「layer pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(43ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a resist pattern causing no intermixing on an interface between an upper resist layer and a lower resist layer and thereby, having a favorable profile, and to provide a method for forming a resist pattern, and a method for patterning a thin film using the resist pattern, and a method for manufacturing a thin film magnetic head.例文帳に追加

上側レジスト層と下側レジスト層との界面でインターミキシングが起きず、従って良好な形状を有するレジストパターン、このレジストパターンの形成方法、このレジストパターンを用いた薄膜のパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of evaluating the SOI wafer having an insulating layer and an active layer in this order on a support substrate comprises forming a pattern on the insulating layer after removing part of the active layer from the insulating layer by wet or dry etching; and evaluating the bonding interface between the active layer and insulating layer by observing whether the pattern peels and/or whether a bonding defect is caused.例文帳に追加

支持基板上に絶縁層と活性層をこの順に有するＳＯＩウェーハの評価方法であって、前記活性層の一部を前記絶縁層上からウェットまたはドライエッチングを施すことによって除去した後、前記絶縁層上にパターンを形成し、前記パターンの剥離および／または接着不良の有無を観察することにより前記活性層と前記絶縁層との貼り合わせ界面を評価する。 - 特許庁

A method includes the steps of: preparing a substrate; sequentially forming a lower semiconductor layer, an active layer, and an upper semiconductor layer on the substrate; forming a photoresist pattern on the upper semiconductor layer so that its side wall is inclined to an upper surface of the substrate; and sequentially etching the upper semiconductor layer, the active layer, and the lower semiconductor layer by using the photoresist pattern as an etching mask.例文帳に追加

基板を用意する段階と、前記基板上に、下部半導体層、活性層及び上部半導体層を順次形成する段階と、前記上部半導体層上に、その側壁が前記基板の上部面に対して傾斜するように、フォトレジストパターンを形成する段階と、前記フォトレジストパターンをエッチングマスクとして使用し、前記上部半導体層、活性層及び下部半導体層を順次にエッチングする段階とを有する。 - 特許庁

A non-contact card 100 has a first base material layer 1, a first adhesive layer 2, an LC resonance circuit 7 composed of a conductor pattern 31a formed on one side of a film base material 3 and a conductor pattern 31b formed on the other side, a second adhesive layer 4, a second base material layer 5 and rewrite layer 6 from the bottom layer.例文帳に追加

本発明の実施形態である非接触型カード１００は、最下層から第１の基材層１と、第１の接着層２と、フィルム基材３の一方の面に形成された導体パターン３１ａと、もう一方の面に形成された導体パターン３１ｂから構成されたＬＣ共振回路７と、第２の接着層４と、第２の基材層５と、リライト層６と、を有して構成される。 - 特許庁

The stencil mask blank is provided with a supporting substrate 13 composed of a single crystal silicon wafer, an active layer 11 for preparing a transfer pattern, an intermediate insulation layer formed between the supporting substrate and the active layer, and an amorphous silicon layer 111 formed at the other side of the supporting substrate while an opening unit corresponding to the transfer pattern is prepared in the amorphous silicon layer, the supporting substrate, and the intermediate insulation layer.例文帳に追加

単結晶シリコンウェハからなる支持基板と、転写パターンを設けるための活性層と、前記支持基板と活性層の間に形成された中間絶縁層と、前記支持基板のもう一方側に設けたアモルファスシリコン層とを有し、前記転写パターンに対応する開口部を、前記アモルファスシリコン層と、前記支持基板と、前記中間絶縁層に設けたこと。 - 特許庁

The decorative sheet has a laminated structure comprising a transparent sheet laminated on a substrate sheet through a pattern layer, an adhesive layer and a protecting layer laminated on the transparent sheet wherein the pattern layer, the adhesive layer and the protecting layer are formed by (1) a composition not containing an organic solvent or (2) a composition containing an organic solvent having a carbon number of ≤5.例文帳に追加

基材シート上に模様層および接着剤層を介して透明シートが積層され、前記透明シート上に保護層が積層された積層構造を有しており、 前記模様層、前記接着剤層および前記保護層は、１）有機溶剤を含まない組成物又は２）炭素数が５以下の有機溶剤を含む組成物により形成されていることを特徴とする化粧シート。 - 特許庁

In the transparent conductive material, the aluminum pattern layer is laminated on one surface of a transparent base material, a curable transparent resin layer is laminated on the aluminum pattern layer, the thickness of an aluminum oxide film on a surface of the aluminum pattern layer opposite to at least its transparent base material side surface is not more than 13 Å, and the contact angle of a surface of the curable transparent resin layer with water is at least 79°.例文帳に追加

