットを生成する処理を削減できる。 - 特許庁

In the method for manufacturing the liquid crystal device holding a liquid crystal between a pair of substrates 10 and 20 arranged oppositely, a great number of grooves 10 are formed in the surface of a metal film M1 after forming the metal film M1 on the surface of the substrate in an inorganic alignment layer forming process for forming an inorganic alignment layer on the surfaces of the substrates 10 and 20.例文帳に追加

対向配置された一対の基板１０、２０の間に液晶を保持した液晶装置の製造方法において、基板１０、２０の表面に無機配向膜を形成する無機配向膜形成工程では、基板表面に金属膜Ｍ１を形成した後、金属膜Ｍ１の表面に多数条の溝Ｍ１０を形成する。 - 特許庁

In the wheel alignment method, the center line of the width direction of the car body mounted with the measured wheel is set in a car body center setting process, and the distance between the center plane for dividing the car body which passing the center line into two and a predetermined position of the wheel is measured directly or indirectly in a measuring process.例文帳に追加

ホイールアライメント方法として、車体中心設定工程によって測定するホイールが取り付けられた車体の幅方向の中心線を設定し、また、測定工程によって、前記中心線を通る車体を２分する中心平面と、前記ホイールの所定位置との距離を直接的もしくは間接的に測定する。 - 特許庁

The polarization and alignment in the film are automatically performed since a charge distribution is generated in the silica thin film 22 which is being formed by polarity particle irradiation and then the polarizing and aligning process is completed almost at the same time with the end of the film formation of the silica thin film 22 without performing any subsequent polarizing and aligning process such as voltage application.例文帳に追加

極性粒子照射により形成中のシリカ薄膜２２中に電荷分布が生じて膜中の分極配向が自動的に行われ、電圧印加などの後発的な分極配向処理をせずに、シリカ薄膜２２の成膜終了とほぼ同時に分極配向処理が終了する。 - 特許庁

The manufacturing method of a wiring board 1 has a process that measures the position of an alignment mark 65 of a frame 61 in an interlock substrate 63 consisting of a product assembly part 59 and the frame 61, and calculates hole-machining data; and a hole formation process that forms a hole 23 at the product assembly part 59 based on the hole-machining data.例文帳に追加

配線基板１の製造方法は、製品集合部５９と枠部６１とからなる連結基板６３のうち、枠部６１の位置合わせマーク６５の位置を計測し、孔加工データを算出する工程、及び、孔加工データに基づき、製品集合部５９に孔２３を形成する孔形成工程を備える。 - 特許庁

This method comprises a process to drop a pin 1 in horizontal attitude into a recessed part 24 of an upper face 23A of an alignment pallet 23 and a process to draw in a lower end 1a of the pin 1 into a vertical hole 25 formed at an end of bottom face of the recessed part 24 and raise the pin 1 inside the hole 25 by sucking air inside the hole 25.例文帳に追加

整列パレット２３の上面２３Ａの凹部２４にピン１を横姿勢で落とし込む工程と、凹部２４の底面の片端に設けた立孔２５内をエア吸引することで、立孔２５内にピン１の下端１ａを引き込んでピン１を立孔２５内で起立させる工程とを有する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern for a process causing an alignment market to be formed in a first pattern, without carrying out a developing process and then aligning the relative position between the first pattern and second pattern.例文帳に追加

複数のフォト工程で現像工程を経ず、材料形成工程と露光工程のみを繰り返し、最後に一括して現像工程を行う場合、前記第１パターンの現像工程がなくなるため、第１パターンと同時に作成していたアライメントマーカーを第２パターンの露光時に参照することができず、複数のパターン間にずれが生じる。 - 特許庁

Since heat treatment at a temperature of glass transition point or above of a substrate is performed after forming resist in a process following a process for forming a circuit pattern, solder resist can be formed under a state of good dimensional stability of the substrate and thereby the circuit pattern and solder resist can be formed with extremely excellent alignment accuracy.例文帳に追加

回路パターン形成工程の以降の工程に行う基材のガラス転移温度以上の温度による加熱処理を、ソルダレジスト形成の後に行うことにより、基材の寸法安定性の良い状態でソルダレジスト形成を行うので、回路パターンとソルダレジストを極めて優れた合致精度により形成することが可能となる。 - 特許庁

