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first processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5620件
In the method for treating the steelmaking slag, a second process for stirring the molten steelmaking slag 100 added with CaO-containing material 110 is carried out after a first process for adding the CaO-containing material 110 into the molten steelmaking slag 100.例文帳に追加
本発明に係る製鋼スラグの処理方法においては,溶融製鋼スラグ100にCaO含有物質110を添加する第1工程の後に,CaO含有物質110が添加された溶融製鋼スラグ100を撹拌する第2工程が行われる。 - 特許庁
Then the silicon compound is etched at a high speed, under a condition suitable for the formation of sidewalls 7 in a first etching process, and when a etching time measured in advance has elapsed immediately before the silicon surface of the compound is exposed, the etching of the compound 16 is switched to a second etching process.例文帳に追加
このシリコン化合物を、第1のエッチング処理工程で、高速でサイドウォール17の形成に適した条件でエッチング処理し、シリコン面が露出する直前で、あらかじめ測定したエッチング時間が経過すると第2のエッチング処理工程に切り換える。 - 特許庁
Then, it is so constructed that the protruded parts 16 of the electrode members 12, 12 first contact the sub-contact portion 27 of the short circuit terminal member 23 in an engagement process and is separated lastly from the sub-contact portion 27 of the short circuit terminal member 23 in a separating process.例文帳に追加
そして、電極片12,12の突出部16が嵌合過程では短絡端子片23の副接触部分27と最初に接触し、離脱過程では同じく短絡端子片23の副接触部分27と最後に離間するよう構成されている。 - 特許庁
In this ice making machine 10, a first cleaning process for supplying ice-melting water from a water supply mechanism 30 to a top face 24a of the water tray 24 is started in a process for lowering the water tray 24 from the ice making chamber 22 and opening the ice making chamber 22 in the deicing operation.例文帳に追加
製氷機10は、除氷運転において、水皿24を製氷室22から下降して製氷室22を開放する過程で、水皿24の上面24aに給水機構30から融氷水を供給する第1洗浄工程を開始する。 - 特許庁
A communication and timing controller 20 performs control so that, in a first process, the voltage comparator 252 performs a comparison operation on a reset component with the counter 254 performing a down-counting operation, and so that, in a second process, the voltage comparator 252 performs the comparison operation on a signal component with the counter 254 performing an up-counting operation.例文帳に追加
通信・タイミング制御部20は、1回目は電圧比較部252でリセット成分を比較処理しカウンタ部254がダウンカウントする一方、2回目は電圧比較部252で信号成分を比較処理しカウンタ部254がアップカウントするように制御する。 - 特許庁
When there is an access from the cellular phone or the like via the second QR code, the server executes an authentication process based on the data registered in the registration process of the first QR code and, when the authentication is succeeded, stores the game history information contained in the second QR code.例文帳に追加
また、サーバは、第2QRコードを介して携帯電話等からアクセスがあると、第1QRコードの登録処理で登録されたデータに基づいて認証処理を行い、認証が成功すると、第2QRコードに含まれた遊技履歴情報を記憶する。 - 特許庁
After the surface of a substrate 1 is spin-coated with a positive photosensitive resist and a circuit pattern forming spot and a through hole forming spot are exposed on this positive photosensitive resist in a first exposure process, only a through hole 1a and neighboring thereof are exposed in a second exposure process.例文帳に追加
基板1の表面にポジ型感光レジストをスピンコートし、このポジ型感光レジストに対し第1露光工程で回路パターン形成箇所とスルーホール形成箇所とを露光した後、第2露光工程でスルーホール孔1aとその近傍のみを露光する。 - 特許庁
A method of forming the patterned thin film comprises a first process of forming a frame 6 provided with undercuts located near its bottom on an electrode film 2, and a second process of forming the patterned thin film 7 by carrying out a plating operation by the use of the frame 6.例文帳に追加
パターン化薄膜形成方法は、電極膜2の上に、底部近傍においてアンダーカットの入った形状のフレーム6を形成する工程と、このフレーム6を用いてめっきを行って、パターン化薄膜7を形成するめっき工程とを備えている。 - 特許庁
