「etching process」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

After laminating respective layers 19-21, the etching process is carried out until the front surface of the silicon insulating film 18 is exposed.例文帳に追加

そして、各層１９〜２１を積層した後、シリコン絶縁膜１８の表面が露出するまでエッチング処理する。 - 特許庁

The etching pits can be formed uniformly and at high density even through a non-electrolytic process, and the treatment at reduced costs is made possible.例文帳に追加

無電解によってもエッチングピットを均一かつ高密度に生成させることができ、低コストでの処理が可能になる。 - 特許庁

When the aperture is formed within the square light receiver surrounded by a wiring structure, etching process is conducted except for the angled portions.例文帳に追加

配線構造に囲まれた四角形の受光部の内部に開口部を形成する際、角部を除いてエッチングを行う。 - 特許庁

In another embodiment, a chemical etching process is used to smooth out damage on the slanted side surface of a separate die.例文帳に追加

別の実施形態は、化学エッチングプロセスによって、個別ダイの傾斜した側面に対する損傷を滑らかにする。 - 特許庁

A dry-etching method is used for the process to cut out the semiconductor substrates from the semiconductor wafer to suppress a slant of the lateral side.例文帳に追加

半導体ウエハから斯様な半導体基板を切り出す工程にはドライエッチングを用い、側面の傾斜を抑える。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, capable of suppressing the generation of polymer residue and variation in etching process.例文帳に追加

ポリマー残渣の発生と、エッチングプロセスの変動を抑制することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The above cell is additionally irradiated with ultraviolet rays at a previously selected level to make an etching process high in uniformity.例文帳に追加

上記電池はエッチングプロセスの均一性を与える予め選択されたレベルの紫外線を付加的に照射される。 - 特許庁

In addition, the processing method for board has the process of etching the board 101 from the rear surface through the guidance hole.例文帳に追加

さらに、基板の加工方法は、裏面から先導穴を通じて基板１０１に対してエッチングを行うことを有する。 - 特許庁

A post-etch treatment system is described for removing photoresist remnants and etch residues formed during an etching process.例文帳に追加

エッチングプロセス中に形成されるフォトレジストおよびエッチング残渣を除去するエッチング後の処理システムは、記載されている。 - 特許庁

A substrate is placed within a plasma chamber and subjected to an alternating cyclic process including an etching step and a depositing step.例文帳に追加

基板がプラズマチャンバ中に置かれ、エッチングステップ及び堆積ステップを有する交互の周期的なプロセスにかけられる。 - 特許庁

As a result, an etching process with respect to a silicon substrate of a wafer W by a fluorine radical is stopped, thereby improving the selection ratio.例文帳に追加

その結果、フッ素ラジカルによるウエハＷのシリコン下地に対するエッチングの進行が停止し、選択比が向上する。 - 特許庁

A wet etching process using an etchant containing at least hydrochloric acid and acetic acid is applied to the grown InP layer.例文帳に追加

成長されたＩｎＰ層に、少なくとも塩酸と酢酸とを含むエッチャントを使ったウェットエッチング工程を適用する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a low resistance metal wiring, consisting of only wet-type film forming process with few etching processes.例文帳に追加

湿式成膜プロセスのみから成ってエッチングプロセスが少なく低抵抗な金属配線の製造方法を提供する。 - 特許庁

It is preferable that the doped quartz glass part is formed to constitute a part being exposed to a plasma gas in a dry etching process.例文帳に追加

前記ドープ石英ガラス部分が、ドライエッチング工程のプラズマガスに被曝する部分に構成されることが好ましい。 - 特許庁

To obtain a method for fabricating an embedded integrated circuit, using decreased number of masking levels and an improved etching process.例文帳に追加

埋込み集積回路を減少した数のマスキング・レベルと改善エッチング・プロセスで以て製作する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching removal method and a device of an unnecessary layer capable of surely removing the unnecessary layer by a simple process.例文帳に追加

