「alignment process」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a non-contact type alignment processing device capable of forming a multi-domain alignment at low cost even with a large substrate and enlarging the angle of visibility of a liquid crystal display device without using a metal mask or a photo lithography process and without a troublesome surface treatment of an alignment film.例文帳に追加

メタルマスクやフォトリソグラフィー工程を用いず、煩雑な配向膜の下地処理も行なわずに、基板が大型化しても低コストでマルチドメイン配向を形成して、液晶表示装置の視野角を拡大することができる非接触式配向処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a crystallization apparatus and a crystallizing method using it, in which alignment keys are formed on a substrate with one mask having a plurality of different patterns, and a crystallization process progresses according to information about distances from the alignment keys and in parallel with imaginary lines connecting adjacent alignment keys.例文帳に追加

異形のパターンが複数具備された一つのマスクを準備した後、マスクを用いて基板上にアラインキーを形成し、アラインキーからの離隔情報及び隣接したアラインキーの仮想の連結線と平行に結晶化を進める結晶化装置及びこれを利用した結晶化方法を提供する。 - 特許庁

Thus, when the alignment measurement ends in failure, the alignment measurement is repeatedly performed, so the success rate of the alignment measurement is held excellent, and a frequency of feeding of a semiconductor wafer, not having been subjected to trimming processing, to a next process decreases to improve the yield of the semiconductor wafer W.例文帳に追加

このように、アライメント計測が失敗した場合に、繰り返しアライメント計測を実行するので、アライメント計測の成功率を良好に保て、トリミング処理が未実施の半導体ウエハＷが次工程に移行される頻度が低くなり、半導体ウエハＷの歩留まりが向上する。 - 特許庁

At the point of time when the first machining process by a laser beam is finished, the image of places including both a shape changed portion formed by the machining process and the edge part of the substrate are obtained, and the image is utilized for the alignment process before the machining process in the next time or later.例文帳に追加

レーザ光による最初の加工処理が終了した時点で、その加工処理によって形成された形状変化部分と基板の縁部の両方を含む箇所の画像を取得し、その画像を次回以降の加工処理前のアライメント処理に利用するようにした。 - 特許庁

To provide a method of fabricating a color filter substrate, for solving the problem existing in the conventional art, wherein the rubbing roller is easily damaged in the alignment rubbing process, which would further damages the alignment material layer.例文帳に追加

ラビングローラが配向ラビング工程で容易に損傷を受け、これがさらに配向材料層を損傷するという従来技術に存在する問題を解決するための、カラーフィルタ基板を製造する方法の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color filter which can be manufactured in a simple process, in which position accuracy for a substrate of an alignment mark is high and which can enhance alignment mark pattern formation accuracy when ink is ejected.例文帳に追加

簡単な工程で作製することができ、アライメントマークの基板に対する位置精度が高く、インクを吐出する際のアライメントマークパターン形成精度を高めることができるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a micromirror array and a method of manufacturing the array in which processes of forming an alignment pattern and an alignment mark are extremely simple and a process of attaching a micromirror is extremely simple to greatly improve productivity.例文帳に追加

整列パターン及び整列マーク形成工程が非常に簡単であり、マイクロミラーを固定させる工程も非常に簡単であって生産性が大きく向上したマイクロミラーアレイ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Position alignment of the protection plate 6 and the display panel 5 is performed during sticking process after application of an adhesive resin, or later than this, by using a fixture 75 for position alignment of a rectangle frame form or a tray form.例文帳に追加

保護板6及び表示パネル5の位置合わせを、接着剤樹脂の塗布後の貼り合わせ工程の最中、または、これより後に、矩形の枠組み状またはトレイ状の位置合わせ用ジグ75を用いて行う。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor device having a super junction structure comprises the step, after forming the super junction structure, of forming an alignment mark for alignment with the super junction structure in the following process step.例文帳に追加

本願発明は、スーパジャンクション構造を有する半導体装置の製造方法において、スーパジャンクション構造と後の工程との位置合わせのためのアライメントマークを、スーパジャンクション構造の形成後に、作製するものである。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, intended to perform a channel implant process of a transistor to be provided in a DRAM by means of the self-alignment technology without entailing a faulty alignment to enable improving of a reflash characteristic.例文帳に追加