A three dimensional process is carried out on first and second images G1, G2 which are acquired by photographing sections 21A, 21B by a three dimensional processing section 30 and the three dimensional display is carried out by a display control section 28 on a monitor 20 of the three dimensional display image which is obtained by the three dimensional process.例文帳に追加
撮影部21A,21Bが取得した第1および第2の画像G1,G2に、3次元処理部30が3次元処理を行って、表示制御部28が3次元処理により得られた3次元表示用画像をモニタ20に3次元表示する。 - 特許庁
A communication and timing controller 20 controls the voltage comparator 252 and the counter 254 so that, in a first process, the voltage comparator performs a comparison operation on a reset component with the counter performing a down-counting operation, and so that, in a second process, the voltage controller 252 performs the comparison operation on the signal component with the counter 254 performing an up-counting operation.例文帳に追加
通信・タイミング制御部20は、1回目は電圧比較部252でリセット成分を比較処理しカウンタ部254がダウンカウントする一方、2回目は電圧比較部252で信号成分を比較処理しカウンタ部254がアップカウントするように制御する。 - 特許庁
The main compression bonding process includes the setting step of setting a thermocompression bonding condition such that the space between second terminals 18 after the main compression bonding is equal to the space between first terminals 17 based on a result of detection at the extension amount-detecting process.例文帳に追加
本圧着工程には、伸び量検出工程での検出結果に基づいて、当該本圧着後における第2端子18間の間隔が、第1端子17間の間隔と同じ大きさになるように、熱圧着条件を設定する設定工程が含まれる。 - 特許庁
A frictional surface 48 acquires superior wear resistance of the same order as an iron casting by forming micro irregularities by a first shot-peening process after applying quenching treatment and rounding pointed projection tips of the micro irregularities by a second shot- peening process.例文帳に追加
摩擦面48は、焼入れ硬化処理を施した後に第1ショットピーニング工程で微小凹凸を形成するとともに、第2ショットピーニング工程で微小凹凸の尖った凸部先端を丸くすることにより、鋳鉄品と同程度の優れた耐磨耗性が得られる。 - 特許庁
The manufacturing method contains a first process forming the gas diffusion electrode with a catalyst layer on a substrate, and a second process joining the gas diffusion electrode to both surfaces of the polymer electrolyte membrane and then peeling and removing the substrate.例文帳に追加
また、その製造方法は、基材上で触媒層付きの上記ガス拡散電極を得る第1工程と、高分子電解質膜の両面にこのガス拡散電極を接合した後、基材を剥離除去する第2工程とを有することを特徴とするものである。 - 特許庁
The manufacturing method of the semiconductor substrate related to a first aspect includes: a chromium layer film formation process for film-forming a chromium layer on a base substrate at not less than 50°C temperature; and a nitriding process for nitriding the chromium layer for forming a chromium nitride film.例文帳に追加
本発明の第1側面に係る半導体基板の製造方法は、下地基板の上にクロム層を50℃以上の温度で成膜するクロム層成膜工程と、前記クロム層を窒化してクロム窒化物膜にする窒化工程とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁
The chemical substance decomposition method comprises a pretreatment process for immersing the substrate made of the light transmitting material in a first solvent containing the crosslinking agent, and a post-treatment process for immersing the substrate in a second solvent containing fullerene or the fullerene derivative.例文帳に追加
また、この製造方法は、架橋剤を含有する第1溶媒中に透光材料からなる基材を浸漬する前処理工程と、フラーレンまたはフラーレン誘導体を含有する第2溶媒中に前記基材を浸漬する後処理工程とを有する。 - 特許庁
This method for producing hydroxyethyl cellulose comprises (A) a first neutralization process for neutralizing an alkali remaining in crude hydroxyethyl cellulose, which is obtained by reacting an alkali cellulose with ethylene oxide, with a strong acid and (B) a second neutralization process for neutralizing the alkali with a weak acid.例文帳に追加
