| 意味 | 例文 |
fine patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2995件
To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency for radiation, excellent basic performances as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching durability, pattern profile, and suitable as a chemical amplification type resist having high resolution property in a fine pattern region.例文帳に追加
放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本性能に優れるとともに、微細パターン領域での高い現像性を有する化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a method for simultaneously realizing a patterning technique capable of forming a large area pattern at a low cost and a fine patterning technique capable of forming a small feature pattern as a method for forming a patterned thin film layer for IC that can be utilized in manufacture of a large area electronic device.例文帳に追加
大面積の電子装置の製造に利用できるパターニングされたIC用薄膜層の形成方法として、安価に大面積のパターンを形成できるパターニング技術と、小さな特徴パターンを形成できる微細パターニング技術と、を同時に実現する方法を提供する。 - 特許庁
When a stencil base sheet 3 is placed on the surface 2a of the file 1 and drawn by a writing instrument or the like, a synthetic resin film 3b of the sheet 3 is effected by a pressure by writing in a pattern corresponding to the pattern drawn on a porous support 3a, and hence many fine pores are formed.例文帳に追加
この製版用ヤスリ1の表面2aに孔版原紙3を載せて筆記具等で描画すると、孔版原紙3の合成樹脂フィルム3bは、多孔性支持体3aの上に描かれたパターンに対応したパターンで筆記による圧力を受け、多数の微細な穿孔が形成される。 - 特許庁
To provide a resist composition for negative development excellent in line width variation (LWR), exposure latitude (EL) and focal depth allowance (DOF) in order to stably form a high accuracy fine pattern for the manufacture of a highly integrated and high accuracy electronic device, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加
高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an embossing apparatus capable of certainly forming a fine embossed surface on a sheet-like material, capable of setting the embossed pattern applied to the sheet-like material to a desired pattern as a result and capable of suppressing the occurrence of positional shifts between respective embossed shapes.例文帳に追加
シート状材料に微細凹凸面を確実に形成することができ、その結果シート状材料に付けられる凹凸模様を所望の模様とすることができ、さらに、各凹凸形状間に位置ズレが生じることを抑止することができるエンボス加工装置を提供すること。 - 特許庁
To provide an ITO transparent conductive pattern film and its manufacturing method equipped with fine patterns with both transparency and conductivity, as well as photosensitive coating liquid for transparent conductive film formation capable of manufacturing the ITO transparent conductive pattern film with ease and at low cost.例文帳に追加
本発明の目的は、透明性と導電性を兼ね備えた微細なパターンを有するITO透明導電パターン膜とその製造方法、及びそのITO透明導電パターン膜を低コストかつ簡便に製造できる透明導電膜形成用感光性塗布液を提供することにある。 - 特許庁
To provide a photomask blank capable of forming a pattern high in sensitivity and superior in resolution, and to provide a photomask which is prepared by using the photomask blank and is superior in film strength of a light shielding film and resistance to a solvent in mask cleaning even when having a fine pattern such as narrow lines.例文帳に追加
本発明は、高感度で、解像度に優れたパターンを形成しうるフォトマスクブランクス、及び前記本発明のフォトマスクブランクスを用いてなり、細線等の微細パターンを有するものであっても、遮光膜の膜強度とマスク洗浄の溶剤に対する溶剤耐性に優れたフォトマスクを提供する - 特許庁
The film is formed by electrifying the light-transmitting pattern region of the photomask substrate, electrifying the mist of a photocatalyst solution into the opposite polarity, making the mist fly to the photomask, vaporizing the solvent in the mist during flying, and depositing the photocatalyst fine particles on the light-transmitting pattern region.例文帳に追加
フォトマスク基板の光透過パターン領域を帯電させ、光触媒溶液のミストを逆極性に帯電させて前記フォトマスクに向けて飛翔させ、ミスト中の溶媒を飛翔中に蒸発させて前記光透過パターン領域に光触媒微粒子を付着させて成膜する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device that can achieve efficient wiring without using any expensive board having a number of layers when mounting a semiconductor electronic component that has a connection terminal connected to a thick wiring pattern and a narrow pitch on a multilayer interconnection board where merely one fine pattern can pass between lands.例文帳に追加