透明基材の一方の面にアルミニウムパターン層と、該アルミニウムパターン層上に硬化性透明樹脂層が積層されており、該アルミニウムパターン層の少なくとも該透明基材側とは反対側の面におけるアルミニウム酸化物皮膜の厚みが１３Å以下であり、且つ、該硬化性透明樹脂層表面の水の接触角が７９°以上であることを特徴とする、透明導電材。 - 特許庁

To provide a metal fine particle-containing resin particle, a metal fine particle-containing resin layer and a method for forming the metal fine particle-containing resin layer by which an efficient electroless plating is made possible and a more uniform metal conductive pattern layer is formed by forming a layer which allows an easy control of the etching thickness on the surface of an underlying pattern layer forming a pattern.例文帳に追加

パターンを形成する下地パターン層の表面にエッチングする厚さを容易にコントロールすることができる層を形成することにより、効率的な無電解めっき処理が可能となり、より均一な金属導体パターン層を形成することができる金属微粒子含有樹脂粒子、金属微粒子含有樹脂層および金属微粒子含有樹脂層の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A pattern formed photoresist layer produced from this positive photoresist composition is formed on a substrate, this positive photoresist layer is exposed with an irradiation pattern for imaging, and parts exposed with the irradiation pattern for imaging in the positive photoresist layer are removed, whereby the corresponding pattern formed substrate can be exposed and is prepared for subsequent processing of semiconductor device production.例文帳に追加

このポジ型フォトレジスト組成物から作られたパターン形成されたフォトレジスト層を基板上に形成し、このポジ型フォトレジスト層を結像用照射パターンで露光し、ポジ型フォトレジスト層のうち結像用照射パターンで露光された部分を除去して、対応するパターン形成された基板を露出させることができ、半導体デバイス製造のその後の処理に備える。 - 特許庁

A flexible wiring board includes an insulating substrate provided with a wiring pattern including a connector terminal pattern formed on its main surface, a conductive layer covering the connector terminal pattern, and an insulating protective layer covering a part of the wiring pattern, wherein the insulating substrate has a through hole at a stepped part formed by the insulating protective layer and the insulating substrate between the connector terminals.例文帳に追加

コネクタ端子パターンを含む配線パターンが主面に形成される絶縁性基板と、前記コネクタ端子パターンを覆う導電層と、前記配線パターンの一部を覆う絶縁性保護層とを備え、 前記絶縁性基板は、前記コネクタ端子間で、前記絶縁性保護層と前記絶縁基板とにより形成される段差部に貫通孔を有することを特徴とする。 - 特許庁

Then, after the metal gate substance layer is etched to form a metal gate pattern, a capping layer is formed on the metal gate pattern, and a selective oxidation process is performed for selectively oxidizing a substance containing silicon while suppressing oxidation of the metal layer included in the metal gate pattern in order to cure any damage occurring upon etching for forming the metal gate pattern.例文帳に追加

次いで、前記金属ゲート物質層をエッチングして金属ゲートパターンを形成した後、前記金属ゲートパターン上にキャッピング層を形成し、前記金属ゲートパターンを形成するためのエッチング時に発生したダメージをキュアリングするために前記金属ゲートパターンに含まれた前記金属層の酸化を抑制しつつ、シリコンを含有した物質を選択的に酸化させる選択的酸化工程を行う。 - 特許庁

This plasma display device includes a filter having a first base layer, a second base layer having a smaller refractive index than the first layer, and an external light shielding sheet including a plurality of pattern parts formed at spaces between the first and second base layers, wherein among the plurality of pattern parts, the interval between the two pattern parts adjacent to each other is larger than the height of the pattern part.例文帳に追加

プラズマディスプレイ装置は、パネルの上部基板側に形成され、第１ベース層と、第１ベース層より小さな屈折率を有する第２ベース層と、第１、２ベース層の間に互いに離隔して形成される複数のパターン部を含む外光遮断シートと、を備えるフィルタを含み、複数のパターン部のうち、互いに隣接した２つのパターン部間の間隔は、パターン部の高さより大きい。 - 特許庁

When performing on a circuit board the input/output impedance matching of approximately lower than 1 Ω relative to the power amplification element for power amplifying the high-frequency signals of 500 MHz or higher, in order to narrow the pattern width of the transmission line being pattern-formed on a pattern wiring layer of the circuit board, a ground layer is additionally formed in a dielectric layer immediately below the pattern concerned.例文帳に追加