アルカリセルロースとエチレンオキシドとを反応させて得られる粗ヒドロキシエチルセルロースに残存しているアルカリを(A)強酸を用いて中和する第1中和工程および(B)弱酸を用いて中和する第2中和工程によって中和するヒドロキシエチルセルロースの製造方法。 - 特許庁
In the step (d), if a figure P4 in the process region 40 overlaps the optically influential region 30 and includes an abnormal portion Pb that is against the design criteria, the abnormal portion Pb is first eliminated from the figure P4 and then the OPC process is carried out.例文帳に追加
上記(d)ステップにおいて、処理領域40中の図形P4が光学的影響領域30に重なり、且つ、設計基準に違反する異常部分Pbを含む場合、当該図形P4から異常部分Pbを除去した後にOPC処理が実行される。 - 特許庁
Verified basic operating programs are stored in the first memory array block during the manufacturing process, and operation programs to be corrected or added are stored in the second memory array block after the manufacturing process to reduce the total time taken to store the programs and facilitate the correction and addition of the programs.例文帳に追加
検証された基本的な動作プログラムは製造工程中に第1群メモリに保存し、修正または追加される動作プログラムは製造工程後に第2群メモリに保存して、全体プログラム保存時間を減らし、プログラムの修正及び追加を容易にする。 - 特許庁
The manufacturing method for a low permeable hose formed by a first process for constituting the cylindrical laminate layer formed by winding the laminate film around a core material, and a second process for forming the thin film resin layer by means of powder fusing coating on an inner circumference by slipping the core material off from the cylindrical laminate layer.例文帳に追加
芯材にラミネートフィルムを巻いて筒状のラミネート層を構成する第1工程と、該筒状のラミネート層から芯材を抜いて、内周面に粉体溶融塗装により薄膜樹脂層を形成する第2工程とからなる低透過ホースの製造方法。 - 特許庁
This folding method includes: a first process for vertically folding at least one of the upper portion 12a and the lower portion 12b of a developing and inflating part 12 into the developing and inflating part 12; and a second process for cactus-folding the developing and inflating part 12 in the vehicle longitudinal direction.例文帳に追加
展開膨張部12の上部12aと下部12bの少なくとも一方を上下方向に展開膨張部12の内側に折り込む第1の工程と、展開膨張部12を車両前後方向にカクタス折りする第2の工程と、を有する。 - 特許庁
Looking into details of industrial linkage effects of the electrical machinery industry, it is found that such effects have been decreasing in the first-half process of Japanese companies supplying product parts to the rest of the East Asian region while the effects have been increasing in the second-half process of Japanese companies procuring parts from other East Asian countries.例文帳に追加
電気機械の連関効果を詳細に見ると、我が国が東アジア域内へ部品を供給する形(前工程)の連関効果が減少し、我が国が東アジア域内から部品を調達する形(後工程)となっている連関効果が増加している。 - 経済産業省
The semiconductor film forming method comprises a first lamination process of laminating a transparent electrode layer 2, a semiconductor layer 3, and an oxide layer 4 successively on a support 1; an oxidation process of oxidizing the surface of the oxide layer 4; and a second lamination process of laminating a metal electrode layer 5 on the oxide layer 4 whose surface has been oxidized.例文帳に追加
支持体1上に透明電極層2と、半導体層3と、酸化物層4とを順次積層する第一の積層工程と、前記酸化物層4の表面を酸化する酸化工程と、表面を酸化された前記酸化物層4上に金属電極層5を積層する第二の積層工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁
This building construction method includes a first process for installing the PC footing member 1 precast only at the lower section in the height direction of a footing H on the ground surface, a second process for erecting a steel column SC on the PC footing member 1, and a third process for constructing the upper section in the height direction of the footing H in a region A.例文帳に追加
フーチングHの高さ方向下部のみをプレキャスト化したPCフーチング部材1を地盤面に設置する第一工程と、PCフーチング部材1の上面に鉄骨柱SCを建てる第二工程と、領域AにフーチングHの高さ方向上部を構築する第三工程と、を含むことを特徴とする建物施工方法。 - 特許庁