太い配線パターンにつながる接続端子を有し、かつ、狭ピッチな半導体電子部品を、ランド間にファインパターンが1本しか通らない多層配線基板に実装する場合に、層数の多い高価な基板を用いなくとも、効率よく配線することを可能にした半導体装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for accurately measuring the trial of the cuff of a fine pattern, and also to provide a semiconductor device manufacturing control system for deciding the processing accuracy on the basis of shape information, such as the height of pattern, tapering angle, amount of trail, and roughness.例文帳に追加
微細パターンのボトム部の裾引き形状を正確に計測する方法および計測装置を提供するとともに、パターン高さ、テーパー角、裾引き量およびラフネス等の形状情報に基づいて加工精度を判定する半導体デバイスの製造管理システムを提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing a mold for nano-imprints, which forms a metal mold by reproducing a pattern on a resin layer when the production of a resin reproduction plate by methods such as an imprint while utilizing a high degree of freedom of the shape of a fine pattern using a silicon etching master is difficult.例文帳に追加
シリコンエッチングマスタを用いることによる微細パターン形状の自由度の高さを活かしつつ、インプリント等の方法で樹脂複製版を作製するのが困難な場合に、樹脂層にパターンを複製して金属モールドを形成するナノインプリント用モールドの製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a resist composition excellent in transparency to radiation and dry etching resistance and capable of forming a resist pattern excellent in resolution, sensitivity, flatness and heat resistance, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device with a fine pattern having a high degree of integration using the resist composition.例文帳に追加
放射線に対する透明性、ドライエッチング耐性に優れ、解像度、感度、平坦性、耐熱性に優れるレジストパターンを形成できるレジスト組成物、ならびに、該レジスト組成物を用いる微細で集積度の高いパターンを持つ半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁
To obtain a method of producing a fine pattern which has excellent transfer printing e and high pattern accuracy; is capable of performing transfer- printing at high alignment accuracy using a master with a light transmission part; has high fineness and high density; and is capable of mass-producing with a high yield, and a printed wiring board using the method.例文帳に追加
転写性に優れ、パターン精度が高く、光透過部を有したマスター版を使用してアライメント精度よく転写することができ、高精細で高密度で、そして歩留り良く量産可能な微細パターンの製造方法およびそれを用いたプリント配線板を提供することを目的とする。 - 特許庁
The method for manufacturing the diffraction optical element comprises transferring a shape of a die 7 with a diffraction pattern to a resin material 8 and releasing the solidified resin material 8 without deformation of the fine shape of projecting and recessing parts constituting the diffraction pattern.例文帳に追加
回折パターンを有する型7の形状を樹脂8材料に転写することにより、回折光学素子を製造するための回折光学素子の製造方法であって、回折パターンを構成する凹凸の微細形状を変形させることなく、固化した樹脂材料8を離型させる。 - 特許庁
To provide a semiconductor device which suppresses deterioration of resolution and a depth of focus caused when forming a fine wiring pattern using optical lithography in a connection region between regions where wiring pitches are different, reduces possibilities of occurrence of disconnection and a short circuit of the wiring pattern, and attains high integration.例文帳に追加
配線ピッチが異なる領域間の接続領域における光リソグラフィを用いた微細な配線パターンを形成する時の解像度や焦点深度の悪化を抑制し、配線パターンの断線やショートが発生する可能性を低減し、高集積化が可能となる半導体装置を提供する。 - 特許庁
A correction similar to the correction of irradiated region with respect to the pattern matching processing from the usual secondary ion image or secondary electron image of the ion beam defect correcting device is performed and a defect region 3b which is extracted by the AFM and is subjected to fine adjustment by the conformation of the pattern for alignment is corrected by ion beams 8.例文帳に追加
イオンビーム欠陥修正装置の通常の二次イオン像もしくは二次電子像からのパターンマッチング加工に対する照射領域の補正と同様な補正を行い、AFMで抽出し、位置合わせ用のパターンの合わせ込みで微調整された欠陥領域3bをイオンビーム8で修正する。 - 特許庁
