「beam limit」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

Each hook shape part of the limiter 20 is engaged with the projection part 6 of the load beam 2 so as to limit the excessive vertical movement of the flexure 8, and has a gap with the projection parts 6.例文帳に追加

リミッタ２０はそのかぎ状部分がロードビーム２の突出部６と係合してフレクシャ８の垂直方向の過度の動きを制限するためのものであるが、突出部６との間には隙間を有している。 - 特許庁

To provide a streaming electrification field evaluation system capable of evaluating the field more accurately and precisely, wherein the lower limit of field measurement may be still lower even when the electrode for a laser beam to penetrate through is short.例文帳に追加

レーザ光が透過する電極長が短くても、電界の測定下限を下げる事が可能となり、より正確・高精度に電界を評価することができる流動帯電電界評価装置を得る。 - 特許庁

To enhance optical efficiency even when a light source is arranged without imposing any limit in a polarization direction or the direction orthogonal thereto with respect to an optical axis of a light beam from the light source.例文帳に追加

光源からの光線の、光軸に対する偏光方向又はその直交方向に制約をつけることなく光源を配置しても、光学効率を挙げることができるようにする。 - 特許庁

This optical amplifier includes: a fiber oscillator 10 serving as a laser source, which generates an input beam having a mode close to diffraction limit; a multiple mode fiber amplifier 12; a mode converter 14; and a pump source 20.例文帳に追加

本発明の光学増幅装置は、回折限界に近いモードを持つ入力ビ−ムを発生させるレーザー源としてのファイバー発振器１０と、多重モード・ファイバー増幅器１２と、モード変換器１４と、ポンプ源２０とを有する。 - 特許庁

To provide a patterning method of an organic film capable of preventing stitching unevenness occurring between widths of laser beams due to limit of beam sizes of a laser.例文帳に追加

レーザのビームサイズ（幅）の限界によるレーザビームの幅間に発生するステッチングむらを防止することができる有機膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fabrication method of a microstructured element which is small in comparison with a process precision limit of lithography technique, and which enables production of beam maintaining high crystallinity.例文帳に追加

リソグラフィー技術の加工精度限界に比べて小さく、かつ、高い結晶性を維持した梁を作製できる、微細構造素子の作製方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a method of manufacturing a single-electron transistor, where the size of a quantum point can be reduced to a level of a few tens of nm exceeding the limit of an electron beam lithography.例文帳に追加

電子線リソグラフィーの限界を超えて量子点のサイズを数十ｎｍの水準まで縮小することが可能な単電子トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical system device of a simple constitution capable of eliminating an influence of the dispersion of the light beam of an image from the surface of an object whose image is picked up, having no limit in dimension and realizing miniaturization.例文帳に追加

撮像する物体の面からの画像の光線の分散の影響を無くすことができ、寸法の制限が無くて小形化の可能な簡易な構成の光学システム装置を提供する。 - 特許庁

Further, in the element concentration measuring instrument, the irradiation current value of the electron beam 6 corresponding to the predetermined concentration measuring lower limit value is calculated on the basis of the measuring time to be displayed and measurement is carried out on the basis of the displayed irradiation current value.例文帳に追加

また、同元素濃度測定装置において、所定の濃度測定下限値に応じた電子線６の照射電流値を、測定時間を基にして求めて表示し、表示された照射電流値に基づいて測定を実行する。 - 特許庁

Also, the light quantity of the laser beam to be incident into a second light-receiving region 49 is compared with a lower limit threshold to detect a substance, and it is determined that the substance is a foreign matter existing on the surface of the substrate 90.例文帳に追加

また、第２受光領域４９に入射するレーザ光の光量と下限閾値とを比較して物体を検出するとともに、当該物体は基板９０の表面に存在する異物と判定する。 - 特許庁

The jack is reconnected to the reaction implement which is provided in the beam or the lower-side column member, and the upper building is made to ascend to the limit of preventing the column member from coming off from the lower-side column.例文帳に追加

梁又は下方側の柱部材に設けた反力治具へジャッキを繋ぎ直し、柱部材が下側柱から抜けない限度に上部建物を上昇させる。 - 特許庁

To achieve a super-resolution reproduction by applying the laser beam of a reproduction wavelength to an optical recording medium having a recording mark of a size smaller than a resolution limit by a reproducing optical system formed therein without significantly increasing its power.例文帳に追加

