「alignment process」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

Alternatively, without carrying out a process of a regular lamination, the alignment is performed by a temporary lamination and then ultrasonic welding is performed.例文帳に追加

あるいは、正式なラミネート方式の工程を実行せずに、仮ラミネートにより位置合わせした後に超音波溶着する。 - 特許庁

Further, in actual exposure processing, a wafer grid derived from a process through which a wafer passed is detected in wafer alignment of a step 313.例文帳に追加

そして、実際の露光処理では、ステップ３１３のウエハアライメントにおいて、ウエハが経たプロセスに起因のウエハグリッドを検出する。 - 特許庁

An alignment stripe 116 is formed in the same process as forming an active layer stripe 106 of a light-emitting region 112.例文帳に追加

発光領域１１２の活性層ストライプ１０６を形成する工程と同一工程でアライメントストライプ１１６を形成する。 - 特許庁

Then, the pair of lead wires are twisted with each other in a twisting process, at least the tip parts getting almost in alignment.例文帳に追加

そして、一対のリード線６が撚合工程において撚り合わされ、少なくとも先端部側が略一直線状とされる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of achieving a self-alignment process of high productivity for easy control.例文帳に追加

制御が容易で生産性の高いセルフアライメントプロセスを実現することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A new mark image is obtained from aligned marks on a substrate in a semiconductor process after processing according to the method for substrate alignment.例文帳に追加

基板整列方法によると、半導体工程が行われた基板上の整列マークから新しいマークイメージを獲得する。 - 特許庁

To provide a process of manufacturing a CSP adapted such that alignment marks can be surely recognized after forming post electrodes.例文帳に追加

ＣＳＰの製造工程において、ポスト電極形成後においてアライメントマークを確実に認識することができるようにする。 - 特許庁

The ion implantation control opening constitutes a self-alignment structure in each diffusion layer forming process, thereby diffusion layers are formed.例文帳に追加

イオン注入制御開口部が各拡散層形成工程におけるセルフアライメント構造を構成して各拡散層が形成される。 - 特許庁

The major issues in constructing mixed-mode applications are process synchronization, data transfer and alignment, and re-entrant code. 例文帳に追加

混合モードのアプリケーションを構築する上での主要問題は、プロセス同期、データの転送と整列、および再入可能コードである。 - コンピューター用語辞典

ALIGNMENT EQUIPMENT AND METHOD, CARRYING SYSTEM AND METHOD, OPTICAL LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD, AND PROCESS FOR FABRICATING DEVICE例文帳に追加

位置合わせ装置と位置合わせ方法、搬送システムと搬送方法、及び露光システムと露光方法並びにデバイス製造方法 - 特許庁

In this way, the ultraviolet backside irradiation step 22 in which the ultraviolet rays irradiation is applied from the glass surface GL of the array substrate AR is provided subsequent to the alignment layer forming step 21, thereby hybrid alignment and bend alignment are formed within a pixel without complicating the manufacturing process.例文帳に追加

このように、配向膜形成工程２１の後にアレイ基板ＡＲのガラス面ＧＬより紫外線照射を行うＵＶ裏面照射工程２２を具備することで、製造プロセスを複雑化させることなく画素内にハイブリッド配向とベンド配向を形成する。 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus equipped with an alignment tool capable of implementing alignment of markers, having a large vertical separation with each other and an alignment process, in the manufacture of e.g., a micro electromechanical system (MEMS) or a micro opto-electromechanical system (MOEMS).例文帳に追加

例えばマイクロ電気機械システム（ＭＥＭＳ）やマイクロ光電気機械システム（ＭＯＥＭＳ）の製造において、大きな垂直分離を有するマーカー間におけるアライメントの実行を可能にするアライメントツールを備えたリソグラフィ装置およびアライメントの工程を提供する。 - 特許庁

To provide a homeotropic-alignment-mode liquid crystal display device and its manufacture which have a wide field angle and a fast response speed and can have none of an alignment defect and deterioration of an alignment layer due to a rubbing process, etc., and high yielding.例文帳に追加

広い視野角と高速な応答速度とを有し、しかもラビング処理等による配向欠陥や配向膜の劣化を招くことがなく、高い歩留まりを得ることができるホメオトロピック配向モードの液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In one word alignment process, a source language input sentence 350 and an example 360 under consideration are input to a first alignment component which operates as a bilingual dictionary aligner 362.例文帳に追加

単語対応付けの一プロセスにおいて、元の言語入力文３５０と検討中の例３６０とが、二言語辞書対応付け器３６２として動作する第１の対応付けコンポーネントへの入力である。 - 特許庁

When heating after alignment as a post-process is performed for this substrate W, a flow of the gas in an inversive direction to the specific direction at the time of heating before alignment is formed.例文帳に追加

