「heat processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

The substrate processing apparatus 1 holds the substrate 90 without contact on a substrate holding plate 12, and performs heat treatment while moving the substrate 90 in one direction.例文帳に追加

基板処理装置１は、基板保持プレート１２上に基板９０を非接触で保持し、基板９０を一方向に移動させつつ加熱処理を行う。 - 特許庁

To provide a heat processing furnace reducing the film thickness variation of a film formed on a semiconductor substrate and suppressing the deviation of the flow of process gas.例文帳に追加

プロセスガスが偏って流れることを抑え、半導体基板上に形成される膜の膜厚バラツキを低減することが可能な熱処理炉を提供する。 - 特許庁

To provide a method for effectively sterilizing or inactivating a spore bacterium having heat resistance using ozone nanobubble water at a food processing place etc.例文帳に追加

食品加工現場などにおけるオゾンナノバブル水を利用した耐熱性を有する芽胞細菌の効果的な殺菌乃至不活化方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a heat shield where a pump is shielded from the thermal energy generated in a semiconductor wafer processing chamber to improve the performance of a cryopump.例文帳に追加

半導体ウェーハ処理チャンバー内に生じた熱エネルギーからポンプをシールドすることによりクライオポンプの性能を向上させる熱シールドを提供する。 - 特許庁

A tantalum oxide film 13B composed of excessive oxygen is formed by processing heat treatment to the tantalum oxide film 13A in an oxygen radical.例文帳に追加

次に、タンタル酸化膜１３Ａに対して、酸素ラジカル中で熱処理を行なうことにより、酸素の組成が過剰なタンタル酸化膜１３Ｂを形成する。 - 特許庁

While carrying out plasma processing before coating of an organic layer, heat treatment of about 200°C order or less is performed to this substrate 18 with electrodes by a heater 24.例文帳に追加

この電極付き基板１８には、有機層を成膜する前にプラズマ処理と共に、ヒータ２４により２００℃程度以下の加熱処理が施される。 - 特許庁

To provide a new safety exploder which is intended to burn without deflagration, when the weapon element is abandoned to slow heat disposal processing.例文帳に追加

兵器要素が低速加熱処分処理に委ねられたときに上記炸薬の爆燃なしで燃焼をもたらすことが企図された新規な安全点火器を提供する。 - 特許庁

The pump P supplies the cooling water such that the cooling water suppresses the transfer of heat from the susceptor 92 and cools at least a lower part of the substrate processing container 12.例文帳に追加

ポンプＰは、サセプタ９２からの熱伝達を抑制し、少なくとも基板処理容器１２の下部を冷却するように冷却水を供給する。 - 特許庁

The polymer is a low k polymer or a polymer convertible to a low k polymer after succeeding processing with heat or light.例文帳に追加

本発明で使用するポリマーは低ｋポリマー、あるいは熱または光による後続の処理の後に低ｋポリマーに変換することができるポリマーである。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material having low fog, high Dmax (maximum density) and improved physical characteristics after processing.例文帳に追加

カブリが低く、Ｄｍａｘ（最高濃度）が高く、かつ処理後の感光材料の物理特性が改良された熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁

To provide a flaw inspecting apparatus capable of efficiently and accurately inspecting a flaw of a heat insulating material, which is formed by molding glass wool by using an adhesive, by image processing.例文帳に追加

グラスウールを接着剤を用いて成形した断熱材の欠陥を、画像処理により効率的に精度良く検査し得る欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

Thereby, the amount of the working fluid in the processing liquid tank 46 is stabilized and the temperature of the working fluid can be controlled accurately by a heat exchanger 50.例文帳に追加

これにより、加工液タンク４６内の加工液の量は安定し、熱交換器５０によって加工液の温度を精度良く制御することができる。 - 特許庁

A thermal condition of the next process is accessible more easily in advance by effectively utilizing sensible heat previously disposed, when the batch processing mode is simply switched.例文帳に追加