An N+type layer 7a having a smaller width than the variation width of a mask alignment accuracy in a photolithography process, is formed on the bottom surface of the first contact hole 9 and the first and second holes 9, 10 are filled with a tungsten layer 12 and so on.例文帳に追加

第１のコンタクトホール９の底面にフォトリソグラフィ工程のマスク合わせ精度のばらつき幅より小さい幅のＮ＋型層７ａを形成し、第１、第２のコンタクトホール９、１０内をタングステン層１２等で埋設する。 - 特許庁

To reduce adverse effects due to flow alignment caused by liquid injection for a liquid crystal injection method and device, which is used in one process of a production method for a liquid crystal device in which a liquid crystal is enclosed between a couple of substrates.例文帳に追加

一対の基板間に液晶が封入されてなる液晶装置の製造方法の一工程で用いられる液晶注入方法及び装置において、液晶注入に起因した流動配向による悪影響を低減する。 - 特許庁

To obtain a liquid crystal aligning agent which allows low temperature baking, has good orientability of liquid crystals and can form, by a printing process, a liquid crystal alignment layer having short afterimage-erasing time when voltage is applied on liquid crystal cells.例文帳に追加

低温焼成が可能であり、液晶の配向性が良好で、液晶セルの印加時の残像消去時間の短い液晶配向膜を、印刷法による塗膜として形成しうる液晶配向剤を提供すること。 - 特許庁

To provide a distribution alignment device for an egg capable of releasing lock in a short time without depending on help even if locking occurs in the process that the eggs fed in the random orientation state are distributed/aligned in a predetermined row.例文帳に追加

ランダムな配向状態で供給される卵を所定列に分配整列する過程でロックが発生しても、人手に頼ることなく短時間でロックを解除することが可能な卵の分配整列装置を提供する。 - 特許庁

To provide a transparent organic electroluminescent element (EL) which allows an auxiliary electrode to be reliably formed on a second electrode layer in a simple process, and can reduce the resistance of the second electrode layer without causing short circuit even if component alignment is shifted.例文帳に追加

簡便な工程で第２電極層上に確実に補助電極を形成することができ、アライメントがずれても短絡を起こすことなく第２電極層の抵抗を低減することが可能な透明有機ＥＬ素子を提供する。 - 特許庁

To obtain a polyamic acid-type photo-alignment layer even in a heating process below 150°C, and to obtain, using the above, an optically anisotropic substance in which various polymerizable liquid crystal compositions are uniformly oriented.例文帳に追加

本発明は、１５０℃未満の加熱工程でもポリアミック酸タイプの光配向膜を得ることができ、これを用いることによって様々な重合性液晶組成物を均一に配向させた光学異方体を得ることを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of forming a self-alignment floating gate in a flash memory cell by which the occurrence of mote is prevented and the spacing of a floating gate formed by a following process can be minimized.例文帳に追加

トレンチ絶縁膜にモウトが発生することを防止し且つ後続の工程によって形成されるフローティングゲートのスペーシングを最小化することが可能なフラッシュメモリセルの自己整列フローティングゲート形成方法を提供すること。 - 特許庁

The alignment mark 40 is opened on a inter-layer insulation film in a single etching process of opening the via hole for forming a metal contact for connecting lower layer wiring to upper layer wiring.例文帳に追加

本アライメントマーク４０は、下層配線に上層配線を接続するメタルコンタクトを形成するビアホールを層間絶縁膜に開口する際に、ビアホールを開口する同じエッチング工程で層間絶縁膜に開口するアライメントマークである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method capable of reducing membrane stress by a nitride film and protecting a semiconductor substrate from damage by preventing an etching stop film from disappearing, when forming source/drain contact holes by a self-alignment process.例文帳に追加

ソース/ドレインコンタクトホールを自己整列工程で形成する際に、窒化膜による膜ストレスを減らすことができ、エッチング停止膜の消失を防ぐことにより半導体基板を損傷から保護することができる製造方法を提供する。 - 特許庁

First and second low concentration diffusion layers 104-2 and 104-3 which are worked as the field alleviating layer and the gate electrode 111 are formed so that a first insulating pattern 102 is used in a self-alignment process manner as a common mask.例文帳に追加