この基板Ｗに対し、後工程である露光後加熱処理を行うときには、露光前加熱処理時における前記特定方向とは逆向きの気流の流れを基板Ｗ上に形成する。 - 特許庁

To provide a thin plate on which electrodes having a stable line width are formed, and to provide a device and a method for alignment capable of performing accurate alignment in the manufacturing process of the thin plate.例文帳に追加

安定した線幅の電極が形成された薄板、および該薄板の製造工程において正確な位置合わせを行なうことができる位置合わせ装置および位置合わせ方法を提供する。 - 特許庁

Droplets are discharged at prescribed positions on a board 2 to form the alignment marks 10 and a pattern through the method, and the alignment marks 10 and the pattern are formed in the same process.例文帳に追加

液滴を基板２上の所定の位置に吐出してアライメントマーク１０及びパターンを形成する方法であって、該アライメントマーク１０と該パターンを同一工程で形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a device and a method for alignment transportation of preform capable of transporting under alignment for the next process step in sufficient time even in a high speed injection molding.例文帳に追加

射出成形が高速化されても十分な時間を確保して後工程に整列させて搬送することができるプリフォームの整列搬送装置およびその整列搬送方法を提供すること。 - 特許庁

The deviation of alignment occurring in a semiconductor manufacture process is spuriously reproduced on layout CAD data, and the yield fail by the deviation of alignment is analyzed from the area value of a via for connecting wiring layers.例文帳に追加

レイアウトＣＡＤデータ上で半導体製造工程で生ずるアライメントずれを擬似的に再現し、配線層間を接続するビアの面積値からアライメントズレによる歩留まり不良を解析する。 - 特許庁

To perform alignment of a shadow mask and a transparent substrate by irradiating light of an appropriate wavelength corresponding to the thickness of the transparent electrode without providing a dedicated process to form an alignment mark on the transparent substrate.例文帳に追加

透明基板にアライメントマークを形成する専用工程を設けず、透明電極の厚さに対応した適切な波長の光を照射してシャドーマスクと透明基板とのアライメントを行う。 - 特許庁

In a detection process, light for detecting positions is applied to the alignment marks 41, 42 via the resin insulating layers 20, 21, 31, 32, and the alignment marks 41, 42 are detected based on the reflected light.例文帳に追加

検出工程では、樹脂絶縁層２０，２１，３１，３２を介して位置合わせマーク４１，４２に位置検出用光を照射し、反射光に基づいて位置合わせマーク４１，４２を検出する。 - 特許庁

To provide a method of efficiently manufacturing a substrate in which position information on a position of a process area on the substrate is retrieved with respect to an alignment mark to separate alignment and actual processing.例文帳に追加

基板の加工領域の位置に関する位置情報をアライメントマークに関連させて取り出し、アライメントと実際の加工とを切り離して基板を効率的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of semiconductor substrate capable of freely setting the size of the alignment mark and preventing the generation of problems such as a resist coating spot and a residual resist during a device manufacturing process, without having to install a dedicated process for forming alignment marks.例文帳に追加

アライメントマークを形成する専用の工程の別途追加が無く、アライメントマークのサイズも自由に設定することができ、さらに、デバイス製造工程においてレジスト塗布斑やレジスト残り等の不具合を発生させない半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the influence of a wafer process as much as possible, to quantitatively optimize a mark for position detection according to a position detection system mounted in a projection aligner to be used, and at the same time to minimize an alignment error due to the wafer process, and to provide a device for improving alignment accuracy.例文帳に追加

ウェハプロセスの影響を受け難く、使用する露光装置の搭載する位置検出方式に応じて位置検出用マークを定量的に最適化でき、且つウェハプロセスや装置起因のアライメント誤差を最小限にして高い位置合わせ精度を実現する。 - 特許庁

To provide a method of making winding miss alignment in winding into the minimum when a winding manufacturing process is used in forming electrode plates in a battery manufacturing process.例文帳に追加

電池の製造工程における極板群の形成に際して巻回式の製造方法を採用する場合に、巻回時の巻きズレを最小限に抑える製造技術を提供する。 - 特許庁

To provide a high voltage sensor element capable of executing clear matching or alignment of a substrate even during process treatment of a thin film process or even in the following incorporation of a sensor element to a sensor itself.例文帳に追加

薄膜プロセスのプロセス処理中にも、センサエレメントのセンサ自体への後続の組み立て時においても、基板の明確な整合もしくは整列が実施できる高圧センサエレメントを提供する。 - 特許庁

Prealignment is performed on the circuit board in a process separate from a hole machining process by using an alignment device to make position data for indicating a position of the hole machining in a pattern in the circuit board.例文帳に追加

予め回路基板にアライメント装置を用いて孔加工工程とは別工程でプリアライメントを行い、回路基板内のパターンにおける孔加工の位置を示す位置データを作成する。 - 特許庁

To provide an exposure device which is capable of detecting positions of a plurality of pattern forming regions set up on the surface of a substrate, carrying out an alignment process with high accuracy, and performing an exposure process accurately for the pattern forming regions.例文帳に追加

