「first process」に関連した英語例文の一覧と使い方(66ページ目) - Weblio英語例文検索

The laser beam applying process is executed in a mode of the seam welding, and the first wire net end 10L and the second wire net end 10R are joined with each other via the stainless steel sheet 14.例文帳に追加

このレーザ照射工程はシーム溶接の形態で実施され、第１の金網端部１０Ｌと第２の金網端部１０Ｒとがステンレス板１４を介して継ぎ合わされる。 - 特許庁

Further, another manufacturing method of the superconducting wire material of this invention includes a process in which the first wire and the second wire are twisted to form the conductor and the conductor is wrapped with a metal sheet.例文帳に追加

また、他の本発明の超電導線材の製造方法は、第１のワイヤーと第２のワイヤーを撚り合わせ、導体を生成し、該導体を金属製のシートで包み込む工程を備える。 - 特許庁

When the operation flag is turned off, namely, the operation of the player is canceled, this program allows the first object to perform a process of affecting on the selected second object.例文帳に追加

そして、操作中フラグがオフ、つまりプレイヤの操作が解除されたときに、上記選択された第２のオブジェクトに対して影響を及ぼす処理を第１のオブジェクトに行わせる。 - 特許庁

When workpieces 88 are taken out of the plurality of magazines 90 (90A, 90B, 90C) and are delivered to the next process, delivery order of wrapped bodies is first set for the magazines.例文帳に追加

複数のマガジン９０（９０Ａ、９０Ｂ、９０Ｃ）のそれぞれからワーク８８を取出して次工程へ送出すときには、まず、マガジンに対して包装体の送出し順序を設定する。 - 特許庁

To provide an electric arc welder operated to perform a short circuit process with a first wave form for controlling a short condition followed by a second wave form for controlling an arc condition.例文帳に追加

短絡状態を制御する第１波形の後にアーク状態を制御する第２波形を有する短絡プロセスを実施するために作動する電気アーク溶接機を提供する。 - 特許庁

Since the first scan branch line 301 and the second scan branch line 302 are preliminarily formed, the spare TFT 20 can be operated without considerably increasing the process time.例文帳に追加

第１走査分岐線３０１および第２走査分岐線３０２はあらかじめ形成してあるので、工程時間の大幅な増加を伴うことなく予備ＴＦＴ２０を動作させることが出来る。 - 特許庁

The first part of the booting process is all done through the BIOS, (if that is a new term to you, the BIOS is a software chip on your system motherboard which provides startup code for your computer). 例文帳に追加

起動プロセスの最初の部分は、すべて BIOS によって実現されています。 (BIOSとは、コンピュータのためのスタートアップコードを提供する、システムマザーボードに載っているソフトウェアチップのことです)。 - FreeBSD

User input will go to newcommand unless newcommand receives the application-process' output (fdpats first character is `!' or `:') or a pipe symbol (|) is added (as a fourth character) to the end of fdpat. 例文帳に追加

ユーザ入力は newcommand に送られる。 ただし newcommand が「アプリケーションプロセス」の出力を受けていたり(fdpats の最初の文字が `!' または `:')、パイプ (|) が fdpat の最後に (4 番目の文字として)追加されている場合は別である。 - JM

A unique micro-alloying process is utilized to form the tab, comprising a first alloy and a second alloy, wherein one of these alloys is radiopaque.例文帳に追加

第１の合金および第２の合金を含み、これらの合金の一方が放射線不透過性である独特のマイクロ−アロイ化方法が上記タブを形成するために利用されている。 - 特許庁

In the first learner support step, a process to correct the learner's future hope and the learning curriculum necessary for the learner to be suitable for the learner is carried out.例文帳に追加

第１の学習者支援ステップでは、学習者の将来の希望およびその学習者に必要な学習カリキュラムを学習者に好適な内容に修正する処理が行われる。 - 特許庁

A first layer 42 made of ABS resin is stacked on a sheet-like cloth material 41 and a second layer 43 made of aluminum is stacked thereon to form a base material 44 in a base material forming process.例文帳に追加

基材形成工程でシート状の布材４１上にＡＢＳ樹脂からなる第１層４２を積層し、この上にアルミ製の第２層４３を積層して基材４４を形成する。 - 特許庁

The body controller means (203) transmits the reference signal to the interchangeable lens during a period for which process related to the communication is not performed between the first communication means and the second communication means.例文帳に追加