To provide a conductor-wiring substrate, that has improved adhesion properties to the insulation substrate of a wiring pattern and has an improved yield, even if a fine wiring pattern is formed, a transfer medium for transferring conductor wiring to the insulation substrate of the conductor wiring substrate, and a method for easily manufacturing them.例文帳に追加
配線パターンの絶縁基板への密着性が優れ、微細配線パターンを形成しても、歩留まりの良好な導体配線基板、当該導体配線基板の絶縁基板に導体配線を転写するための転写媒体、及びこれらを容易に製造する方法を提供する。 - 特許庁
To obtain a high density power module capable of using an existing printed board capable of forming an independently island-like wiring pattern while using a lead frame, by limiting to a place need to radiate and forming a fine wiring pattern at a place not so needed to radiate.例文帳に追加
放熱が必要な場所に限定してリードフレームを用いながら、独立した島状の配線パターンを形成することができ、しかも放熱をそれほど必要としない場所には、微細配線パターンを形成することができる既存のプリント基板を用いることのできる高密度なパワーモジュールを得る。 - 特許庁
The capacitor of such a non-contact type IC card can be manufactured by simultaneously forming a fine line capacitor pattern, the coil 13 and antenna coil connection terminals 141 and 142 on an antenna substrate 121A, covering the capacitor pattern with an insulating layer and further providing a conductive plate.例文帳に追加
このような非接触型ICカードのコンデンサは、アンテナ基板121Aに細線のコンデンサパターンとアンテナコイル13とアンテナコイル接続端子141,142を同時に形成し、コンデンサパターンを絶縁層で被覆し導電プレートをさらに設けることにより製造することができる。 - 特許庁
To provide a coating liquid for forming a silica-based film not suffering troubles caused by gas evolution in a thermal treatment, having excellent shalf stability and exhibiting excellent planarity sufficient to cope with formation of a fine circuit pattern.例文帳に追加
熱処理時のガス発生に起因するトラブルのない、しかも保存安定性の良好な、微細配線パターンの形成に十分に対応できるシリカ系被膜形成用塗布液を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a composite material, which allows a high flexibility in designing a conductive circuit and allows an easy formation of a conductive section having a fine pattern, without causing deterioration in an insulator.例文帳に追加
導電回路設計の自由度が高く、また、絶縁体のい劣化を生ず微細なパターンを有する導電部を容易に形成することのできる複合部材の製造方法を提供する。 - 特許庁
To form a colored layer having satisfactory color purity and a black matrix having a satisfactory light blocking effect with good pattern accuracy, and to obtain a color filter in which a colored layer and a black matrix can be made fine.例文帳に追加
十分な色純度を有する着色層、及び十分な光遮蔽性を有するブラックマトリクスがパターン精度良く形成され、着色層及びブラックマトリクスの微細化が可能なカラーフィルタを得る。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a titanium stock for a target having both a microstructure with a fine and uniform grain size and a macrostructure of excellent surface properties of the titanium stock with no surface pattern.例文帳に追加
結晶粒度が微細で均一なミクロ組織と、チタン材の表面が無模様で表面性状に優れたマクロ組織とを兼ね備えたターゲット用チタン素材を製造する方法を提供する。 - 特許庁
The surface 21 of a reflection body 20a has a fine rugged pattern 25 composed of a reflection region 31 where a reflecting member is easily formed and a non-reflection region 32 where a reflecting member is hardly formed.例文帳に追加
反射体20aの表面21の微細な凹凸25を反射材が成形されやすい形状の反射領域31と、反射材が成形され難い形状の非反射領域32とで形成する。 - 特許庁
To provide an organic insulating film which enables a fine pattern process and can improve the electric performance of a transistor because it has a chemical resistance against the organic solvent used in the photo lithography process.例文帳に追加
フォトリソグラフィ工程中に使用される有機溶媒に耐化学性を有するので、微細パターン工程を可能とし且つトランジスタの電気的性能を向上させることが可能な有機絶縁膜を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing an image display panel for forming a fine rugged pattern on the surface of a substrate or the like and for decreasing the driving voltage of an image display medium.例文帳に追加
基板等の表面に良好な微細凹凸形状を形成でき、それにより画像表示媒体の駆動電圧を低下させることのできる画像表示用パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an apparatus for press bonding a film which can obtain a fine pattern by preventing the generation of hurts in the resin film and eliminating the interception of light by hurts when a photosensitive insulating resin layer is exposed by a photolithography method.例文帳に追加