バッチ処理モードを単純切換する場合には廃棄されていた顕熱の有効利用により、次工程の熱的条件に予め近付け得る。 - 特許庁

To provide a method for relaxation of a polyester fibrous structure capable of carrying out a continuous relaxation processing at ≥100°C, under moist heat condition.例文帳に追加

ポリエステル系繊維構造物を１００℃以上の湿熱下で連続的にリラックス処理することのできる、新規な連続リラックス方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an evaporated fuel processing device equipped with a heating means which can extensively and efficiently heat the inside of an adsorbent chamber of a case.例文帳に追加

ケースの吸着材室内を広範囲に亘って効率的に加熱することのできる加熱手段を備えた蒸発燃料処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing device capable of restraining influence caused by vibration and heat generated from a motor, and a recording medium carrying device, and a driving force transmitting method.例文帳に追加

振動及びモータから発生する熱の影響を低減できる画像処理装置、記録媒体搬送装置及び駆動力伝達方法を提供する。 - 特許庁

The heat treatment units of the first and third blocks B1 and B3 can vertically move and the liquid processing units of the second block B2 can horizontally move.例文帳に追加

第１及び第３のブロックの熱処理ユニットは上下動自在であり，第２のブロックＢ２の液処理ユニットは水平方向に移動自在である。 - 特許庁

A base for notebook personal computer having a high effect of heat radiation with a simple structure can be provided by performing processing to make holes in a fully thick aluminum board and attaching supporting legs.例文帳に追加

充分に厚いアルミ板に穴あけ加工を行い支持足をつけることで、簡単な構造で方熱効果が高いノートパソコン用台を提供できた。 - 特許庁

To provide a processing method wherein the signal component of the signal of a deposit stuck to a heat-exchanger-tube support plate is measured and a blocking ratio by the deposit in a hole in the support plate is evaluated.例文帳に追加

伝熱管支持板部に付着している付着物信号の信号成分を測定し、支持板穴の付着物による閉塞割合を評価する。 - 特許庁

To provide a gas-barrier film which has high gas-barrier properties against oxygen and water vapor and is excellent in gas-barrier durability owing to post processing such as heat treatment and to provide a transparent gas-barrier film suitable for a plastic substrate for an electronic device in particular.例文帳に追加

高い酸素及び水蒸気バリア性を有し、熱処理などの後加工によるバリア耐久性に優れたガスバリアフィルムを提供する。 - 特許庁

To suppress aggregation of a nickel film due to heat not only after aggregation suppression processing but also during a processing process (e.g., temperature raising process) when processing (e.g., cap film deposition) for suppressing aggregation of the nickel film on a substrate to be processed is performed.例文帳に追加

被処理基板上のニッケル膜の凝集を抑制するための処理（例えばキャップ膜成膜）を行う際に，その凝集抑制処理後のみならず，その処理過程（例えば昇温工程）においても，ニッケル膜の凝集を抑制するニッケル膜の熱による凝集を抑制する。 - 特許庁

One substrate of the electronic circuit board 11 is equipped with a high-frequency superimposed circuit 40, while the other substrate is equipped with signal processing circuit 70 for processing a signal from a photodetector 60, with the heat sink 20 shielding the signal processing circuit so as to protect it from interference caused by a high frequency.例文帳に追加

電子回路基板１１一方の基板部には高周波重畳回路４０が、他方の基板部には受光素子部６０からの信号を処理する信号処理回路２０を設け、高周波が信号処理回路に干渉しないようにヒートシンク２０で遮蔽している。 - 特許庁

Unit blocks B1, B2, and B3 are made up including the liquid-processing units 3, 7, and 8 carrying out the liquid-processing, a heating unit and a cooling unit carrying out heat treatment related to the liquid-processing, and unit main transferring means 4A, 4B, and 4C for receiving/transferring the substrate with those units.例文帳に追加