本発明はＤＲＡＭに備えられるトランジスタのチャネルインプラント工程を誤整列なしで自己整列的に実施してリフラッシュ特性を向上させることができる半導体素子の製造方法に関するものである。 - 特許庁

The slave nodes 3b to 3d have transmission aligners 32b to 32d for performing an alignment process on the parallel data signals and parallel-series conversion parts 10b to 10d for converting the parallel data signals, on which the alignment process is performed by the aligners, into series data signals to be outputted to the master node 1.例文帳に追加

スレーブノード３ｂ〜３ｄは、並列データ信号にアライメント処理を施す送信アライナー３２ｂ〜３２ｄと、送信アライナーでアライメント処理が施された並列データ信号を直列データ信号に変換してマスターノード１に出力する並列直列変換部１０ｂ〜１０ｄとを有する。 - 特許庁

This method for positioning a wafer W comprises a process (a step S104) for detecting alignment data, which are rotated by +90° with respect to the direction for treating the wafer and a process (a step S108) for detecting the alignment data which are rotated by -90°.例文帳に追加

ウェハＷの位置合わせ方法は，ウェハの処理を行う方向に対して＋９０°回転した状態のアライメントデータを検出する工程（ステップＳ１０４）と，−９０°回転した状態のアライメントデータを検出する工程（ステップＳ１０８）とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the liquid crystal display device comprizes a process of forming the hydrophobic alignment layers which can be subjected to hydrophilicizing treatment on the surfaces of the first substrate and the second substrate and a process of forming the hydrophilic regions by subjecting part of the alignment layers to the hydrophilicizing treatment.例文帳に追加

この液晶表示装置は、第１の基板表面および第２の基板表面に親水化処理可能な疎水性の配向膜を形成する工程、および、その配向膜の一部を親水化処理して親水性領域を形成する工程を含む製造方法により製造される。 - 特許庁

The manufacturing method of the optical film comprises: a process of irradiating the surface of the cellulose acetate film with electron beams so that the contact angle of water dropped onto the surface comes to 50° or less; a process of forming the alignment film layer on the treated cellulose acetate film; and a process of forming the optically anisotropic layer comprising a liquid crystal compound on the alignment film layer.例文帳に追加

セルロースアセテートフィルムの表面に電子線を照射して、該表面に滴下した水の接触角が５０°以下になるように照射処理する工程と、処理されたセルロースアセテートフィルム上に配向膜層を形成する工程と、配向膜層上に液晶化合物からなる光学異方性層を形成する工程と、を備える。 - 特許庁

This pattern formation method is provided with process for forming a super-high resolution film, for narrowing the beam diameter of irradiated light on the resist film formed on a substrate, the process for irradiating the resist film with the light via the super-high resolution film and performing pattern alignment and the process for developing the resist film, to which the pattern alignment is performed.例文帳に追加

基板上に形成されたレジスト膜上に、照射される光のビーム径を絞る超解像膜を形成する工程と、前記超解像膜を介して前記レジスト膜に対して光を照射し、パターン露光を行なう工程と、前記パターン露光が行なわれた前記レジスト膜を現像する工程とを備えるパターン形成方法である。 - 特許庁

The warpage amount of a bonding substrate in a WLCSP process is also reduced, and alignment precision and a working yield are improved.例文帳に追加

さらに、ＷＬＣＳＰプロセスにおける接合基板の反り量も低減でき、アライメント精度や加工歩留まりの向上をはかることができる。 - 特許庁

To raise breakdown voltage of an insulating film formed on the side surface of a gate electrode in a semiconductor device where a contact hole is formed by a self-alignment process.例文帳に追加

自己整合的にコンタクトホールを形成する半導体装置において、ゲート電極の側面に形成する絶縁膜の耐圧を大きくする。 - 特許庁

To provide a TFT having less off-current where no high-accuracy alignment is required in a manufacturing process, even if the gate length becomes shorter.例文帳に追加

オフ電流が少なく、かつゲート長が短くなっても製造工程において高精度の位置合わせを必要としないＴＦＴを提供する。 - 特許庁

To provide a peripheral exposure method that simplifies an alignment process and accurately secures a peripheral exposure area parallel to a reference side.例文帳に追加

アライメント工程の簡略化と、基準辺に平行な周辺露光領域を正確に確保することのできる周辺露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, capable of realizing reduction and simplification of a production process and high accuracy through self-alignment.例文帳に追加