再生光学系による解像限界よりも小さいサイズの記録マークが形成されている光記録媒体に、再生波長のレーザ光のパワーを大幅に増大させることなく照射して、超解像再生を達成する。 - 特許庁

The locking metal fitting 31 is lowered when reaching a limit position of a stroke of the horizontal jack 13, and is moved backward by separating from the beam 1, and is locked again on a rear projecting part 1e'.例文帳に追加

水平ジャッキ１３のストロークの限界位置に達すると係止金具３１を下降させ、桁１から離脱させて後方に移動し、後方の凸部１ｅ’に再び係止する。 - 特許庁

To provide a film thickness measuring instrument which can limit a measurement area on the surface of a sample at need without specially decreasing the diameter of an incident beam.例文帳に追加

入射ビーム径をことさら絞り込まなくても、試料表面における測定領域を必要に応じて限定することのできる膜厚測定装置を提供すること。 - 特許庁

The light quantity of the laser beam to be incident into the first light-receiving region 48 is compared with an upper limit threshold to detect a substance, and it is determined that the substance is a raised substrate 90.例文帳に追加

第１受光領域４８に入射するレーザ光の光量と上限閾値とを比較して物体を検出するとともに、当該物体は隆起した基板９０と判定する。 - 特許庁

A height level that can eliminate an influence of reflected light from a road surface and is separated from the road surface by a certain distance is set as a laser beam lower-limit height so that the reflected light from the road surface is not incorrectly recognized as the preceding vehicle.例文帳に追加

路面からの反射光を先行車両とは誤認識しないように、路面からの反射光の影響を無視できる、路面からある一定の距離だけ離れた高さ位置をレーザ光下限高さとして設定する。 - 特許庁

When collision shock exceeding the usage limit of the coupler 20 or the shock absorber 30 is operated, a bolt 14 is broken and the holder 10 is slid while being guided by the intermediate beam 3.例文帳に追加

連結器２０又は緩衝装置３０の使用限度を超えるような衝突衝撃力が発生した場合、ボルト１４が破断し、ホルダー１０が中梁３に案内されつつスライドする。 - 特許庁

A moved distance of the stage reaches a deflection limit of the electron beam and the stage is stopped, and information on the number of arrangements of cells in an observation visual field at that position is extracted again.例文帳に追加

ステージの移動距離が電子ビームの偏向限界に達してステージを停止し、再び、その位置での観察視野内のセル配置個数情報を抽出。 - 特許庁

A lower surface of the flexible beam on a cross section vertical to the oscillation axis is formed to protrude downward and have a curved surface in an area positioned above the lower limit regulation part, or an upper surface of the lower limit regulation part on the cross section vertical to the oscillation axis is formed to protrude upward and have a curved surface.例文帳に追加

揺動軸に垂直な断面における可撓梁の下面の形状が、下限規制部の上方に位置する領域において、曲面を有して下方へ突起している形状とされているか、または、揺動軸に垂直な断面における下限規制部の上面の形状が、曲面を有して上方へ突起している形状とされている。 - 特許庁

Meanwhile, the lower limit of the spot size expressed by formula (20) is caused by the fact that a phase modulation function is too coarse for the spot size and a Gaussian beam condensed on the spatial phase modulator is sensitive to a modulation function having a high frequency component, and the lower limit of the spot size is applied to this embodiment because occurring independently of linear dispersion.例文帳に追加

一方で式（２０）で表されるスポットサイズの下限は、スポットサイズに対して位相変調関数が粗すぎて、空間位相変調器上に集光されたガウシアンビームが高い周波数成分をもった変調関数を感じてしまうことに起因しており、線分散とは無関係に生じるため本実施例においても適用される。 - 特許庁

The pair of ultrasonic elements 10, 20 transmits/receives two or more ultrasonic beam patterns having each mutually-different directivity in correspondence with two or more different frequencies (an upper limit and a lower limit or the like) included in a frequency band of the pair of ultrasonic elements 10, 20, and thereby divides the channel width direction into a plurality of detection areas.例文帳に追加