電界緩和層として働く第１及び第２の低濃度拡散層１０４−２、１０４−３と、ゲート電極１１１とは、共に、第１の絶縁膜パターン１０２を共通のマスクとして自己整合的に形成される。 - 特許庁

In the next place, the alignment plate 6 is turned in a state where article is sucked to each air vent 5; then each article is transported in the neighborhood of a discharge port to subsequently be in contact with a baffle plate and delivered to the discharge port, and they are fed to the next process.例文帳に追加

次いで、各通気口５にそれぞれ物品を吸着した状態でその整列板６を回転し、各物品を排出口付近へ搬送して邪魔板に当接させて排出口へ払出して、次工程へ供給する。 - 特許庁

In the formation process of the conductor layers 19, 22, 33, alignment marks 41, 42 are formed, which comprise a first light reflection section 43 and a second light reflection section 45 for surrounding the first light reflection section 43 while being separated by a removing pattern 44.例文帳に追加

導体層１９，２２，３３の形成工程では、第１光反射部４３と抜きパターン４４を隔ててその第１光反射部４３を包囲する第２光反射部４５とからなる位置合わせマーク４１，４２を形成する。 - 特許庁

To solve the problem that the position of an alignment mark 10 is shifted since a core substrate 1 is expanded or contracted and the position of a via-hole 13 formed so as to correspond to the mark is shifted relative to an outer layer land 25 formed on the substrate in a succeeding process.例文帳に追加

コア基板１が伸縮するためアライメントマーク１０の位置がずれ、それに合わせて形成したビアホール穴１３の位置が、後の工程で基板に形成する外層ランド２５に対してずれる問題を解決する。 - 特許庁

To shorten the tact time of a manufacturing process by reducing the delay of injection time due to protrusions in a transflective liquid crystal display wherein the alignment control of a liquid crystal is performed by the protrusions disposed in a panel.例文帳に追加

パネル内に配置された突起によって液晶の配向制御を行なう半透過反射型液晶表示装置において、該突起による注入時間の遅れを小さくして製造プロセスのタクトタイムを短くできるようにする。 - 特許庁

To provide a substrate for liquid crystal alignment which allows quick spray-bend transition of liquid crystal in an OCB (Optically Compensated Bend) cell which doesn't have a chiral agent added, with a normal driving voltage and is easily manufactured in a normal process, and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

ＯＣＢセル内のカイラル剤無添加の液晶を通常の駆動電圧で高速にスプレイ‐ベンド転移させることができ、かつ、通常のプロセスでの製造が容易である液晶配向用基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technology which improves the method of manufacturing a multilayer printed wiring board by the conformal mask method using copper foils with resin and enables alignment of inner layer patterns with a film for laser masks at a high accuracy and simplification of the manufacturing process.例文帳に追加

樹脂付き銅箔を用いたコンフォーマルマスク法による多層プリント配線板の製造方法を改善し、内層パターンとレーザマスク用フィルムとの位置合わせが高精度で行え、製造工程も簡略化できる技術を提供する。 - 特許庁

In an alignment calibration process of a lithographic apparatus that uses a sensor to detect the properties of a projected image at a substrate level, a diffuser is inserted into an illumination beam to increase the range of angles at which the radiated beam is incident on the substrate.例文帳に追加

基板レベルの投影像の特性をセンサによって検出するリソグラフィ装置のアライメントキャリブレーションプロセスにおいて、基板に入射する放射光の入射角範囲を広げるためのディフューザが照明ビームに挿入される。 - 特許庁

From an initial period P1 to a middle period P2 of an alignment process, the wavelength from a long arc light source LAL through a wavelength cut filter F1 is 230 to 270 nm and the heat H to be applied in the initial period is specified to 100°C and in the middle period to 100 to 150°C.例文帳に追加

配向プロセスの初期Ｐ１と中期Ｐ２にかけては、波長カットフィルタＦ１を通したロングアーク光源ＬＡＬからの波長は２３０〜２７０ｎｍで、与える熱Ｈは初期では１００℃、中期では１００〜１５０℃とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of liquid crystal device which makes surface treatment of an inorganic alignment layer possible without using higher alcohol and without performing a surface treatment process and permits reduction of material expenses and a product cost through simplification of manufacturing processes.例文帳に追加