基板上に設定された複数のパターン形成領域の位置検出及びアライメント処理を精度良く行って精度良い露光処理ができる露光装置を提供する。 - 特許庁

In a sticking process at a step S_12, opposite substrates are respectively stuck on respective elements on the divided TFT substrates and empty cells are formed through an alignment and press hardening process at a step S_13.例文帳に追加

ステップＳ12の貼り合わせ工程では、分割後のＴＦＴ基板上の各素子に夫々対向基板が貼り合わされ、ステップＳ13のアライメント・圧着硬化工程を経て空セルが形成される。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which allows pattern formation without developing process, is improved with respect to the problem due to rubbing process and the like, and is most suitable for a liquid crystal alignment film or the like.例文帳に追加

現像処理を行うことなくパターン形成ができ、また、ラビング処理等による問題も改善され、液晶配向膜等に最適なパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To raise the ratio of the height of a connection member to its max. width, without needing a high alignment accuracy and without increasing the number of process steps.例文帳に追加

高い位置合せ精度が不要で工程数を増加させずに、接続部材の最大幅に対する高さの比を１より大きくする。 - 特許庁

Subsequently the color filter substrate is regenerated by being again subjected to an alignment layer forming process so as to improve a production yield.例文帳に追加

その後、カラーフィルター基板は、改めて配向膜形成工程に供されて再生され、製造歩留まりを向上させることができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can simplify processes by reducing a process of forming an alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークの形成工程を削減して工程を簡略化することができる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To improve contrast, in-screen uniformity and long-term stability with an easy process in a vertical alignment liquid crystal element.例文帳に追加

垂直配向液晶素子において、容易なプロセスでコントラスト、面内の均一性、長期安定性を向上させることを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an MOSFET device where a self-alignment contact process is appropriately performed, while maintaining the thickness of a tungsten gate to be constant.例文帳に追加

自己整列コンタクト工程を適正に行え、タングステンゲートの均一厚さの維持が可能なMOSFET素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imaging lens system which makes the precise alignment of two lens elements possible by a simple structure and assembly process steps.例文帳に追加

簡単な構造及び組立工程により２枚のレンズ素子の精密な芯合わせを実現できる撮像レンズシステムを提供する。 - 特許庁

In S5, an eccentricity amount of the alignment in the XY direction between the center of the pupil and a measuring beam axis is computed, then the process shifts to S7.例文帳に追加

Ｓ５において瞳孔中心と装置の測定光軸とのＸＹ方向のアライメントのずれ量を算出しＳ７に移行する。 - 特許庁

The process time of the alignment measurement is shortened by the moving time and the photographing time of the two shots in the EGA measurement.例文帳に追加

ＥＧＡ計測の時に２箇所のショットの移動時間と撮像時間分、アライメント計測の処理時間を短縮することができる。 - 特許庁

Accordingly, additional processes such as an alignment process and flip-chip bonding are not necessary and the production cost of the optical device can be saved.例文帳に追加

これにより、整列工程及びフリップ−チップボンディング等の付加工程が不要になって光デバイスのコストを低減することができる。 - 特許庁

In this process, the region 31 is formed by self alignment wherein one end of the gate electrode 35 on the LOCOS oxide film 28 is used as a mask.例文帳に追加

そして、この工程では、ＬＯＣＯＳ酸化膜２８上のゲート電極３５の一端をマスクとしてセルファラインにより形成する。 - 特許庁

Thus the alignment of the shaft 32 to the roller bearing 64 is performed with separating into two steps in the building-in process of the shaft 32.例文帳に追加

これにより、軸３２の組み込み過程においてころ軸受６４に対する軸３２の芯合わせが二段階に分けて行われる。 - 特許庁

A receptacle is fixed to a CAN package at a position adjusted in an alignment process of adjusting the relative position between the receptacle and CAN package.例文帳に追加

レセプタクルとＣＡＮとの相対位置を調節する調芯工程により調節された位置でレセプタクルをＣＡＮパッケージに固定する。 - 特許庁

To provide a technique capable of assuring the flatness of pixel electrodes with a simple process and eliminating the light dropout occurring in an alignment defect.例文帳に追加

簡単な工程で画素電極の平坦性を確保し、配向不良に起因する光抜けをなくすことができる技術の提供。 - 特許庁

Thus the spacer material 3 can be selectively removed by a dry method using an optical process not to pollute alignment control layers 5.例文帳に追加

これにより、光プロセスを用いたドライな方法でスペーサ材３を選択的に除去することができ、配向制御膜５を汚染しない。 - 特許庁

The inhibitor quenches polymerization of radicals of the reactive monomers, which is triggered by light or heat before the polymerization alignment process.例文帳に追加

該阻害剤は、重合配向処理前に光又は熱により誘発される前記反応性単量体の遊離基の重合を抑制する。 - 特許庁