一対の超音波素子１０，２０は、一対の超音波素子１０，２０の周波数帯域に含まれる２以上の異なる周波数（上限及び下限など）に対応して、互いに指向性が異なる２以上の超音波ビームパターンを送受信することにより、流路の幅方向を複数の検出エリアに分割する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam generation device, a charged particle beam irradiation device, and the operation method thereof wherein irradiation time is shorten and medical treatment time is shorten by enabling incidence of charged particle beans to a circular accelerator at an arbitrary timing while maintaining the shortest cycle limit to the operation cycle of a linear accelerator.例文帳に追加

直線加速器の運転周期に対する最短周期制限を維持したまま円形加速器に対する荷電粒子ビームの入射を任意のタイミングで行うことを可能として照射時間を短縮し、治療時間を短くする荷電粒子ビーム発生装置、荷電粒子ビーム照射装置及びそれらの運転方法を提供する。 - 特許庁

A supporting member 32 containing a laser oscillator 30 is fixed on a front face of a holder 5 so that a part or all of laser beam L passes below the cutting blade 10 while a cutting blade part 8 is in the upper limit position, allowing the laser beam L to irradiate the top face of a cutting object 40 without interference by the cutting blade 10.例文帳に追加

ホルダ５の前面にレーザー発振器３０を収納した支持部材３２を固定し、切断刃物部８が上限位置にあるとき、レーザー光Ｌの一部又は全部が切断刃物１０の下方を通過し、切断刃物１０に邪魔されることなく切断材料４０の上面にレーザー光Ｌが照射される。 - 特許庁

To stabilize an uneven pattern equal to or smaller than a diffraction limit by specifying conditions for stably patterning a photoresist layer when utilizing a hyper-resolution for an exposure beam in a method for forming fine patterns with contrast enhancement photolithography.例文帳に追加

コントラスト増強フォトリソグラフィ法で微細パターンを形成する方法において、露光ビームに超解像を利用する際に、フォトレジスト層に安定したパターン形成を行なうための条件を規定することにより、回析限界以下の凹凸パターン形状を安定させる。 - 特許庁

A crystal axis (axis a) in the direction where the maximum value of crystal limit strength is present between crystal axes (axes a and c) of the anisotropic laser crystal is directed along a maximum temperature gradient in the direction of a smaller spread in the pumping beam cross section.例文帳に追加

異方性レーザー結晶の結晶軸（ａ軸、ｃ軸）のうち、結晶極限強さの最大値が存在している方向の結晶軸（ａ軸）が、ポンピングビーム横断面のより小さな拡がりの方向にある最大温度勾配に沿って指向している。 - 特許庁

To limit the output signal level of a photodetecting element within the input range of a signal processing circuit of the post stage even in the case where the optical beam output is made higher at the time of information recording than in reproducing.例文帳に追加

情報記録時の光ビームの出力を情報再生時の光ビームの出力に比べて高くした場合であっても、光検出素子の出力信号レベルを後段の信号処理回路の入力レンジ内に制限できるようにする。 - 特許庁

To provide a multichannel exposure head and an image recording device using it wherein, with no limit on light quantity, the multichannel exposure is performed with sufficient quantity of light beam in all channels with lower device cost and reduction in size.例文帳に追加

光量的な制約が少なく、全チャンネルで十分な光量の光ビームでマルチチャンネル露光を行うことができ、しかも、装置の低コスト化および小型化を実現することができる、マルチチャンネルの露光ヘッド、および、この露光ヘッドを利用する画像記録装置を提供する。 - 特許庁

Fluorescence emission form the phosphors increases per three-, four- or higher dimensional power law, together with excitation intensity, and then makes the laser beam image, to limit not only photobleaching but also the fluorescence light to the vicinity of the focal plane.例文帳に追加

蛍光体からの蛍光放射は、励起強度とともに、３次的に，４次的に又はそれより大きな冪乗の法則で増大し、その結果、レーザ光を結像させることにより、光漂白のみならず、蛍光が焦点面の近傍に限定される。 - 特許庁

To practically limit an opening only by aberration correction even when an objective lens having an opening diameter different from that of a disk is used, and to easily obtain a good beam spot on a signal recording surface during disk playback.例文帳に追加