液処理を行う液処理ユニット３，７，８と、液処理に関連した熱処理を行う加熱ユニット及び冷却ユニットと、これらユニットに対して基板の受け渡しをする単一の主搬送手段４Ａ，４Ｂ，４Ｃとを含んで単一のブロックＢ１，Ｂ２，Ｂ３を構成する。 - 特許庁

Furthermore, the device is provided with a biological determination part which determines whether or not the face in the heat distribution image is a living body at each processing stage in collation and when it determines that the face is not the living body at each processing stage, interrupts processing even at a stage in the middle of the face collation.例文帳に追加

さらに、照合における各処理段階において熱分布画像内の顔面が生体であるか否かの判定を行う生体判定部を備え、各処理段階で生体でないと判断すると顔面照合処理の途中段階であっても処理を中止させる。 - 特許庁

The method for producing an optical anisotropic film includes a heating process which performs heat treatment to the substrate surface; a rubbing process which performs the rubbing processing to the substrate surface to which the heat treatment was performed; a coating process which performs coating of a coating liquid, containing the lyotropic liquid crystalline compound to the substrate surface to which the rubbing processing is performed.例文帳に追加

本発明光学異方膜の製造方法は、基材表面に加熱処理を行う加熱工程と、前記加熱処理を行った基材表面にラビング処理を行うラビング工程と、前記ラビング処理を行った基材表面にリオトロピック液晶性化合物を含む塗工液を塗工する塗工工程と、を有する。 - 特許庁

An inner frame 26, the heat insulating members 31 and the shield members 32 shield the sensor substrate 12 spatially from an integrated circuit 20 for detection or the like and a signal processing circuit board 18 to check heat of the integrated circuit 20 for detection or the like and the signal processing circuit board 18 from transmitting to the sensor substrate 12.例文帳に追加

内フレーム２６、断熱部材３１及びシールド部材３２は、センサ基板１２を検出用集積回路１９、２０と信号処理回路基板１８から空間的に遮蔽し、検出用集積回路１９、２０と信号処理回路基板１８の熱がセンサ基板１２に伝達することを抑制する。 - 特許庁

A time zone-classified power consumption estimation means 12 performs estimation processing of power consumption as an assumed power amount wherein a purchase power amount is actually consumed, and a time zone-classified heat consumption estimation means 13 performs estimation processing of heat consumption as an assumed gas amount wherein a purchase gas amount is actually consumed.例文帳に追加

購入電力量を実際に消費した想定電力量として時間帯別電力消費量推定手段１２が電力消費量の推定処理を行い、購入ガス量を実際に消費した想定ガス量として時間帯別熱消費量推定手段１３が熱消費量の推定処理を行う。 - 特許庁

To obtain a polyamide fiber for heat-bonding processing, which melts by heat treatment, functions as an adhesive, is useful in bonding processing of materials such as various fiber materials, films, etc., suitable for especially of rayon material, hardly releases a bonded material and has a high bond strength.例文帳に追加

熱処理により溶融して接着剤として機能し、各種の繊維素材やフィルム等の素材を接着加工する際に用いることができ、特にレーヨン素材の接着に好適であり、接着した素材は剥離しにくく、接着強力が高いものとなる熱接着加工用ポリアミド繊維を提供する。 - 特許庁

To provide a release film excellent in heat resistance, not to cause deterioration in flatness, excellent also in oligomer deposition-inhibiting property, even when subjected to a heat treatment at a high temperature in a processing step for applying it to various uses, further excellent in processing properties in sticking, slit/cutting or the like, and applicable to various uses.例文帳に追加

種々の用途で使用するための加工工程において高温で熱処理された場合でも、平面性が悪化せず、耐熱性に優れ、また、オリゴマーの抑止性にも優れ、さらに、張り合わせ時やスリット・裁断等の加工適性に優れ、各種用途への展開可能な離型フィルムを提供する。 - 特許庁