樹脂フィルムに発生するキズを防止して、感光性絶縁樹脂層にフォトリソグラフィ法で露光するとき、キズによる光の遮りをなくし、ファインなパターンが得られるフィルム圧着装置を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a device, the device, and an electronic apparatus highly precisely forming a line width when forming a fine pattern on a substrate using a droplet delivery device.例文帳に追加
液滴吐出装置を用いて基板上に微細なパターンを形成する際、その線幅などを精度よく形成することができるようにした、デバイスの製造方法、さらにはデバイス、及び電子機器を提供する。 - 特許庁
To suppress the generation of particles to be the cause of fine pattern formation defects and to improve the yield of a semiconductor device without lowering productivity when forming a high density plasma CVD film.例文帳に追加
高密度プラズマCVD膜を形成する際に、生産性を低下させることなく、微細パターン形成不良の原因となるパーティクルの発生を抑制し、半導体デバイスの歩留りを向上する。 - 特許庁
The fabric has a fine and dense background having small closely-spaced holes, enabling a highly accurate pattern suitable for a wide range of underwear and hosiery products.例文帳に追加
生地は、広範囲の下着および靴下製品に適した高度に精密なパターンを可能とする小さな、密接に間隔のあけられた穴を有する微細で密な背景を持っていることを特徴としている。 - 特許庁
To provide a photosensitive composition which has good dispersibility, enables uniform film formation even in the case of a thin film, and fulfills an adequate function as an insulating layer with a fine pattern.例文帳に追加
分散性が良好で、薄膜であっても均一な膜形成が可能であり、かつ、微細なパターンを有する絶縁層として十分な機能を発現する感光性組成物を提供すること - 特許庁
To obtain an electroconductive resin composition capable of patterning a fine shape and forming an electroconductive resin film having heat resistance, solvent resistance and mechanical strengths, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加
微細な形状にパターニングすることができ、耐熱性、耐溶剤性、及び機械的強度を有する導電性樹脂膜を形成しうる導電性樹脂組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
In constitution like this, and an optional angle can be set by less key operation and a fine angle can be set with the key 85a, thereby a subtle rotation pattern can be expressed and sewn.例文帳に追加
このような構成では、任意の角度を少ないキー操作で設定することができ、また、キー85aにより微小角度を設定でき、微妙な回転模様を表現して縫製することができる。 - 特許庁
To provide a method with which the acidity of an organic antireflective film can easily be evaluated in development of a process of forming an organic antireflective film and forming a fine resist pattern using chemical amplification resist.例文帳に追加
有機反射防止膜を形成し、化学増幅レジストを使用した微細レジストパターン形成のプロセス開発において、簡便に有機反射防止膜の酸性度を評価することができる方法を提供する。 - 特許庁
To provide a colored photosetting resin composition for color filter fabrication capable of stably producing a fine pattern without reducing strength of a photoset film even under a high illuminance condition such as digital exposure.例文帳に追加
デジタル露光のような高照度条件下でも、光硬化した膜の強度が低下することなく、微細パターンの安定製造が可能なカラーフィルタ作成用の光硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a mask data generation method enabling shortening of mask drawing time and creation of high-quality mask with a fine pattern, and a mask manufacturing method using the mask data generation method.例文帳に追加
マスク描画時間を短縮して、微細パターンを有する高品質のマスクを作製することができるマスクデータ生成方法及びこのマスクデータ生成方法によるマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁
Fine diamond abrasive grains are electrodeposited on the upper plane 14 of the pedestal 10, and an abrasive grain layer 18 is formed on the upper plane 14 in a predetermined pattern to obtain a dresser 20 for polishing pad.例文帳に追加
台座10の上平面14に微細なダイヤモンド砥粒を電着し、上平面14上に砥粒層18を所定パターンで形成し、本発明の研磨パッド用ドレッサー20が完成する。 - 特許庁
To provide a thin-film pattern substrate with which the thin-film patterns of a fine wire shape can be stably formed with satisfactory accuracy, a method for manufacturing the device, and an electrooptical device, and an electronic device.例文帳に追加
細い線状の微細な薄膜パターンが精度良く安定して形成することができる薄膜パターン形成基板、デバイスの製造方法、及び電気光学装置、並びに電子機器を提供する。 - 特許庁
To provide a near-field exposing method with which the pattern of a fine opening formed on an exposure mask can be accurately and efficiently exposed, with proximity EB lithography, to 1:1 with respect to an object to be exposed.例文帳に追加