本体制御手段（２０３）は、第一の通信手段と第二の通信手段との間で通信処理が行われていない期間に、基準信号を交換レンズに送信する。 - 特許庁

In the operation process, a current obtained by compensating the influence of dispersion in the threshold voltage of the first transistor can be supplied to the light-emitting element and the dispersion of luminance can be suppressed.例文帳に追加

この動作過程により、発光素子に第１のトランジスタの閾値電圧のばらつきの影響を補償した電流を供給することができ、輝度のばらつきを抑えることができる。 - 特許庁

A carbon-containing second process gas is flown along the anode side in a mass flow rate effective for providing excessive oxygen in combination with the first permeated oxygen part.例文帳に追加

炭素含有第２プロセス気体がアノード側に沿って前記第１透過酸素部分との組合せに際して化学量論な余剰の酸素を与えるに有効な質量流量において流される。 - 特許庁

When a pixel group during the filter process exists in the meta data map, a first look-up table is used, and the required pigment amount is added to a look-up table inside a new black channel.例文帳に追加

フィルタ処理されている画素グループがメタデータマップにあるとき、第１のルックアップテーブルが使用され、必要な顔料の量は新しい黒チャンネル内のルックアップテーブルに追加される。 - 特許庁

In the first cursor control process, a monitor screen is divided into a plurality of screen blocks, and the cursor is moved from an initial position on a monitor to the designated place of the screen block.例文帳に追加

第一段階目のカーソル制御プロセスにおいて、モニター画面を複数の画面ブロックに分割し、カーソルをモニター上の元来位置から前記画面ブロックの指定場所に移動させる。 - 特許庁

A substrate having grain boundary on which the resist is coated is placed in an etching area inside a chamber, and a process gas containing a first etchant, a second etchant and xenon is introduced into the etching area.例文帳に追加

結晶粒界を有しレジストを塗布した基板をチャンバー内のエッチング領域に置き、１次エッチャント、２次エッチャント及びキセノンを備えたプロセスガスをエッチング領域に導入する。 - 特許庁

The resistor is formed using a split polysilicon process for opening a hole in a first polysilicon layer in order that an embedded contact mask 19 brings a second polysilicon layer into contact with the substrate.例文帳に追加

この抵抗は、埋込みコンタクトマスク１９が、第２のポリシリコン層を基板に接触させるために、第１のポリシリコン層内にホールを開口するスプリット・ポリシリコン・プロセスを用いて形成される。 - 特許庁

A gate insulating film 6, a gate electrode 7, and an active region 5 functioning as a diode are provided on a silicon substrate and a first interlayer insulation layer 10 is formed by plasma process.例文帳に追加

シリコン基板上に、ゲート絶縁膜６、ゲート電極７及びダイオードとして機能する活性領域５を設け、プラズマプロセスによって第１の層間絶縁層１０を形成する。 - 特許庁

In a first process, the plating film 3 comprising nickel and phosphor by electroless plating and the plating film 4 comprising nickel by electroplating are formed on the surface of the resistant substrate 1.例文帳に追加

第１の工程は抵抗基体１の表面に無電解めっきによるニッケル及びリンからなるめっき皮膜３と電気めっきによるニッケルからなるめっき皮膜４を形成する。 - 特許庁

The method for the emboss processing of a hydrophobic polymer using an embossing template or embossing roll made of a metal is made hydrophobic before a first embossing process.例文帳に追加

エンボス型板又はエンボスロールを第１のエンボス工程の前に疎水化することを特徴とする、金属製のエンボス型板又はエンボスロールを用いて疎水性ポリマーをエンボス加工する方法 - 特許庁

The information processing apparatus performs the corresponding process as the gesture input in the first processing state as for the gesture input after the number of operations of gesture input.例文帳に追加

そして、情報処理装置は、操作回数のジェスチャ入力が行われた後のジェスチャ入力については、第１の処理状態におけるジェスチャ入力として対応する処理を実行する。 - 特許庁

In an assumed quotient calculation process (S20), for the quotient when assuming that the first integer can be divided by the second integer, the value of the lower bits for predetermined bit number is computed.例文帳に追加