The electric signal is subjected to linear corresponding processing (processing linearly corresponding to a combustion heat flow rate per a unit time) in an linearization arithmetic part (linearization arithemetic means) 201, to more directly obtain the data of the accurate combustion heat flow rate value wherein tolerance is received in a predetermined allowable range.例文帳に追加

そしてその電気信号に、線形化演算部（線形化演算手段）２０１が線形対応化処理（単位時間あたりの燃焼熱流量に対して線形に対応するための処理）を施して、より直接的に、公差を所定の許容範囲内に収めた正確な燃焼熱流量値のデータを得る。 - 特許庁

To provide a baking method capable of easily collectively baking a plurality of quartz products in removing metal contained in each of the quartz products by baking the quartz products as constituents of a heat processing apparatus for carrying semiconductor substrates into a reaction chamber to execute heat processing.例文帳に追加

半導体基板を反応容器内に搬入して熱処理する熱処理装置の構成部品である石英製品をベーク用の容器内にてベークし、石英製品に含まれる金属を除去するにあたって、複数の石英製品を容易に一括してベークすることができるベーク方法を提供すること。 - 特許庁

A plurality of bosses 112A are erected on a liquid crystal base 112 to support an image processing board 101, a heat sink 131 is disposed between the liquid crystal base 112 and the image processing board 101, and the heat sink 131 is fixed to the liquid crystal base 112 via a bracket 132.例文帳に追加

複数のボス１１２Ａを液晶ベース１１２に立設し、これらのボス１１２Ａで画像処理基板１０１を支持し、液晶ベース１１２と画像処理基板１０１との間に放熱板１３１を配置するようにし、且つ、ブラケット１３２を介して放熱板１３１を液晶ベース１１２に固定するようにする。 - 特許庁

Since the temperature of the buffer space B is raised by radiant heat of a plate 10 having the temperature raised by a heating part 40, the processing gas is heated by receiving the radiant heat from the plate 10 while flowing in the buffer space B, and the processing gas having had the temperature by heating is discharged toward the substrate W from a discharge port 811.例文帳に追加

バッファ空間Ｂは、加熱部４０により昇温されたプレート１０の輻射熱によって昇温しているので、バッファ空間Ｂ内を流れる間に処理ガスはプレート１０からの輻射熱を受けて加熱され、加熱により昇温した処理ガスが吐出口８１１から基板Ｗに向けて吐出されることになる。 - 特許庁

Calibrating method is performed by heating the interior of the processing vessel 11, measuring the temperature of the wafer W in the processing vessel 11 by means of the sensor, predicting the temperature of the wafer W using the heat model, comparing an actually measured temperature with the predicted temperature, and then calibrating the reference heat model such that the predicted temperature substantially matches the actually measured temperature.例文帳に追加

校正の方法は、まず、処理容器１１内を加熱し、処理容器１１内のウエハＷの温度をセンサで測定し、熱モデルを用いてウエハＷの温度を予想し、実測温度と予想温度とを比較し、実測温度に予想温度が実質的に一致するように基準熱モデルを校正することにより行われる。 - 特許庁

To provide a processing apparatus and a processing method for a photosensitive lithographic printing version by which when a photosensitive lithographic printing version is heat-treated after exposure, a plate surface is uniformly heat-treated and the quality of the printing plate can be kept uniform, and by which photosensitive lithographic printing plates whose supports are different in thickness can be processed together.例文帳に追加

感光性平版印刷版を露光後に、加熱処理する場合、版面を均一に加熱処理し、印刷版の品質を均一に保つことのでき、且つ、厚みの違う支持体の感光性平版印刷版を混在処理が可能な感光性平版印刷版の処理装置及び処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for heating an optical fiber preform where the heat-processing step of a product can be improved by performing a uniform dehydration process for the optical fiber preform using a plurality of heat sources and to provide its producing method.例文帳に追加

複数の加熱源を使用して光ファイバ母材の均一な脱水工程を行うことによって、製品の熱処理工程を改善させることが可能な光ファイバ母材の加熱装置及び該母材の製造方法を提供する。 - 特許庁