ディスクに対して開口径が異なる対物レンズを使用する場合でも、収差補正のみで実質的に開口制限も行うことができ、ディスクの再生に際して信号記録面で良好なビームスポットを簡易に得ることを課題とする。 - 特許庁

The optical information recording medium 10 provided with a reproducing layer 3, a heat radiation layer 4, a dielectric layer 2 and a cover layer 1 on a substrate 5 is used for performing super resolution reproduction of a signal of a fine mark length shorter than that of the resolution limit of an optical system of a laser beam.例文帳に追加

光レーザの光学系解像限界を超える微小なマーク長の信号を超解像再生するため、基板５上に、再生層３と、放熱層４と、誘電体層２と、カバー層１とを備えた光情報記録媒体１０を用いる。 - 特許庁

Thus, a tracing position of a main beam is a position where a track pitch is equally divided by m, a recording/reproducing position is selected by a width 1/m of the track pitch, and an optical axis position is adjusted with accuracy higher than a conventional optical limit.例文帳に追加

これによりメインビームのトレース位置はトラックピッチをｍ等分したそれぞれの位置となり、トラックピッチの１／ｍの幅で記録／再生位置を選択でき、従来の光学限界を超えたより高精度な光軸位置の調整ができる。 - 特許庁

To provide an optical recording medium capable of obtaining a C/N ratio (carrier/noise ratio) of a high level in the optical recording medium reading a pit having a size equal to or shorter than the diffraction limit of a laser beam utilizing a super resolution phenomenon to which near-field light is applied.例文帳に追加

近接場光を応用した超解像現象を利用してレーザ光の回折限界以下のサイズのピットを読み取る光記録媒体において、高いレベルのＣＮ比（キャリア・ノイズ比）を得ることのできる光記録媒体を提供する。 - 特許庁

A beam shading magnification and a condenser lens focal distance of the optical head optical system are decided under a condition to specify an upper limit of the astigmatism in addition to an RIM intensity and an optical utilizing efficiency that are conditions to obtain an excellent spot shape.例文帳に追加

光ヘッド光学系において、良好なスポット形状を得るための条件であるＲＩＭ強度および光の利用効率の条件に加え、非点収差の上限を規定する条件を加えて、ビーム整形倍率と集光レンズ焦点距離を決定する。 - 特許庁

An aperture limit filter 15 is provided so as to face the surface on the light source part 1006 side of the objective lens 14 and is so constituted that the aperture of the objective lens 14 may be limited differently between wavelengths λ1 and λ2 of a light beam B, that is, the radius of the objective lens 14 may be different between them.例文帳に追加

開口制限フィルタ１５は、対物レンズ１４の光源部１００６側の面に面して設けられるものであり、光ビームＢの波長λ１、λ２に対応して対物レンズ１４の開口を異ならせて制限するように、すなわち対物レンズ１４の半径を異ならせるように構成されている。 - 特許庁

To provide a measuring method, a photolithography method, a manufacturing method for base material, and an electron beam lithography system which can grasp the influence of a shape after resist development and eliminate the limit of writing precision while accurately grasping an error generated at a border part between writing fields and an error in writing position.例文帳に追加

本発明は、各描画フィールドの境界部分に生じる誤差や描画位置の誤差を正確に測定しながらも、レジスト現像後の形状の影響を把握して描画精度の限界を解消することの可能な測定方法、描画方法、基材の製造方法、および電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

Constant image quality can be obtained up to the use limit of the processing liquid, because an infrared sensor 207 and a controller detect a throughput of photographic paper 40, and the controller controls the intensity of the beam of an optical scanner 204 according to the throughput (deterioration degree of the liquid 20).例文帳に追加

赤外線センサー２０７及び制御装置で印画紙４０の処理量を検出し、処理量（処理液２０の劣化度合い）に応じて制御装置が光走査装置２０４のビームの強度を制御するので、処理液の使用限界まで一定した画像品質を得ることができる。 - 特許庁

Both of the first and the second information recording layers 20 and 40 respectively include reproduction films 21 and 41 which make it possible to reproduce signals shorter in mark length than an optical resolution limit of a reproducing device for performing reproduction by the reproduction light of the blue laser beam and are essential at least for super resolution reproduction.例文帳に追加