製造工程の短縮、簡略化及びセルフアラインによる高精度化を実現することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The dielectric layer 13 for dividing alignment and the dielectric layer 14 for controlling thickness of the liquid crystal layer 4 are simultaneously formed with an identical process.例文帳に追加

配向分割用の誘電層１３と液晶層４の厚さを制御する誘電層１４は、同一プロセスにより同時形成されている - 特許庁

To provide an exposure method with which alignment of an exposure area can be carried out with high accuracy and a process speed of exposure can be increased.例文帳に追加

露光領域の位置合わせを高精度に行うことができるとともに露光処理を高速化することができる露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sensor module inspection apparatus or the like for easily measuring the characteristic of each sensor, without requiring an accurate axial alignment process.例文帳に追加

精密な軸合わせの工程を必要とせずに、簡易に個々のセンサの特性を測定することができるセンサモジュール検査装置などを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a multilayer wiring board for forming a highly precise alignment mark while peeling at a lamination process is prevented.例文帳に追加

積層工程時の剥離を防止しつつ高精度なアライメントマークを形成することが可能な多層配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The SAP is included in a mask layout for efficient self-alignment of various sub-layouts of a target pattern in a multi-patterning lithography process.例文帳に追加

ＳＡＰは、マルチパターニングリソグラフィ工程中のターゲットパターンの様々なサブレイアウトの効率的なセルフアライメントのためにマスクレイアウト内に含まれる。 - 特許庁

Thereby, accurate alignment with WIS removed therefrom can be executed even in a situation where a device manufacturing process changes.例文帳に追加

これにより、デバイス製造プロセスが変化するような状況においても、ＷＩＳを除去した高精度なアライメントを行うことが可能となる。 - 特許庁

To provide a MOS transistor for applying a self-alignment contact process while reducing the sheet resistance and contact resistance of source/drain regions.例文帳に追加

ソース／ドレイン領域のシート抵抗とコンタクト抵抗を低減させながら自己整合コンタクト・プロセスが適用できるＭＯＳトランジスタを提供する。 - 特許庁

To provide a disposition method and apparatus for an article wherein there is provided as a self-alignment process the whole process in which electronic parts placed on a substrate are guided to a recess provided at a desired position in of substrate and are fallen therein.例文帳に追加

基板上に載置された電子部品を基板上の所望の位置に設けられた凹部に導き、落とし込む工程すべてを自己整列プロセスとする物品の配置方法とその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device for securing an excellent alignment precision in a lithography process by eliminating non-linear strain in a semiconductor wafer generated in an oxidation process by lamp annealing.例文帳に追加

ランプアニールでの酸化工程において発生した半導体ウエハーの非線型な歪みを解消させ、リソグラフィ工程において良好なアライメント精度を確保可能な半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

In the drying process of the alignment layer 22, a controller 91 linearly increases the temperature of a hot plate 90 with time based on temperature controlling information for accurately controlling the evaporation speed of a solvent contained in the alignment layer 22 to control molecular arrangement of the alignment layer and making the evaporation state of the solvent uniform over the entire area of the alignment layer 22.例文帳に追加

配向膜２２の乾燥処理時において、コントローラ９１は、配向膜２２中に含有される溶媒の蒸発スピードを緻密に制御し、配向膜の分子配列を制御するため、且つ溶媒の蒸発状態を配向膜２２の全域にわたって均一なものとするための温度管理情報に基づいて、ホットプレート９０を経時とともに線形的に昇温させる。 - 特許庁

To provide a liquid crystal film stably formed without a complicated process such as light irradiation under an inert gas atmosphere and having alignment holding ability after homeotropic alignment fixation and and excellent mechanical strength.例文帳に追加

不活性ガス雰囲気下での光照射のような煩雑な工程を必要とすることなく安定した製造が可能であり、ホメオトロピック配向固定化後の配向保持能および機械的強度に優れた液晶フィルムを提供する。 - 特許庁

Because a light irradiation method as a means for partial homeotropic alignment is simply to irradiate the alignment layer with light, a problem of a longer process is solved.例文帳に追加

部分的に垂直配向させる手段としては、光を照射する方法は、配向膜に光を照射するだけでよいので、従来の視角改善方法のプロセスの欠点であった工程が長くなると言う問題を解決することができる。 - 特許庁