The wood-based filler is prevented from heat during molding and processing, scorching hardly occurs and a molding is provided with electroconductivity by the thin film having excellent heat resistance to eliminate the problem of dust attraction by electrification.例文帳に追加

この耐熱性に優れた薄膜によって、木質系充填剤が成形加工時の熱から保護され、焦げが発生しにくくなるほか、成形物に導電性が付与され、帯電によるゴミ付着等の問題が解消される。 - 特許庁

The amount-of-displacement control body 71 is formed in one piece with a base unit 21 of the body 2 of the heat sink, and is cut to desired length according to a requested placement load in secondary processing after forming the body of the heat sink.例文帳に追加

また変位量調整体７１は、ヒートシンク本体２のベース部２１と一体で形成され、ヒートシンク本体形成後の二次加工において、要求される装着荷重に応じて所望の長さにカットされることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a heat-shrinkable laminated film excelling in heat shrinking performance, transparency and interlayer adhesion at an ordinary temperature, hardly peeled off even if treated at a high temperature and restrained from whitening that occurs when bending the film during processing or the like.例文帳に追加

熱収縮特性、透明性、常温における層間接着に優れ、高温で処理しても剥離しにくく、かつ加工時等にフィルムを折り曲げた際に生じる白化を抑制した熱収縮性積層フィルムの提供。 - 特許庁

Also a method of producing a filling for a filled food product is provided, which method comprises at least a step of heat-processing filling ingredients, and a step of mixing the heat-processed filling ingredients with water-soluble cellulose ether gelable during heating so as to obtain a filling thereby.例文帳に追加

また、具材を加熱するステップと、加熱された具材と加熱時にゲル化可能な水溶性セルロースエーテルを混合して中種を得るステップとを少なくとも含む包餡食品用中種の製造方法を提供する。 - 特許庁

To quickly heat an optical waveguide at excellent thermal efficiency in relation to an optical device and an optical device unit which are constructed so as to vary the optical function by applying heat processing to the optical waveguide.例文帳に追加

本発明は光導波路に対し加熱処理を行なうことにより光学的機能を変化させる構成とされた光デバイス及び光デバイスユニットに関し、光導波路を急速かつ熱効率よく加熱することを課題とする。 - 特許庁

To output heat suitable for transmitting and processing causing no loss of the heat, by generating an eddy current with uniform density, on the entire or selected area of the outside surface of a roll jacket.例文帳に追加

ロールジャケットの外側表面の全体または適切に選択可能な領域に、均一な密度の渦電流を発生させることによって、加熱出力の損失のない伝達とプロセスに適応した加熱出力を発生させる。 - 特許庁

To provide a heat treatment method and a heat treatment device capable of reducing a substrate processing time while preventing coating film characteristics between substrates without decreasing a heating plate intensity and increasing a device cost.例文帳に追加

熱板の強度を低下させたり、装置コストを増大させることなく、基板間における塗布膜の特性の変動を防止しつつ、基板を処理する処理時間を短縮することができる、熱処理方法及び熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a heat reversible recording medium, along with an image processing method employing the same, having a good recording sensitivity and a superior heat resistant shelf life, and also having a sufficient erasability even in a low temperature and low humidity environment.例文帳に追加

記録感度が良好で、耐熱保存性にも優れ、さらに低温低湿環境においても十分な消去性を有する熱可逆記録媒体および該熱可逆記録媒体を用いた画像処理方法を提供すること。 - 特許庁

Quality of a finished yarn is judged by heat processing a running yarn, detecting the running state of the yarn and a time dependent change of a heat processed state of the yarn and judging depending on the detected result.例文帳に追加

走行する糸条に熱加工を施すとともにその糸条の走行状態を検出し、かつ、その糸条の熱加工状態の経時変化を検出し、これらの検出結果に基づいて加工糸の良否を判定する。 - 特許庁