「beam limit」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Thus, the beam expander and the aperture limit member 11 are driven by the same driving source.例文帳に追加

このようにして、同一の駆動源によりビームエキスパンダと開口制限部材１１とを駆動する。 - 特許庁

To achieve a high ion generation efficiency and secure a sufficient detection sensitivity even when a beam convergence diameter of laser beam is reduced to near the diffraction limit.例文帳に追加

レーザ光のビーム集束径を回折限界近くまで絞った場合でも、高いイオン生成効率を達成して十分な検出感度を確保する。 - 特許庁

The electron beam 27 is deflected toward the electrode 20A, and passage of the electron beam 27 in the direction of the target is shut off with the limit aperture 21.例文帳に追加

電子ビーム２７は電極２０Ａ側に偏向され、制限アパーチャ２１によりターゲット方向への通過が遮断される。 - 特許庁

The laser system is equipped with a laser beam generating device 10 and the optical limiter 20 to limit energy of a laser beam 11.例文帳に追加

レーザシステムは、レーザ光発生装置１０と、レーザ光１１のエネルギーを制限するための光リミッタ２０とを備えている。 - 特許庁

To provide bar arrangement structure in beam-column connection which enables reduction in the limit of a bar arrangement space and arrangement of beam reinforcements, without setting of level difference and further prevention of pulling of the beam reinforcements.例文帳に追加

配筋スペースの制限を少なくするとともに、レベル差を設けることなくそれらの梁の梁鉄筋同士を配筋することができ、さらには、梁鉄筋の引抜を防止する柱梁接合における配筋構造を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam measuring device capable of improving the upper limit of charged particle beam current measurable of space distribution of the charged particle beam in an accelerator system with a distribution measuring device.例文帳に追加

加速器システムのなかで荷電粒子ビームの空間分布分布測定装置で計測可能な荷電粒子ビーム電流の上限を向上させることができる荷電粒子ビーム計測装置を提供することにある。 - 特許庁

The lens aberration and energy spread of the electron beam limit the contrast transfer of high spatial frequencies. 例文帳に追加

レンズの収差と電子ビームのエネルギーのひろがりは、高空間周波数のコントラスト伝達を制限する。 - 科学技術論文動詞集

To provide a multi-layer structure and minute structure plotting method in which a pit pattern of diffraction limit or less can be formed using a laser beam.例文帳に追加

レーザー光を用いて回折限界以下のピットパターンを形成できる多層構造体及び微細描画方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The section 7a of the side top beam 7 exposed on the outside of a container is constituted of a slope which avoids a predetermined loading limit L.例文帳に追加

側部上梁７のコンテナ外側に露出する部位７ａを、所定の積載限界Ｌを避ける傾斜面で構成する。 - 特許庁

To obtain even welding joint seams for 3 or more strips without adding any structural and dimensional limit to a laser beam welding machine.例文帳に追加

３条以上のストリップをレーザー溶接機器への構造的及びサイズ的な制約を付加することなく、かつ、均一な溶接継目を得る。 - 特許庁

To provide a method of creating an electronic beam drawing data for improving the resolution limit without reducing the throughput.例文帳に追加

スループットの低下を招かずに、解像度限界の向上を図るための電子ビーム描画データの作成方法を提供すること。 - 特許庁

The posts 25A, 25B limit a change in upper clearance between the cover 30 and the beam parts 24A, 24B.例文帳に追加

ポスト２５Ａ，２５Ｂは蓋体３０と梁部２４Ａ，２４Ｂとの間の上部クリアランスの変化を制限する。 - 特許庁

To provide a power management scheme for addressing problems of conventional power management schemes which can only limit the instantaneous maximum power and are not useable in a beam forming environment.例文帳に追加

従来の電力管理方法は、瞬時最大電力しか制限できなく、ビーム形成環境においても使用可能ではない。 - 特許庁

The lighting optical system has a condenser optical system (19) arranged in the optical path between an open angle limit member and the irradiated surface and guiding a light beam to the irradiated surface through the open angle limit member.例文帳に追加

照明光学系は、開き角制限部材と被照射面との間の光路中に配置されて開き角制限部材を介した光束を被照射面に導くコンデンサー光学系（１９）を備えている。 - 特許庁

A focal position is regulated to arrange the surface of a sample in an upper limit position of the depth of a focus or in a position slightly lower than the upper limit position when observing the sample in this scanning charged corpuscular beam device.例文帳に追加

本発明の走査荷電粒子線装置によると、試料の観察時に、試料の表面が焦点深度の上限の位置に又は上限の位置より僅か下方に配置されるように、焦点位置を調整する。 - 特許庁