露光用マスク上に形成された微小開口のパターンを、被露光物に対して正確に効率よく、1:1に等倍露光することが可能となる近接場露光方法を提供する。 - 特許庁
To create art work data for an anisotropic reflecting medium in which discontinuity in anisotropic reflection is inconspicuous at a point of large curvature or a point where an inclination of a fine striation pattern varies drastically, and which is elaborately designed.例文帳に追加
曲率の大きい箇所や微細条溝パターンの傾きが極端に変化する箇所で異方性反射の不連続が目立たず、意匠性の高い異方性反射媒体の版下データを作成する。 - 特許庁
Namely, the droplet 31 is only applied to the enlarged recess 21 having larger area to fill the groove 20 having the narrow width with the liquid 32, so the fine pattern can be easily formed on the base 2.例文帳に追加
つまり、面積の大きい拡大凹部21に液滴31を着弾させるだけで、幅が狭い溝20に液体32を充填できるため、基材2に微細なパターンを容易に形成することができる。 - 特許庁
To provide an ornament body in which fine lenses are formed and arranged with high precision and which presents a pattern by visual effect in which directionality is accurately controlled.例文帳に追加
本発明の解決しようとする課題は、微細なレンズが精度よく形成配列され、正確に方向性が制御された視覚効果による模様を現出する装飾体を提供しようとするものである。 - 特許庁
To provide a curing composition for transfer materials, which is suitable for a nanoimprint method in which selectivity of a dry etching speed with argon gas and oxygen gas is high, and which is capable of forming a fine pattern with a high throughput.例文帳に追加
アルゴンガスと酸素ガスでのドライエッチング速度の選択性が高く、高いスループットで微細パターンを形成することができるナノインプリント法に好適な転写材料用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an ink composition for forming a fine pattern, which is capable of accurately forming a desirable image for various electronic components by a relief reversal printing method and is excellent in film hardness.例文帳に追加
各種電子部品として所望される画像を、凸版反転印刷法により正確に形成することができるとともに、膜硬度に優れる微細パターン形成用インキ組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a fine pattern forming method which obviates the occurrence of the deterioration in dimensional accuracy by the influence of reflected light, etc., from a light shielding body surface in projection exposing using a phase shift mask having high phase angle controllability.例文帳に追加
位相角制御性の高い位相シフトマスクを用い投影露光時に遮光体面からの反射光等の影響による寸法精度劣化の生じない微細パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a wideband dual-polarization antenna with a slot pattern that can produce vertical polarized energy near the horizon and can scan at a high accuracy fine angle.例文帳に追加
本発明の目的は、水平に近い状態で垂直偏波エネルギーを生成することが可能で、ほぼ微少角での走査が可能なスロットパターンを有する広帯域二重偏波アンテナの提供である。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a color filter for a reflection display by which a large screen, fine pixels, excellent smoothness and high latitude for pattern arrangement are obtained and the thickness of the color filter can be controlled.例文帳に追加
大画面であり、画素が細かく、平滑性に優れた、パターン配置の自由度が高く、カラーフィルタの厚さの制御が可能になる反射ディスプレイ用カラーフィルタを製造する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a laser beam machining device and a machining method therefor for forming a nano structure having a predetermined ultra-fine pattern on a workpiece, and evaluating the machined shape of the nano structure in a short period of time.例文帳に追加
加工対象物に所定の超微細パターンを有するナノ構造物を作製し、ナノ構造物の加工形状の評価を短時間で行うレーザ加工装置及びレーザ加工方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a bonding method of bonding two base members together through a bonding film having a fine pattern formed at a low cost, and to provide a bonded body with the bonding film which is formed using the above bonding method.例文帳に追加
2つの基材同士を、低コストで微細な形状にパターニングされた接合膜で接合する接合方法、かかる接合方法で接合された接合膜を備える接合体を提供すること。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of member having antireflective structure for easily manufacturing an antireflective structure having an extremely fine pattern of submicron pitch by using an X-ray lithography.例文帳に追加
サブミクロンピッチの非常に細かなパターンを有する反射防止構造体を、X線リソグラフィを用いて容易に製造するための反射防止構造体を有する部材の製造方法を提供する - 特許庁
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