仮定商算出処理（Ｓ２０）において、第１整数は第２整数で割り切れると仮定した場合の商について、所定のビット数分の下位ビットの値が算出される。 - 特許庁

A complex coprecipitate containing the first and second hydroxide which is obtained in a coprecipitate deposition process is subjected to filtration, drying, and burning processes, thereby obtaining an oxide.例文帳に追加

共沈殿物析出工程で得られた第１及び第２の水酸化物の共沈殿物を含む複合共沈殿物に、ろ過処理と乾燥処理と焼成処理とを施して酸化物を得る。 - 特許庁

To improve heat radiation and simplify the manufacturing process of a composite substrate formed by sticking a first substrate made of group XIII nitride and a second substrate made of a ceramic.例文帳に追加

１３族窒化物からなる第１の基板と、セラミックスからなる第２の基板とを貼り合わせた複合基板につき、放熱性をよくすると共に製造時の製造時のプロセスを簡単にする。 - 特許庁

Then, a second trench 7b communicating with the first trench 7a is formed at the back side of the silicon substrate 1 with a second insulating film 5 as a mask member by using the Bosch process.例文帳に追加

次に、第２の絶縁膜５をマスク部材としてシリコン基板１の裏面側に、第１のトレンチ７ａに連通する第２のトレンチ７ｂを同じくボッシュプロセスを用いて形成する。 - 特許庁

The GCA 20 outputs the first high level voltage or low level voltage, in an oscillation start-up process, and outputs the second high level voltage or low level voltage, in an oscillation stationary state.例文帳に追加

ＧＣＡ２０が、発振起動過程では、第１のハイレベル電圧又はローレベル電圧を出力し、発振定常状態では、第２のハイレベル電圧又はローレベル電圧を出力する。 - 特許庁

After the second envelope waveform is adjusted in gain by a gain adjusting circuit 208, a subtraction process between the first and second envelope waveforms is effected using a subtracting circuit 209.例文帳に追加

第２の包絡線波形についてゲイン調整回路２０８でゲイン調整した後、第１の包絡線波形と第２の包絡線波形の間で減算回路２０９によって減算処理される。 - 特許庁

The method optionally includes a process of bringing the first purified gas stream into contact with a carbon dioxide adsorbent 36, 36' and/or with a nitrous oxide or hydrocarbon adsorbent.例文帳に追加

この方法は、随意に、第１の精製気体流を二酸化炭素吸着材３６、３６’及び／又は亜酸化窒素もしくは炭化水素吸着材と接触させることをさらに含む。 - 特許庁

In a deposition process (steps S2 and S3), when a first voltage is applied to the processing solution through electrodes, a reduction reaction takes place, and metal ions are separated out as metal at the electrode.例文帳に追加

析出過程（ステップＳ２，Ｓ３）において、電極を介して処理液に第１電圧を印加すると還元反応が生じ、処理液中の金属イオンが金属として電極に析出する。 - 特許庁

First, in a diffusion prevention film formation process, a diffusion prevention film 7 for preventing diffusion of semiconductor impurities is formed only on the side face of a semiconductor wafer 2 in its entirety.例文帳に追加

まず、拡散防止膜形成工程で、半導体不純物の拡散を防止する拡散防止膜７を、半導体ウエハ２の側面にのみ、その側面の全周にわたって形成する。 - 特許庁

In a process P6, respective surfaces of the first pattern 72 and the second pattern 74 are transformed to curved surfaces by heating so that the microlens 14 and the spacer 16 are formed.例文帳に追加

工程Ｐ6では、第１パターン７２および第２パターン７４の各々の表面を加熱により曲面状に変形させることでマイクロレンズ１４およびスペーサー１６を形成する。 - 特許庁

However not every opinion is based on evidence, and first of all, given the process involved in compiling a military chronicle, there is little use in attributing the work to a particular author. 例文帳に追加

しかしながらいずれも確証があることではなく、何より軍記物語の生成・成長過程を考えると、特定の作者を想定することが有益とは言えないであろう。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

First and foremost, we thank Dr. Takashi Yamamoto, USEPA for the lengthy discussions and his insights on the biocriteria process and appropriate bioassessment approaches.例文帳に追加

まず第一に，我々が感謝を捧げる相手は，USEPAのDr. Takashi Yamamotoである。彼は，長時間にわたる論議や，生物クライテリア過程ならびに適切な生物アセスメント手法に関する洞察を提供してくれた。 - 英語論文検索例文集