When a resonance frequency of a reflective mirror part 12 is higher than a standard upper limit value, beam width scraping amounts of respective twist beam parts 16A and 16B and scraping amounts to erase respective base ends are determined based on a difference between the resonance frequency of the reflective mirror part 12 and the standard upper limit value.例文帳に追加

反射ミラー部１２の共振周波数が規格上限値よりも高い場合には、反射ミラー部１２の共振周波数と規格上限値との差から各捻れ梁部１６Ａ、１６Ｂの梁幅削り量と各基端部を削除する削り量を決定する。 - 特許庁

A height H of the fuse element 20 is larger than a depth of focus DOF of a laser beam to be given, and the diameter D of the fuse element 20 is smaller than a diffraction limit DL of the laser beam.例文帳に追加

ヒューズ素子２０の高さＨは、照射するレーザビームの焦点深度ＤＯＦよりも大きく、ヒューズ素子２０の径Ｄは、レーザビームの回折限界ＤＬよりも小さい。 - 特許庁

To provide a device for reading-out phase change record which exceeds limit of recording density, at reproduction with light (laser beam), by using electron beam as a reproduction means in a phase change form recording medium.例文帳に追加

相変化形記録媒体において、電子線を再生手段とすることにより、光（レーザー光）で再生する場合の記録密度の限界を越えた相変化記録読み取り装置を提供するこである。 - 特許庁

When ion irradiation is carried out onto the beam limit (GUN) aperture 2-3, Ga of the irradiation region 7-1 is melt to disperse Ga on the surface of the beam irradiation region of the W aperture.例文帳に追加

ビーム制限(ＧＵＮ)アパーチャ２−３にイオン照射すると、照射領域７−１のＧａが溶融してＷアパーチャのビーム照射領域の表面にＧａが拡散する。 - 特許庁

When the reflector 201 of the preceding vehicle 200 lies at a level higher than the laser beam lower-limit height, the reference radiation direction of the laser beam is set in a direction having the reflector 201 of the preceding vehicle 200.例文帳に追加

なお、先行車両２００のリフレクタ２０１がレーザ光下限高さよりも高い位置にある場合には、レーザ光の基準照射方向は、先行車両２００のリフレクタ２０１が存在する方向に設定される。 - 特許庁

A W aperture is used as a beam limit (GUN) aperture 2-3, Ga (with a melting point of 30°C) of around 25 mg is put on a surface of a part covering a beam irradiation region 7-1 (Ga pool 10).例文帳に追加

ビーム制限(ＧＵＮ)アパーチャ２−３としてＷアパーチャを用い、ビーム照射領域７−１に掛かる部分の表面に約２５ｍｇのＧａ(融点３０℃)を置く(Ｇａ溜り１０)。 - 特許庁

An engagement member 60 which engages the engagement surface 43 of an unlocking rail 40 provided on the ground G is mounted on the portion 56 of an axle end beam 50 extended downwards to near the vehicle limit L1, the beam 50 being fixed to the end of an axle 2.例文帳に追加

地上Ｇに設けたロック解除レール４０の係合面４３と係合する係合部材６０を、車軸２の端部に固定した軸端梁５０を車両限界Ｌ１の近傍まで下方に延設した部分５６に取り付ける。 - 特許庁

In order to limit displacement of the non-stress beam (14) into the direction which is substantially not parallel with the substrate (12), the non-stress beam (14) is installed in the inner side of a first and a second platforms (16, 18).例文帳に追加

基板（１２）と実質的に平行ではない方向への無応力ビーム（１４）の変位を制限すべく、無応力ビーム（１４）が、第一及び第二のプラットホーム（１６，１８）の内側に設けられる。 - 特許庁

The column members are connected to each other by a beam; a jack 9 is connected to a reaction implement 10 which is provided in the beam or the column member; and the upper building is made to ascend to the limit of preventing the column member from coming off from the lower-side column 4b.例文帳に追加

柱部材の相互を梁で連結し、梁又は柱部材に設けた反力治具１０へジャッキ９を繋ぎ、柱部材が下側柱４ｂから抜けない限度に上部建物を上昇させる。 - 特許庁

Even when the beam 7 is positioned higher, the area near the beam 7 of the container 6 can have a gap indicated with marks a, b, and c relative to the loading limit L.例文帳に追加

側部上梁７をより高い位置に置いても、コンテナ６の上部上梁７の近傍部分は、所定の積載限界Ｌに対し、符号ａ、ｂ、ｃで示す間隔を空けることができる。 - 特許庁

An optical system used in an usual imaging is adjusted to limit a sectional area of a radiation beam and form a cleaning radiation beam correspondent to the limited area.例文帳に追加