５００ＭＨｚ以上の高周波信号を電力増幅する電力増幅素子に対して回路基板上で概ね１Ω未満の入出力インピーダンスマッチングを行う場合に、前記回路基板のパターン配線層にパターン形成される伝送線路のパターン幅が狭まるように、該当パターン直下の誘電体層内にグランド層を追加形成するようにしたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition for highly finely and efficiently forming a pattern such as a wiring pattern and a solder resist pattern by having high sensitivity and very high time passage stability of sensitivity, and to provide a pattern forming material having a photosensitive layer formed by the photosensitive composition, a photosensitive laminate, a pattern forming apparatus, and a pattern forming method.例文帳に追加

高感度であるとともに、感度の経時安定性が極めて高く、配線パターン及びソルダーレジストパターン等のパターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な感光性組成物、該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A ground layer is not formed in region A in proximity of a metal plating layer 3 among regions on the other side opposing a wiring pattern 2a formed on one side of a base insulating layer 1, and in region B in proximity of the metal plating layer 3 among regions on one side opposing a wiring pattern 2b formed on the other side of the base insulating layer 1.例文帳に追加

ベース絶縁層１の一面上に形成された配線パターン２ａに対向する他面上の領域のうち金属めっき層３近傍の領域Ａ、およびベース絶縁層１の他面上に形成された配線パターン２ｂに対向する一面上の領域のうち金属めっき層３近傍の領域Ｂには、それぞれ接地層が形成されない。 - 特許庁

The method for forming the resist pattern comprises forming the resist layer on the substrate, then forming the protective film on the resist layer by using the protective film forming material, selectively exposing the resist layer to electron beams or EUV through the protective layer, then after subjecting to PEB (post exposure bake), removing the protective film, and developing the resist layer to form the resist pattern.例文帳に追加

基板上にレジスト層を形成した後、該レジスト層上に前記保護膜形成用材料を用いて保護膜を形成し、該保護膜を介して前記レジスト層を電子線またはＥＵＶにより選択的に露光し、ＰＥＢ（露光後加熱）を施した後、前記保護膜を除去し、前記レジスト層を現像してレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法。 - 特許庁

The semiconductor chip has an area which comprises only a dummy pattern for restricting a dishing caused when levelling by a chemical machining polishing method, in at least a portion of the conductor wiring layer of an uppermost layer, and the dummy pattern is laid out so as to present the specific position of a semiconductor element located in a lower layer than the conductor wiring layer of the uppermost layer.例文帳に追加

最上層の導体配線層の少なくとも一部分に、化学機械研磨法により平坦化を行なう際に生じるディッシングを抑えるためのダミーパターンのみからなる領域を有しており、前記ダミーパターンは前記最上層の導体配線層よりも下層に位置する半導体素子の特定の位置を提示するようレイアウトされている。 - 特許庁

The light emitting device includes a resin substrate 14 having thermal conductivity of 1.0-9.0 [W/m K], a white insulating layer 15 formed on the resin substrate, a circuit pattern layer 16 formed on the insulating layer, and a light emitting element 13 which is formed on the insulating layer and is electrically connected with the circuit pattern layer.例文帳に追加

請求項１の発明は、熱伝導率１．０〜９．０［Ｗ／ｍ・Ｋ］を有する樹脂基板14と；樹脂基板上に設けられた白色の絶縁層15と；絶縁層上に設けられた回路パターン層16と；絶縁層上に配設されるとともに回路パターン層に電気的に接続された発光素子13と；を具備していることを特徴とする。 - 特許庁

A conductive polymer layer 4 is connected to a conductive pattern 2; an electrolyte layer 3 is arranged adjacent to this conductive polymer layer 4; a lower electrode 5 is arranged adjacent to a bottom surface of this electrolyte layer 3; and DC voltage which makes the conductive polymer layer 4 expand or shrink is applied between the conductive pattern 2 and the lower electrode 5 by a change-over switch 7.例文帳に追加

導体パターン２に導電性高分子層４を接続し、この導電性高分子層４に電解質層３を隣接配置し、この電解質層３の下面に下部電極５を隣接配置し、切替スイッチ７によって導体パターン２、下部電極５間に導電性高分子層４を膨張又は収縮させる直流電圧を印加する。 - 特許庁

A light reflecting mask 100 includes a reflecting layer 102 which is provided on a substrate 101 and reflects light, an absorbing layer 105 which is provided on the reflecting layer 102 and absorbs light, a device pattern which is formed in a first region of the absorbing layer 105, and the reflectance measuring pattern which is formed in a second region of the absorbing layer 105.例文帳に追加

光反射型マスク１００は、基板１０１上に設けられ、かつ光を反射する反射層１０２と、反射層１０２上に設けられ、かつ光を吸収する吸収層１０５と、吸収層１０５の第１の領域に形成されたデバイスパターンと、吸収層１０５の第２の領域に形成された反射率測定パターンとを含む。 - 特許庁