高級アルコールを用いることなく、又表面処理工程を実行することなく、無機配向膜の表面処理を可能とし、材料費の低減、及び製造工程の簡素化による製品コストの低減を実現する。 - 特許庁

Particularly, in the manufacturing process, a relative positional relation between a photospacer and the sub pixel is regulated so that a domain region (alignment-defective region of liquid crystal molecules) on an alignment film, which has not been subjected to the rubbing formed due to existence of the photospacer upon the rubbing, is positioned within a sub pixel of cyan (C) which least affects the human vision.例文帳に追加

特に、その製造過程において、ラビング処理の際に、フォトスペーサの存在によって生じるラビング処理が施されていない配向膜上のドメイン領域（液晶分子の配向不良領域）が、人間の視覚に対して最も影響を与え難い、Ｃの色のサブ画素内に位置するように、フォトスペーサと、当該サブ画素との相対的な位置関係が規定されている。 - 特許庁

To provide an apparatus for depositing an organic material and a depositing method thereof, wherein a deposition process is performed with respect to a second substrate while transfer and alignment processes are performed with respect to a first substrate in a chamber, so that loss of an organic material wasted in the transfer and alignment processes of the substrate can be reduced, thereby maximizing material efficiency and minimizing a processing tack time.例文帳に追加

チャンバ内で第１基板に対する基板の移送及びアライン工程の実行と同時に、第２基板に対する蒸着工程を行えるようにすることで、基板の移送及びアライン工程時に消耗する有機物質材料の損失を減らして材料効率を最大化し、工程のタックタイムを最小化できる有機物蒸着装置及び蒸着方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, no shadow of the columnar spacer 120 is formed on the surface of the substrate 101 in a vapor-deposition direction in a process of forming the alignment layer by the oblique vapor deposition and proper vapor deposition is performed over the entire surface of the substrate.例文帳に追加

このようにすれば、配向膜を斜方蒸着により形成する工程において、蒸着方向に対して基板１０１の表面に柱状スペーサー１２０の影が生じることがなく、基板全面に適切に蒸着が行われる。 - 特許庁

To calculate a proper alignment geometry to allow regulation, in a vehicle having a problem such as a vehicle damaged in its body in the past, a vehicle having a lateral difference generated in a repairing or manufacturing process and a vehicle deteriorated in a suspension unit.例文帳に追加

本発明は、過去に車体損傷を受けた車輌及び修復及び製造過程で左右差がある車輌、また懸架装置に劣化がある車輌等、問題を抱えた車輌に対して、適切なアライメントジオメトリを算出し調整を可能にする。 - 特許庁

To provide an optical coupling device with which a plane optical element and an optical transmission body such as an optical fiber are optically coupled with high alignment precision without occupying a wide space, increasing a number of parts and without requiring improvement in process controllability.例文帳に追加

面型光素子と光ファイバなどの光伝送体とを、広い空間を占有せずに、また、部品点数の増加やプロセス制御性の向上を必要とせずに、高アライメント精度で光結合させることの可能な光結合装置を提供する。 - 特許庁

To reduce work and load of an operator in a positioning process of an aligner and improve a throughput by minimizing the necessity for decision of an operator and automatically making recovery to a normal sequence when an error occurs in pre-alignment.例文帳に追加

プリアライメントにおいてエラーが発生したときのオペレータの判断を極力少なくし、自動的に正常シーケンスへ回復可能にすることで、露光装置の位置合わせ過程におけるオペレータの手間、負担を軽減させ、スループットを向上させる。 - 特許庁

To provide a double-side intermittent coating apparatus capable of enhancing the positional alignment precision on both sides of a web of a coating section and a non-coating section or the film thickness precision of the coating section in double-side intermittent coating and reduced in process loss.例文帳に追加

両面間欠塗布において、塗工区間と無塗工区間との、ウェブの両面における位置合わせの精度や、塗工区間の膜厚の精度を向上させることが可能であり、さらに、工程ロスが少ない両面間欠塗布装置を提供する。 - 特許庁

To provides an inhibition to a short circuit between a bit line and a capacitance contact without employing an SAC (self alignment contact) process of forming a hard mask film on an upper surface of the bit line and providing a side surface of the bit line with a sidewall formed by etching back a nitride film.例文帳に追加