In this printed board manufacturing method, a printed board is manufactured in the first process of applying wire printing to both sides of a film with a rotory silk screen printer, drying it, and processing a through hole prior to winding, and the second process of cutting into sheets the roll processed in the above process.例文帳に追加
本発明は、ロータリーシルクスクリーン印刷機にてフィルム両面に配線プリントを施し乾燥させ、スルーホールを加工し巻取る工程と前記工程にて加工された巻取りをシートカットしプリント基盤が製造されることを特徴としたプリント基盤製造方法を提供することで課題を解決する手段として発明されたものである。 - 特許庁
The method for producing an alkoxysilane includes a process of causing an alcohol A and a halogenated silicon compound C to react with each other in the presence of a tertiary amine B to obtain an alkoxysilane, a process of separating a first liquid phase comprising the alkoxysilane from a second liquid phase comprising a by-produced liquid amine halogenate, and a process of subsequently removing the second liquid phase.例文帳に追加
アルコキシシランの製造方法は、アルコールAおよびハロゲン化ケイ素化合物Cを第3級アミンBの存在下で反応させてアルコキシシランを得る工程と、アルコキシシランを含有する第1液相と、副生する液体のアミンハロゲン酸塩を含有する第2液相とを相分離させた後、該第2液相を除去する工程と、を含む。 - 特許庁
The method for manufacturing the polyimide film is characterized by introducing a both faces drying process in which a precursor film released from a substrate is dried from both faces to dry a solvent, between a first drying process in which a precursor polyamic acid film is manufactured on the substrate, and a process in which imidation reaction is performed by reacting the film by heat.例文帳に追加
前駆体ポリアミド酸フィルムを支持体上で製造する第一乾燥工程と前記フィルムを熱により反応させてイミド化反応させる工程との間に、支持体から剥離した前駆体フィルムを両面から溶媒を乾燥させる両面乾燥工程を導入したことを特徴とするポリイミドフィルムの製造方法。 - 特許庁
The manufacturing method of the substrate comprises a process preparing the substrate provided with a transparent conductive layer and a process forming an inorganic layer on the transparent conductive layer, a process performing surface treatment in a prescribed area to increase wettability over a first solution by performing surface modification in the prescribed area of the inorganic layer.例文帳に追加
この基板の製造方法は、透明導電層が形成された基板を用意する工程と、透明導電層の上に無機層を形成する工程と、無機層の所定の領域を表面改質することによって第1溶液に対する濡れ性を高くするように、所定の領域に表面処理を行う工程とを包含する。 - 特許庁
This floor material manufacturing method has a first process for applying a low viscosity hot melt adhesive to one side of the base material B comprising wood, a second process for laminating the decorative sheet A on one side of the base material B coated with the hot melt adhesive to form the floor material and a third process for pressing the surface of the floor material.例文帳に追加
本発明に係る床材の製造方法は、木材からなる基材Bの一方面に、低粘度のホットメルト系接着剤を塗布する第1工程と、ホットメルト型接着剤が塗布された基材Bの一方面に化粧シートAをラミネートし床材を形成する第2工程と、床材の表面を押圧する第3工程とを備えている。 - 特許庁
A method for manufacturing a light transmissive optical component 12 includes: a first etching process for etching a silicon region 11 of a plate-like member to form a concavity; a thermal oxidation process for thermally oxidizing an inner surface of the concavity to form a silicon oxide film 14; and a nitride film formation process for forming a silicon nitride film 16 for covering the silicon oxide film 14.例文帳に追加
光透過性光学部品12を製造する方法であって、板状部材のシリコン領域11をエッチングして凹部を形成する第1のエッチング工程と、凹部の内側面を熱酸化させて酸化シリコン膜14を形成する熱酸化工程と、酸化シリコン膜14を覆う窒化シリコン膜16を形成する窒化膜形成工程とを含む。 - 特許庁
This method of measuring the fatty acid in the micro-amount of specimen includes the first process for bringing the micro-amount of specimen into contact with a solvent under a prescribed temperature and pressure, to extract the lipid and/or fatty acid in the specimen, the second process for decomposing the lipid into the fatty acid, and the third process for analyzing the fatty acid, and the analytical system therefor is also disclosed.例文帳に追加
所定の温度および圧力下で溶媒と微量検体とを接触させて該検体中の脂質および/または脂肪酸を抽出する第1工程、溶媒中で該脂質を脂肪酸に分解する第2工程、脂肪酸を分析する第3工程を含む、微量検体中の脂肪酸の測定方法、およびそのための分析システム。 - 特許庁