To provide a method for forming pattern, an electrooptical device, and an electronic apparatus which forms an alignment mark by a liquid discharge method in the state positioned with high precision by eliminating the waste of a process for forming an alignment mark by photolithograph.例文帳に追加

フォトリソグラフィによるアライメントマークを形成する工程の無駄を省き、高精度に位置決めされた状態で液体吐出法によりアライメントマークを形成するパターン形成方法、電気光学装置、及び電子機器を提供すること。 - 特許庁

The second alignment film 61, on which a film is formed, defines the direction of slow axis (uniaxial orientation direction) of a phase difference layer 62, formed on the second alignment film 61 in the later process, by performing a rubbing treatment on the surface in a fixed direction.例文帳に追加

成膜化された第２配向膜６１は、その表面を一定の方向にラビング処理することにより、後の工程で第２配向膜６１上に形成される位相差層６２の遅相軸方向（一軸配向方向）を規定する。 - 特許庁

To provide a substrate for liquid crystal alignment based on a transition nucleus formation process which can be achieved by using the conventional liquid crystal display manufacturing method almost as it is.例文帳に追加

これまでの液晶ディスプレイの製造法をほぼそのまま利用して実現可能な転移核形成法に基づく液晶配向用基板を提供する。 - 特許庁

To provide a method for analyzing the behavior of front side marks on a substrate, during a process of manufacturing a device, without the need for etching global alignment marks.例文帳に追加

グローバル・アライメント・マークをエッチングする必要なしにデバイス作製プロセス中に基板上の表面マークの挙動を分析する方法を提供すること。 - 特許庁

To perform the alignment of an element group arranged in a stacking direction with high accuracy, by absorbing the pitch error of an element in an element array in a stacking process for a plurality of element arrays.例文帳に追加

素子アレイにおける素子のピッチ誤差を複数の素子アレイの積層工程で吸収し、積層方向に並ぶ素子群の調芯を高精度に行う。 - 特許庁

To stabilize aperture diameter of a connection hole, which is formed under a trench, and to stabilize the wiring resistance in the connection hole in a self alignment dural Damascene process.例文帳に追加

セルフアラインデュアルダマシンプロセスにおいて、トレンチ下に形成される接続孔の開口径を安定化させ、接続孔内の配線抵抗を安定化させる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device with a contact plug which is formed through a self-alignment process and can suppress decrease of a width, and a manufacturing method of the semiconductor device.例文帳に追加

自己整合的に形成され、幅の減少を抑制可能なコンタクトプラグを有する半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and device for stacking products yielded from a shearing process capable of stacking even small items or thin and long items in good alignment.例文帳に追加

小さな製品や細長い製品でもうまく揃えて集積することのできるシャーリング加工による製品の集積方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a rubbing material capable of deterring static electricity from being generated during a rubbing process and reducing contamination of the surface of an alignment film due to foreign matter.例文帳に追加

ラビング処理中の静電気の発生を抑制すると共に、異物による配向膜表面の汚染を低減することのできるラビング材を提供する。 - 特許庁

To obtain an alignment method for an exposure apparatus and an exposure apparatus, wherein a work piece is not rejected from the production line even when a reference mark position on the work piece is misaligned and the process efficiency is hardly decreased.例文帳に追加

ワーク上の基準マーク位置がずれていてもラインアウトせず、処理効率の低下しにくい露光装置のアライメント方法および露光装置を得る。 - 特許庁

To provide an alignment method for a maskless laminated exposure by overlaying each layer with a virtual mask in an exposure process.例文帳に追加

マスクレス露光工程で仮想のマスクを用いてレイヤ別にオーバーレイする方法を通してマスクレス積層露光を行うことができる整列方法を提案する。 - 特許庁

One of the so-formed cross shapes is used as an alignment mark for exposure in a photo-lithographic process for a layer formed later.例文帳に追加

このように形成された十字型のうちのひとつは、後に形成される層のフォトリソグラフィ工程の露光において、アライメントマークとして使用される。 - 特許庁

The feedforward control and the feedback control are combined by the distribution ratio m, to obtain a correction amount of the alignment for an exposure apparatus in the via-forming process.例文帳に追加

その配分比ｍでフィードフォワード制御とフィードバック制御とを組み合わせ、ビア形成工程における露光装置でのアライメントの補正量を求める。 - 特許庁