簡単な工程で確実に不要層を除去できる不要層のエッチング除去方法及び装置を提供する。 - 特許庁

When an etching process is finished, a wafer frame F is supplied from a wafer frame supply section 18 to a mounting section 16.例文帳に追加

エッチング処理が終了すると、ウェーハフレーム供給部１８からマウント部１６にウェーハフレームＦが供給される。 - 特許庁

A predetermined area the active region is oxidized and then etched by a dry oxide etching process to remove the oxide in the trenches.例文帳に追加

作動領域の所定領域を酸化し、乾式酸化物エッチング法によりエッチングして溝の酸化物を除去する。 - 特許庁

To simplify a process in etching a wiring structure layer etc. on a light emitter of an optical detector to form an opening.例文帳に追加

光検出器の受光部上の配線構造層等をエッチングして開口部を形成する際の工程を簡素化する。 - 特許庁

To measure the actual etching depth and the residual film amount of a layer to be treated precisely in an on-line manner and to decide the end point of a process.例文帳に追加

被処理層の実際のエッチング深さや残膜量をオンラインで正確に測定しプロセスの終点を判定する。 - 特許庁

The process is carried out through wet etching, so that batch processing can be performed, a processing time can be shortened, and throughput can be improved.例文帳に追加

また、ウエットエッチングであるので、バッチ処理が可能で、これにより処理時間の短縮が図れ、スループットも高められる。 - 特許庁

In an etching process, an optimum formation condition of a via-hole is obtained from a combination of selection of a semiconductor material and an etchant parameter.例文帳に追加

エッチングプロセスは、半導体材料の選択とエッチャントパラメータとの組み合わせから、ビアホールの最適な形成を得る。 - 特許庁

To provide a precise and efficient etching process to fabricate a FeRAM cell with high memory densities and high throughput.例文帳に追加

ＦｅＲＡＭセルを高密度かつ高スループットで製造するには、精密かつ効率的なエッチングプロセスが必要である。 - 特許庁

To automatically prevent a semiconductor product from being damaged by abnormal discharge that occurs in a plasma etching process at the time of manufacturing the product.例文帳に追加

半導体製品製造時、プラズマエッチング工程で発生する異常放電による被害を自動的に防止する。 - 特許庁

An etching device supplies an etchant to a coating layer coating a main surface of a substrate to process the coating layer.例文帳に追加

エッチング装置は、基板の主表面を被覆する被覆層にエッチング液を供給して被覆層を加工する装置である。 - 特許庁

An alternative to this method includes a step to join the two wafers with the device layer and a step to subject the separating function to an etching process.例文帳に追加

代替方法は、１対のウェハをデバイス層に接合するステップと、次いで分離機能をエッチングするステップを含む。 - 特許庁

To enable plasma to be quickly stabilized in a process of etching an Si film layer with use of Cl2.例文帳に追加

Ｃｌ_2でＳｉ膜層をエッチングするプロセスで，迅速にプラズマを安定させることが可能なプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ink jet head excellent in characteristics, and a manufacturing method thereof, by performing etching process well.例文帳に追加

エッチング工程を良好に行なうことにより、特性に優れたインクジェットヘッドおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

For the process for patterning the crystal element, a wet etching method is used for solving problems.例文帳に追加

また、上述する水晶素子にパターンニングする工程にはウェットエッチング工法を用いることにより課題を解決する。 - 特許庁

This method to manufacture these spacers does not need an additional deposition, excessive lithography process, and an additional etching.例文帳に追加

これらのスペーサを製造する本方法は、追加の付着，余分なリソグラフィ工程，および追加のエッチングを必要としない。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a semiconductor optical modulator which forms mesa stripes by a technique taking place of etching.例文帳に追加

エッチングに代わる手法で、メサストライプを形成するようにした、半導体光変調器の作製方法を提供する。 - 特許庁

A process for forming a resist structure 12 is executed by removing the first metals 13a to 13d by etching.例文帳に追加