通常の結像中に使用される光学システムを調節して、放射ビームの断面積を限定し、限定区域に当たる洗浄放射ビームを形成する。 - 特許庁

The breakage of the beam member 20 can be prevented by detecting this degree of deformation, namely, the strain of the beam member 20, determining it as a limit of elastic deformation when this value exceeds a specified value, and controlling to halt driving.例文帳に追加

この変形度合、つまり梁部材２０の歪み量を検出し、この値が一定の値を超えた場合は弾性変形の限界と判断し、駆動を停止するように制御すれば梁部材２０の破損を防止することができる。 - 特許庁

In the electron beam inspection device, a stage shifting speed can be adjusted irrespective of a limit of electron beam deflection frequency by scanning electron beam in the same direction (a horizontal direction) with a direction of scan-shifting of the stage.例文帳に追加

本発明による電子線検査装置では、ステージをスキャン移動させる方向と同一の方向（水平方向）にて電子線を走査させることで、電子線の偏向周波数の限界に関係なく走査数によりステージ移動速度が調整可能となる。 - 特許庁

To improve signal quality by preventing a signal quality from being detriorated when a laser beam for reading is shifted from a large recording mark of resolution limit or more to a small recording mark being less than resolution limit in reproducing a super resonance optical recording medium.例文帳に追加

超解像光記録媒体の再生時に、読み取り用のレーザビームが解像限界以上の大きな記録マークから解像限界よりも小さな記録マークに移る際に、信号品質が悪化してしまうことを防ぎ、該信号品質を向上させる。 - 特許庁

When a reflector 201 of the preceding vehicle 200 lies at a level lower than the laser beam lower-limit height, a controller 16 calculates a reference radiation elevation angle and outputs a signal to an inter-vehicle distance sensor 11 so that the laser beam lower-limit height at the rear end of the preceding vehicle 200 corresponds to the reference radiation direction.例文帳に追加

先行車両２００のリフレクタ２０１がレーザ光下限高さよりも低い位置にある場合には、先行車両２００の後端部におけるレーザ光下限高さが基準照射方向となるように、コントローラ１６が基準照射仰俯角を演算して車間距離センサ１１に信号を出力する。 - 特許庁

In such a constitution, the extent of wear of the lens array is also detected during the machining operation in any kind of laser beam machining because the laser machining is interrupted, and the laser beam is interrupted, in particular, without a delay when the wear reaches a limit.例文帳に追加

この構成によれば、摩耗の限界に到達した場合、遅れずに、レーザ加工を中断するため、特にレーザを遮断するため、どんな種類のレーザ加工においても、レンズ配列の摩耗の程度を加工操作中に検出することもできる。 - 特許庁

Thereby, a total of beam currents given to a fluorescent substance at the same pixel position per unit time prevents the generation of a relative difference in the scanning time of each electron beam to scan each split screen so that the limit of the brightness saturation of the fluorescent substance is not exceeded.例文帳に追加

これにより、単位時間当たりに同一画素位置の蛍光体に与えられるビーム電流の総和が、その蛍光体の輝度飽和の限界を超えることのないよう、各分割画面を走査する各電子ビームの走査時刻に相対的な差が生じる。 - 特許庁

Thus, even when the laser beam cutting speed to be determined from the limit of the acceleration or the like is within the transition speed range, any laser beam machining is not performed actually at the cutting speed within the transition speed range, and the machining can be performed while the quality of the cut section is excellently consistent.例文帳に追加

従って加速度の制限等から定められるレーザ切断速度が遷移速度範囲内にある場合であっても、実際に遷移速度範囲内の切断速度でレーザ加工が行われることはなく、常に切断面の品質が良好に安定した加工を行うことができる。 - 特許庁

To provide a multiple beam scanning system characterized in that a polygon beam deflector having a minimum facet size is easily used, having a low level bow, diffraction-limit aberration correction, wobble correction and reasonable telecentric characteristic, and further comparatively large operating distance given between an output window and a light receiving body.例文帳に追加

最小ファセットサイズを有するポリゴン・ビーム偏向器の使用を容易にし、かつ低レベルのバウ、回折限界収差補正、ウォブル補正、および合理的な程度のテレセントリック性を特徴とし、さらには比較的大きな作動距離を出力窓と光受容体の間に提供する。 - 特許庁

The opening limit annular band 35 is formed near the number of openings NA1 required for recording/reproducing of a CD 41 so that a first laser beam L1 is not converged on a recording surface 41a of a CD 41, but a second laser beam L2 is converged on a recording surface 42a of a DVD 42.例文帳に追加