ビット線の上面にハードマスク膜を形成し、ビット線の側壁に窒化膜をエッチバックして形成したサイドウォールを設けるＳＡＣ（セルフアラインコンタクト）プロセスを用いることなくビット線と容量コンタクトとの間の短絡を防止する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of forming a high accuracy via plug by applying a dual damascene process even in a structure having a via diameter smaller than a width of an interconnection groove in size and a better margin against an alignment displacement during an exposure.例文帳に追加

配線溝の幅よりビアの径が小さく、露光時の位置あわせのずれに対してマージンがある構造においても、デュアルダマシンプロセスを適用して高精度のビアプラグを形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a photolithographic process, all of first and second alignment patterns 13a and 13b for alignments in the two directions of the X direction and the Y direction are formed in the first scribing regions 3a, and are not formed in the second scribing regions 3b.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程では、Ｘ方向およびＹ方向の２方向のアライメントを行うための第１および第２のアライメントパターン１３ａ，１３ｂが全て第１スクライブ領域３ａに形成され、第２スクライブ領域３ｂには形成されない。 - 特許庁

To divide a wafer into chips without limiting an applicable wafer, without a problem of alignment after dividing, and without requiring a device other than a dicing device, while suppressing occurrence of chipping, burr, contamination and the like in a dicing process of the wafer.例文帳に追加

ウエハのダイシング工程におけるチッピング、バリ、コンタミ等の発生を抑えつつ、適用可能なウエハが限定されることもなく、分割後の整直性の問題もなく、ダイシング装置以外の装置を必要とすることなく、ウエハをチップに分割すること。 - 特許庁

The electrode sections of the drain region and source region of n-type or p-type double gate MOS transistor structure are provided with each gate electrode by self-alignment (simultaneously positioned at one time of a lithography process).例文帳に追加

島状半導体結晶層内に形成されたＮ形またはＰ形二重ゲートＭＯＳトランジスタ構造のドレイン領域およびソース領域の電極部は各ゲート電極と自己整合（一回のリソグラフィー工程で同時に位置決めされること）で設ける。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a compound semiconductor crystal (an epitaxial substrate) capable of improving the alignment precision for a mask pattern with reference to an orientation flat in a device manufacturing process without reducing the device forming region of a substrate.例文帳に追加

基板のデバイス形成領域を狭めることなく、デバイス製造プロセスにおいてオリエンテーションフラットを基準とするマスクパターンの位置合わせの精度を向上させることができる化合物半導体結晶（エピタキシャル基板）の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an analytical inspection device capable of reducing the possibility of generating contamination between inspections of samples, and free from the requirement of securing a proper alignment of an illumination source and/or a detecting optics with the sample under inspection, during an inspection process.例文帳に追加

試料の検査と検査の間に汚染が生じる可能性が低く、照明源及び／又は検出用オプティクスの被検下にある試料との適正なアライメントを保証することが、検査プロセス中に要求されない分析検査デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device of a perpendicular alignment mode in which the retardation between an optical retardation film and a liquid crystal layer is controlled to the optimum value, and to provide a method and an operational device to derive the optimal retardation range by a small number pf process.例文帳に追加

垂直配向モードの液晶表示装置において、位相差フィルムと液晶層とのリターデーションが最適な値に設定された液晶表示装置、並びに、当該範囲を少ない手間で導出可能な方法および演算装置を提供する。 - 特許庁

Thus, the optical functional element and the low reflection structure can be formed through a single transfer process using the same mold 50, which can enhance the alignment accuracy of the low reflection structure as a black matrix with the optical functional element.例文帳に追加

同一の金型５０を用いた一回の転写により、光学機能素子および低反射構造体を形成することが可能となり、ブラックマトリクスとしての低反射構造体と光学機能素子との位置合わせ精度を高めることが可能となる。 - 特許庁

To provide a stable self alignment type phase shift mask which can prevent deterioration in transfer accuracy caused by multiple reflection on a wafer surface and a light shielding pattern surface, which has excellent phase shift mask characteristics, and which requires a short manufacturing process, and to provide a method for manufacturing the mask.例文帳に追加

ウェハー面と遮光パターン表面で多重反射による転写精度の劣化を防止し、位相シフトマスク特性に優れ、製造工程が短く、安定した自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