第１の金属１３ａ〜１３ｄをエッチングにより除去して、レジスト構造体１２を形成する工程を実施する。 - 特許庁

To obtain a capacitor having excellent electrostatic capacitance per unit area by effectively increasing a roughening ratio in an electrolytic etching process.例文帳に追加

電解エッチング時の粗面化率を効果的に上昇させて単位面積当たりの静電容量に優れたコンデンサを得る。 - 特許庁

To provide a dry etching process using a selective polymer mask formed by CO gas on a photoresist pattern.例文帳に追加

フォトレジストパターン上にＣＯガスによって形成された選択的ポリマーマスクを使用する乾式エッチング方法を提供する。 - 特許庁

Then a via hole is formed in the Si substrate by using a semiconductor process until the etching stopper film is exposed.例文帳に追加

次に、前記Ｓｉ基板中にビアホールを、半導体プロセスを使って前記エッチングストッパ膜が露出するまで形成する。 - 特許庁

The etching block gas introduction tube 118 and the process gas introduction tube 120 can be provided in an upper electrode 106.例文帳に追加

エッチング阻止ガス導入管１１８およびプロセスガス導入管１２０は、上部電極１０６内に設けることができる。 - 特許庁

A contact hole 105 is formed in a silicon oxide film 102 by the plasma etching process, with the amorphous carbon film 103 as a mask.例文帳に追加

このアモルファスカーボン膜１０３をマスクとして、プラズマエッチングにより、シリコン酸化膜１０２にコンタクトホール１０５を形成する。 - 特許庁

More specifically, a storage section 850 stores a target value as a control value in applying etching process to a wafer W.例文帳に追加

具体的には、記憶部８５０は、ウエハＷにエッチング処理を施すときの制御値となる目標値を記憶する。 - 特許庁

To realize a preparation method of a planar display panel capable of satisfactorily masking in an etching process.例文帳に追加

エッチング工程におけるマスキングが良好に行える平面型表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Since a space is widely formed in the spiral elastic arm, it is easily manufactured by an etching process etc.例文帳に追加

また螺旋状の弾性腕の間に空間が広く形成されているため、エッチング工程などによって製造しやすい。 - 特許庁

To provide a process monitoring method, which is capable of easily and accurately monitoring the state of a process (film forming, etching, and cleaning) carried out by a thin-film manufacturing apparatus, and to provide the thin-film manufacturing apparatus.例文帳に追加

薄膜製造装置を用いたプロセス（成膜、エッチング及びクリーニング）の状態を簡易かつ正確に監視し得るプロセスモニタリング法及び薄膜製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electro-optic device which is capable of efficiently performing an etching process step and an ashing process step, an electro-optic device and an electronic apparatus.例文帳に追加

エッチング工程およびアッシング工程を効率よく行うことのできる電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供すること。 - 特許庁

As an insoluble film, the main component of which is copper oxide, is formed on the surface of the external layer pattern in this process, and soft etching is performed immediately after the process to remove the film (#6).例文帳に追加

このとき外層パターンの表面に酸化銅を主成分とする難溶性の皮膜が形成されるので，その直後にソフトエッチングを行い，その皮膜を除去する（＃６）。 - 特許庁

Instead of a normal subtractive etching method, a multi-mesa FET structure forming method using a Damascene method gate process or a Damascene method alternate gate process is included.例文帳に追加

通常の減法エッチング法の代わりに、ダマシン法ゲート・プロセスもしくはダマシン法代替ゲート・プロセスを用いるマルチ・メサ型ＦＥＴ構造を形成する方法を含む。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electrooptical device for efficiently carrying out a scum removal process and an etching process, and to provide an electrooptical device and a electronic equipment.例文帳に追加

スカム除去工程およびエッチンング工程を効率よく行うことのできる電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供すること。 - 特許庁