First and foremost, we thank Dr. Robert Ozawa, USEPA for the lengthy discussions and his insights on the biocriteria process and appropriate bioassessment approaches.例文帳に追加

まず第一に，我々が感謝を捧げる相手は，USEPAのDr. Robert Ozawaである。彼は，長時間にわたる論議や，生物クライテリア過程ならびに適切な生物アセスメント手法に関する洞察を提供してくれた。 - 英語論文検索例文集

First and foremost, we thank Dr. David Terata, USEPA for the lengthy discussions and his insights on the model development process and appropriate risk assessment approaches.例文帳に追加

まず第一に，我々が感謝を捧げる相手は，USEPAのDr. David Terataである。彼は，長時間にわたる論議や，モデル構築過程ならびに適切なリスクアセスメント手法に関する洞察を提供してくれた。 - 英語論文検索例文集

To make kakukintsuba, first, make rectangular solid gel cakes with tsubuan and agar solution, coat one side of the tsubuan cake with thin batter made of flour and water at a time, sear the coated side on the hot copper griddle immediately and repeat the coating and searing process until all sides have been done. 例文帳に追加

寒天を用いて粒餡を四角く固めたものの各面に、小麦粉を水でゆるく溶いた生地を付けながら、熱した銅板上で一面ずつ焼いてつくる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The repeater compares the message from the first terminal with the message from the second terminal, detects that the same corresponding ID is contained, and makes both of the terminals be corresponding to each other [process 509].例文帳に追加

中継装置は，第１端末からのメッセージと第２端末からのメッセージを比較して，同じ対応付けＩＤが含まれることを検出して，両端末を対応付ける［処理５０９］。 - 特許庁

Water is supplied into the salt water vessel 31 for the first time at the time of washing water supply, and a substantially specified amount of salt is dissolved through the mesh filters in a washing process to generate saturated salt water.例文帳に追加

洗い給水時に塩水容器３１に一回目の給水を行い、洗い工程中にメッシュフィルタ３２ｃを通し略規定量の塩を溶解し飽和塩水を生成する。 - 特許庁

A thin film 5 is formed in the front surface of a processed layer 4 on a substrate 1, and a first pattern 6 is formed in the front surface of the thin film 5 by a lithographic process (resist application, a pattern exposure, development, etc.).例文帳に追加

基板１上の被加工層４の表面に薄膜５を形成し、リソグラフィ工程（レジスト塗布、パターン露光、現像等）により薄膜５の表面に第１のパターン６を形成する。 - 特許庁

Thus, the second substrate material 200 can be exposed on one surface, while reversing the first substrate material 200, thereby increasing the process speed of the entire exposure device system.例文帳に追加

これにより１枚目の基板材料２００が反転中に２枚目の基板材料２００を片面露光できるので、露光装置システム全体の処理速度を高めることができる。 - 特許庁

The time for a constant rate drying is adjusted to be 6 s or longer by lowering the temperature in the first half portion of a drying process and raising its second half portion after the application of the coating layer.例文帳に追加

コート層を塗布し、乾燥工程の前半部分の温度を下げるとともに後半部分の温度を上げて、恒率乾燥の時間が６秒以上となるように調整した。 - 特許庁

Accordingly, because the imparting of the big hit state is restricted during the execution of the first- period update process, the imparting of the big hit state by the illegal act can be suppressed.例文帳に追加

従って、１周期目の更新処理の実行中は、大当り状態の付与が規制されることになり、不正行為によって大当り状態が付与されることを抑制することができる。 - 特許庁

However, a first process cartridge B1 for a low processing speed cannot be attached to the second image forming device A2 because there is interference with the projecting part 216f.例文帳に追加

しかし、プロセス速度の遅い第１のプロセスカートリッジＢ１は第２の画像形成装置Ａ２に装着しようとしても突起部２１６ｆと干渉するため装着することができない。 - 特許庁

The repeating device compares the message from the first terminal with the message from the second terminal, and both terminals correspond to each other by detecting that the same mapping IDs are contained (process 509).例文帳に追加

中継装置は，第１端末からのメッセージと第２端末からのメッセージを比較して，同じ対応付けＩＤが含まれることを検出して，両端末を対応付ける［処理５０９］。 - 特許庁