The forming method of a laminate comprises a first process for forming an intermediate layer on a substrate and a second process for forming a metal layer, having an adhesive force between the substrate, which is smaller than that between the intermediate layer, and a reflection factor, larger than that of the intermediate layer, while the forming speed of the metal layer is increased halfway of the second process.例文帳に追加
基体上に中間層を形成する第1の工程と、前記中間層上に前記基体との密着力が前記中間層よりも小さく、反射率が前記中間層よりも大きい金属層を形成する第2の工程を有し、前記第2の工程の途中で前記金属層の形成速度を増加させることを特徴とする。 - 特許庁
The heat insulating material 15 is manufactured through a process of adding and laminating a binder maily composed of thermosetting resin, on defiferized inorganic fiber to form the heat insulating base material 16, a process of forming the first recessed parts 20a, 20b, and a process of heating and hardening in the formed state.例文帳に追加
そして、断熱材15,25,…は、開綿した無機質繊維に熱硬化性樹脂を主成分とするバインダーを添加して積層させて断熱基材16を成形する工程と、少なくとも柱に取付ける位置の断熱基材16に、第1凹部20a,20bを成形する工程と、前記成形状態のまま加熱・硬化する工程とで製造する。 - 特許庁
A driving wave form to be applied on a piezoelectric actuator includes a voltage change process for preparation operation 7 for slowing expanding the volume of a pressure generating room, a first voltage change process 1 for rapidly expanding the volume of the pressure generating room, and a second voltage change process 2 for rapidly contracting the volume of the pressure generating room.例文帳に追加
圧電アクチュエータ105に印加する駆動波形は、圧力発生室100の体積をゆっくりと膨張させる準備動作用電圧変化過程7、圧力発生室100の体積を急激に膨張させる第一の電圧変化過程1、および圧力発生室100の体積を急激に収縮させる第二の電圧変化過程2を有する。 - 特許庁
The catalyst transfer film is manufactured through a first process of conveying/supporting a long-size base material film with a tension of 0.1 to 25 kgf applied, a second process of coating catalyst-particle-content coating liquid on the base material film, and a third process of drying the catalyst-particle-content coating liquid coated on the base material film.例文帳に追加
該触媒転写フィルムは、0.1〜25kgfの張力を付与しながら長尺の基材フィルムを搬送・支持する第1工程、触媒粒子含有塗工液を前記基材フィルム上に塗工する第2工程、及び前記基材フィルム上に塗工した触媒粒子含有塗工液を乾燥させる第3工程を経て製造される。 - 特許庁
The oxidative decomposition method includes: a first process where, when an OH group is contained, the OH radical takes a hydrogen atom to cause oxidation of the OH group and to form a double-bonded oxygen atom; a second process where, when a hydrogen atom is contained, the OH radical takes the hydrogen atom to cause oxidation; and a third process where the OH radical is added to an unpaired electron of the atom to produce the OH group.例文帳に追加
そして、水酸基有の場合、OHラジカルが水素原子を奪って酸化すると共に、酸素原子を二重結合化する第1プロセスと、水素原子有の場合、OHラジカルが水素原子を奪って酸化する第2プロセスと、原子の不対電子にOHラジカルが付加して、水酸基が生成される第3プロセスと、を有してなる。 - 特許庁
A photocatalyst is produced by a first process for reacting a titanium alkoxide with a polycarboxylic acid, a second process for adding a polyol and a polyamine or either one of them to the reaction product of the titanium alkoxide and the polycarboxylic acid and a third process for baking the reaction product of the titanium alkoxide and the polycarboxylic acid.例文帳に追加
光触媒の製造方法において、第1の工程として、チタンアルコキシドとポリカルボン酸との反応工程と、第2の工程として、チタンアルコキシドとポリカルボン酸との反応物にポリオールおよびポリアミンあるいはずれか一方の化合物を添加する工程と、第3の工程として、チタンアルコキシドとポリカルボン酸との反応物を焼成する工程とを含む。 - 特許庁
A method of forming an insulation film on a semiconductor substrate includes: a first process for placing the semiconductor substrate in a vacuum chamber; a second process for supplying nitrogen, oxygen, and aluminum alkoxide into the vacuum chamber; and a third process for turning the mixed air of the nitrogen, oxygen, and aluminum alkoxide supplied into the vacuum chamber into a plasma state.例文帳に追加