開口制限輪帯３５は、第１のレーザ光Ｌ１をＣＤ４１の記録面４１ａ上に集光させず、第２のレーザ光Ｌ２をＤＶＤ４２の記録面４２ａ上に集光させるように、ＣＤ４１の記録再生に必要な開口数ＮＡ１付近に形成されている。 - 特許庁

When focus search by a laser for DVD is performed, search upper limit position is made a lower position than the just focus position when the CD is irradiated with the laser beam, also is made a higher position than the just focus position when the DVD is irradiated with the laser beam.例文帳に追加

ＤＶＤ用レーザによるフォーカスサーチの際は、サーチ上限位置を、ＣＤにレーザ光を照射した場合のジャストフォーカス位置よりも低く、かつＤＶＤにレーザ光を照射した場合のジャストフォーカス位置よりも高い位置とする。 - 特許庁

Projection exposure may be performed using the emission side opening as an element light by providing an optical system for condensing a light beam emitted from each core section and introducing a light beam emitted from the condensation light source to the aperture limit mask having an aperture group smaller than the core section.例文帳に追加

各コア部から射出される光線をそれぞれ集光する光学系を設け、該集光光学系の射出光線をコア部より小さい開口群を有する開口制限マスクに導き、射出側開口を要素光源として投影露光しても良い。 - 特許庁

A circuit pattern is used by an electron beam projection exposure method by using the stencil reticle provided with an opening pattern 21 surrounding an island-like central pattern 23 and a support pattern 22 having a pattern width of a resolution limit or less of an electron beam exposure system and supporting the opening pattern 21.例文帳に追加

島状の中心パターン２３を囲む開口パターン部２１と、電子線描画装置の解像限界以下のパターン幅を有し、開口パターン部２１を支持する支持パターン部２２と、を備えたステンシルマスクを用いて、電子線投影露光法により回路パターンを形成する。 - 特許庁

To improve beam quality and efficiency of a solid laser by reducing the influence of the break limit of a laser crystal for improvement of pumping power density.例文帳に追加

ポンピングパワー密度の向上に対するレーザー結晶の破損限界の影響を少なくし、よってビームクオリティの改善と、ダイオードポンピングした固体レーザーの効率向上とを達成させる。 - 特許庁

The electron beams 2 transmitted through the beam limit aperture 6 form the image of the electron radiation surface of the electron source 1 on the forming aperture 7 by a condenser lens 5.例文帳に追加

ビーム制限アパーチャ６を透過した電子線２は、コンデンサレンズ５により、電子源１の電子放出面の像を成型アパーチャ７上に形成する。 - 特許庁

The optical amplifier has a fiber oscillator 10 serving as a laser source, which generates an input beam having a mode close to diffraction limit; a multiple mode fiber amplifier 12; a mode converter 14; and a pump source 20.例文帳に追加

本発明の光学増幅装置は、回折限界に近いモードを持つ入力ビ−ムを発生させるレーザー源としてのファイバー発振器１０と、多重モード・ファイバー増幅器１２と、モード変換器１４と、ポンプ源２０とを有する。 - 特許庁

Recording and reproducing at a high recording density beyond the diffraction limit are performed by irradiating the laser beam having an outgoing wavelength of 400 nm to 550 nm to the above optical recording medium.例文帳に追加

前記光記録媒体に発信波長４００ｎｍ〜５５０ｎｍのレーザ光を照射して、回折限界を超えた高記録密度で記録・再生を行う。 - 特許庁

To form a pit and a groove having a smaller width than the limit of the diameter of a light beam for exposure determined by its wavelength and the aperture of a lens.例文帳に追加

波長とレンズ開口度で決定する露光ビーム径の制限を越えた微小な幅のピットおよび溝を形成することができる光ディスク原盤の製造方法を提供する。 - 特許庁

Electron beams 2 radiated from the electron source 1 are converged into the aperture of a beam limit aperture 6 for determining an aperture angle by a condenser lens 4.例文帳に追加

電子源１から放出された電子線２は、コンデンサレンズ４により、開口角を決定するビーム制限アパーチャ６の開口部に集光される。 - 特許庁

The optical recording medium is irradiated with a laser beam of an oscillation wavelength 400 to 550 nm, by which the recording and reproducing with a high recording density exceeding the diffraction limit are performed.例文帳に追加

前記光記録媒体に発信波長４００ｎｍ〜５５０ｎｍのレーザ光を照射して回折限界を超えた高記録密度で記録・再生を行う。 - 特許庁