第１及び第２情報記録層２０，４０の両層に、それぞれ、青色レーザ光の再生光で再生を行う再生装置の有する光学解像限界より短いマーク長の信号を再生可能とするとともに、少なくとも超解像再生のために必須となる再生膜２１，４１を設ける。 - 特許庁

The aperture size of an aperture 27A which the diaphragm member 27 possesses is set so as to cope with at an outermost light beam MOL passing an outermost part without vignetting by the lens frame 22 out of the luminous flux LB emitted when the light emitting element 23 is set at the limit of the tolerance ΔD of the positional error.例文帳に追加

絞り部材２７が有する開口２７Ａの口径寸法は、発光素子２３が位置誤差許容範囲ΔＤの限界にある時発する光束ＬＢの内、鏡枠２２によってけられることなくその最外部を通過する最外光線ＭＯＬに合わせて設定されている。 - 特許庁

A combination of the advantages of charged particle beam mask fabrication and ultra short pulse laser ablation are used to significantly reduce substrate processing time and improve lateral resolution and aspect ratio of features machined by laser ablation to preferably smaller than the diffraction limit of the machining laser.例文帳に追加

荷電粒子ビーム・マスク製造と超短パルス・レーザ・アブレーションの利点の組合せを使用して、基板の加工時間を著しく短縮し、レーザ・アブレーションによって機械加工されるフィーチャの横方向解像度およびアスペクト比を向上させる、好ましくは機械加工レーザの回折限界よりも小さくする。 - 特許庁

To provide an optical disk device in which it can be prevented that an objective lens is collided to an optical disk, while a movable region of the objective lens can follow wobbling even in an outer periphery of the optical disk, even if the focus of a laser beam is raised to the limit in the recording plane direction of the optical disk, in the inner periphery of the wobbled optical disk.例文帳に追加

面振れ光ディスクの内周でレーザ光のフォーカスを限界まで光ディスクの記録面方向に上げても、対物レンズが光ディスクに衝突することを防止できると共に、光ディスクの外周においても対物レンズの可動域が面振れに追従できるようにした光ディスク装置を提供する。 - 特許庁

The growth of a plant is diagnosed by irradiating the leaf of the plant with a laser beam, measuring the intensity of the generated fluorescence, making a graph of the variation of the fluorescent intensity with time, integrating the fluorescent intensity on the graph and comparing the result with preparatorily determined standard values comprising the normal activation value (NV) and the limit growth value (LB).例文帳に追加

植物の葉にレーザ光線を照射し、発生する蛍光の強度を測定して、時間に対する蛍光強度の変化をグラフ化し、得られたグラフの蛍光強度の積分値を求め、予め求めておいた正常活性値（ＮＶ）と生育限界値（ＬＢ）とである基準値との比較により上記植物の生育を診断する。 - 特許庁

Information can be recorded at a high CNR (Carrier Noise Ratio) by forming a space 28 smaller than at least a resolution limit in a crescent shape when viewed from above and in a convex shape at its side section when viewed from the normal direction of a track 17 by irradiating the super resolution optical recording medium with a laser beam for recording.例文帳に追加

超解像光記録媒体に対して、記録用レーザー光の照射により少なくとも解像限界より小さなスペース２８を、上から見て三日月形状、且つ、トラック１７の法線方向から見た側断面が凸形状となるように形成することによって高ＣＮＲ（Ｃarrier Ｎoise Ｒatio）で情報を記録できる。 - 特許庁

The rib functions as a beam to prevent the panel from bulging caused by the weight of the content filled at ordinary temperature, and limit the bulging of the panel surface caused by a pressure increase in the container during warming by a hot warmer to the extent that the bulging does not project a part of the label attached to the barrel to heavily damage the appearance of the packaging container.例文帳に追加

リブは梁の役目をし常温充填した内容物の自重によりパネル部が飛び出すのを防止し、またホットウォーマーによる加温中に容器内の圧力が高まることによるパネル面の膨らみを、胴部に装着したラベルの一部を外方へ突出させて包装容器の外観を著しく損なうことのない程度に抑える。 - 特許庁