半導体基板に絶縁膜を形成する方法は、半導体基板を真空チャンバ内に載置する第1工程と、前記真空チャンバ内に窒素と酸素とアルミニウムアルコキシドを供給する第2工程と、前記真空チャンバ内に供給した窒素と酸素とアルミニウムアルコキシドの混合気をプラズマ化する第3工程を備えている。 - 特許庁
The magnetic polymer particles 10 can be manufactured through the following three processes; a first process of adding a large number of the magnetic fine particles 12 to a dispersing medium containing the polymer particles 10, a second process of adding an anion polymer and the magnetic fine particles 12, and a third process of adding a monomer composition containing a polymerizable monomer to polymerize.例文帳に追加
この磁性ポリマー粒子10は、ポリマー粒子11を含有する分散液に多数の磁性微粒子12を添加する第1工程と、アニオン性高分子電解質と磁性微粒子12とを添加する第2工程と、重合性モノマーを含有するモノマー組成物を添加してこれを重合させる第3工程とにより製造できる。 - 特許庁
The method for manufacturing a polyimide benzooxazole film comprises a first process of forming a polyamic acid by reacting aromatic diamines with a benzooxazole structure and aromatic tetracarboxylic anhydrides, a second process of coating a substrate with a solution containing the polyamic acid and drying it, to obtain a green film, and a third process of heat-treating the green film by the below described two stages.例文帳に追加
ベンゾオキサゾール構造を有する芳香族ジアミン類と、芳香族テトラカルボン酸無水物類とを反応させてポリアミド酸を得る第1の工程と、ポリアミド酸を含む溶液を支持体上に塗布し乾燥してグリーンフィルムを得る第2の工程と、グリーンフィルムを下記の2段階で熱処理する第3の工程とを含む、ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムの製造方法。 - 特許庁
The pressurizing body is pressed with a weak force on the upper surface having much moisture in a first process prior to a predetermined dehydrating operation, is raised a little to guide air between the elastic pressurizing surface and the laundry in a second process, and is energized by a predetermined force and speed in a third process.例文帳に追加
所定の脱水操作に先立つ第1工程で、水分を多量に含んだ洗濯物の上面に弱い力で加圧体を押圧、次の第2工程で加圧体を少し上昇させることにより弾性加圧面と洗濯物との間に空気を導入し、次の第3工程で所定の力及び速度で加圧体を付勢して洗濯物の脱水を行なう。 - 特許庁
Then, the cement hardened body is heat-treated stepwise in: a first heating process for heating to disperse crystal water in the cement hardened body; a second heating process for heating to increase the inside temperature of the cement hardened body to the surface temperature; and a third heating process for heating the cement hardened body at a temperature to modify the asbestos therein.例文帳に追加
そして、セメント硬化体中の結晶水を飛散させる加熱を行なう第1加熱工程と、セメント硬化体の内部の温度を表面の温度にまで高めるように加熱を行なう第2加熱工程と、セメント硬化体中のアスベストを変性させる温度で加熱を行なう第3加熱工程により、セメント硬化体を段階的に加熱処理する。 - 特許庁
This wiring board manufacturing method comprises a first process of providing through-holes 1c to a sintered board 1 and wiring pattern grooves 1a and 1b to both the surfaces of the sintered board 1, a second process of filling the through-holes 1c and the wiring pattern grooves 1a and 1b with conductive paste M, and a third process of curing the conductive paste M.例文帳に追加
焼結した基板1にスルーホール1cと、前記基板1の両面に配線パターン用の溝1a、1bを形成する工程と、前記スルーホール1cと配線パターン用の溝1b、1cに導電ペーストMを充填する工程と、前記導電ペーストMを硬化させる工程とを有する配線基板の製造方法、によって解決される - 特許庁
This method of manufacturing the carbon nanotube-metal nanoparticle composite material includes a first process of forming a self-organized structure of an organic molecule on the surface of the carbon nanotube, a second process of bonding a metal ion to a terminal end of the organic molecule, and a third process of generating a metal nanoparticle by reducing the metal ion.例文帳に追加
本発明のカーボンナノチューブ‐金属ナノ粒子複合材料の製造方法は、カーボンナノチューブの表面に有機分子の自己組織化構造を形成させる第1工程と、該有機分子の末端に金属イオンを結合させる第2工程と、該金属イオンを還元して金属ナノ粒子を生成させる第3工程と、を有している。 - 特許庁
The image recording method is characterized by including a first process in which a substrate layer is recorded with an ink composition for forming the substrate layer on a base material, and a second process in which a color imaging layer is recorded on the substrate layer with a process color ink composition under a condition that volatile component remaining amount in the substrate layer is 5-50 mass%.例文帳に追加
基材上に下地層形成用インク組成物により下地層を記録する第一の工程と、前記下地層の揮発成分残存量が5〜50質量%となった状態で、前記下地層にプロセスカラーインク組成物によりカラー画像層を記録する第二の工程と、を有することを特徴とする画像記録方法。 - 特許庁
A pipe-like power generation device using fluid heat can be easily produced by a process of forming a metal member and an electrothermal material member, a process of preparing a laminate by alternately laminating and joining the members, and a process of forming a first electrode and a second electrode on both ends of the laminate.例文帳に追加
金属部材および熱電材料部材を形成する工程と、前記部材を交互に積層および接合して積層体を作製する工程と、前記積層体の両端に第1電極および第2電極を作製する工程によって流体の熱を利用したパイプ型の形状を有する発電デバイスを容易に生産できる。 - 特許庁
The water treatment method includes: an iron modification process of modifying a raw water W1 containing iron particulates as an impurity in a cation-exchange resin bed tower; a deaeration process of the modified water W2; and a first division process of dividing the deaerated water W5 into a permeated water W6 and a concentrated water W7 by the reverse osmosis membrane.例文帳に追加
鉄微粒子を夾雑成分として含む原水W1を陽イオン交換樹脂床塔で改質処理する鉄分改質工程と、改質処理された処理水W2の脱気処理工程と、脱気水W5を透過水W6と濃縮水W7とに分離する第1逆浸透膜分離工程とを含むように処理する。 - 特許庁
A manufacturing method of a cellulose ester film based on the solution casting method comprises a first process of mixing a non-chlorine type organic solvent, a cellulose ester and a retardation-reducing additive together to form a dope, a second process of cooling the resultant mixture at -100 to -10°C, and a third process of treating the mixture after the cooling treatment at 0-120°C.例文帳に追加
溶液流延製膜法によりセルロースエステルフィルムを製造する方法であって、ドープの作製にあたり、非塩素系有機溶剤と、セルロースエステルと、リタデーション低減添加剤とを混合する工程、得られた混合物を−100〜−10℃で冷却処理する工程、及び冷却処理後の混合物を0〜120℃で処理する工程を経るものである。 - 特許庁
Accordingly, a process of forming the infrared absorbing plate 105 and a process of sticking a first and second birefringent plates 102, 103 to the infrared absorbing plate 105 are united into one process and the manufacture of a large-sized optical low-pass filter 100 of a four-point separation type can be performed conveniently to permit the formation of the infrared absorbing plate 105 having a uniform thickness.例文帳に追加
したがって、赤外線吸収板105を形成する工程と、第1および第2複屈折板102,103と赤外線吸収板105とを貼り合わせる工程とが一つの工程にまとめられ、4点分離型の大判の光学ローパスフィルタ100の製造を簡便にでき、均一な厚みの赤外線吸収板105を形成できる。 - 特許庁
The sintering process is composed of a first process of keeping the molded body 20 in a temperature range of from 700°C to 1000°C for 10 to 420 minutes, and a second process of sintering the molded body 20 in a temperature range of from 1000 to 1200°C, where the sintered rare earth magnet is set to be 3 to 9 μm in average crystal grain diameter.例文帳に追加
焼結工程は、700℃以上1000℃以下の温度範囲に10分以上420分以下の時間だけ保持する第1工程と、1000℃以上1200℃以下の温度範囲で焼結を進行させる第2工程とを含み、焼結後の希土類磁石の平均結晶粒径を3μm以上9μm以下とする。 - 特許庁
The device comprises a buffer having data and addresses where the data are stored and collects storage instructions related to one process or more, and buffer control for always performing drain processing of the storage instructions related to the first process from the buffer before the buffer collects storage instructions related to a second process.例文帳に追加
上記課題を解決するため、本発明は、データ及び該データが格納されるアドレスを有し、1以上のプロセスに係るストア命令を収集するバッファと、第1プロセスに係るストア命令を、前記バッファが第2プロセスに係るストア命令を収集する前に前記バッファから常にドレイン処理するバッファ制御とから構成されることを特徴とする装置を提供する。 - 特許庁
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