To provide a method for producing a laminate which is produced by forming a pattern layer on the surface of a substrate layer made of a rubber-reinforced resin composition and covering the pattern layer with a transparent resin layer, excellent in appearance, easy of production, and also excellent in adhesion between layers and/or in solvent resistance of the anchor coat layer.例文帳に追加

ゴム強化樹脂組成物からなる基材層の表面に図柄層を形成し、該図柄層を透明樹脂層で被覆してなる積層体の製造方法であって、外観に優れ、製造が容易な積層体、さらには各層間の密着性及び／又はアンカーコート層の耐溶剤性にも優れた積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The photoluminescent film comprises two or more pairs of photoluminescent pattern layers each contacting with a primer layer, a pair of photoluminescent pattern layer consisting of a relief forming layer and a metal thin film layer, wherein preferably each of at least two photoluminescent patterns is visible from the back side and front side, and the glass transition temperature of the primer layer is 130°C or below.例文帳に追加

レリーフ形成層と金属薄膜層とを１組の光輝性図柄層として、プライマ層を介して、２組又はそれ以上の組の光輝性図柄層を有し、好ましくは、少なくとも２つの光輝性図柄が表側及び裏面からそれぞれ視認でき、上記プライマ層のガラス転移温度が１３０℃以下であることも特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the element substrate 100 includes: a process for forming a sacrifice layer having a first pattern on a substrate 10; a process for forming a metal layer at the upper portion of the formation and non-formation regions of the sacrifice layer; and a process for forming a metal layer 34 having a second pattern by removing the sacrifice layer by heating.例文帳に追加

本発明にかかる素子基板１００の製造方法は、基板１０上に第１のパターンの犠牲層を形成する工程と、前記犠牲層の形成領域および非形成領域の上方に金属層を形成する工程と、加熱することにより、前記犠牲層を除去して、第２のパターンの金属層３４を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

This authenticity identifying body 1 is formed by laminating the cholesteric liquid crystal layer 4 on the upper surface of a laminating body of which a colored pattern layer 3 is laminated on the upper or lower surface of a transparent base material 2, and on the lower surface, a hologram forming layer 5 and a reflecting metal layer 6 along a fine rugged pattern of the hologram forming layer 5.例文帳に追加

透明基材２の上面もしくは下面に着色パターン層３が積層された積層体の上面にコレステリック液晶層４、下面にホログラム形成層５およびホログラム形成層５の微細凹凸に沿った反射性金属層６を積層して真正性識別体１とすることにより、課題を解決することができた。 - 特許庁

The method for forming the protective layer on the photomask comprises a process of overlapping the photomask having a pattern formation layer with a laminated film having the protective layer and a temporary substrate so as to bring the pattern formation layer into contact with the protective layer, a process of heat-pressurizing the body overlapped by the above described process under the reduced pressure and a process of stripping the temporary substrate.例文帳に追加

パターン形成層を有するフォトマスクと、保護層と仮支持体を有する積層フィルムを、パターン形成層と保護層が接するように重ね合わせる工程、前記工程により重ね合わせたものを減圧下加熱圧着する工程および仮支持体を剥離する工程を有する、フォトマスクに保護層を形成する方法。 - 特許庁

Here, the auxiliary layer is not dissolved due to the formation of a passive film and it becomes possible to form the pattern by the protective functional layer dissolving.例文帳に追加

ここで補助層は不動態膜が形成されることにより溶出することはなく、保護機能層が溶出することによりパターニングすることが可能となる。 - 特許庁

Subsequently, a current constriction layer 14 of p-type GaN is grown in a region other than the mask pattern 25 on the upper surface of the n-type contact layer 13.例文帳に追加

次に、ｎ型コンタクト層１３の上面のマスクパターン２５を除く領域にｐ型ＧａＮからなる電流狭窄層１４を成長させる。 - 特許庁

Moreover, the reflective layer 32 is formed to cover all leaving only a connection part of an electric conduction pattern provided on the substrate 22 like the insulating layer.例文帳に追加

また、反射層３２は、絶縁層と同様に、基板２２上に設けられた導電パターンの接続部分のみを残して全て覆うように形成されている。 - 特許庁

A photosensitive resist is applied on the surface of a transparent conductive layer 3, exposed through a specified mask pattern and developed to form a resist layer 4.例文帳に追加

透明導電層３の表面上に感光性レジストを塗布し、所定のマスクパターンによって露光し、現像することによって、レジスト層４を形成する。 - 特許庁

A chemical resistance layer 21 is formed on the insulating layer 1, and partially provided at an edge part in a formation area for the conductor pattern 2.例文帳に追加

耐薬品性層２１は、絶縁層１の上に形成されており、導体パターン２の形成領域において縁部分に部分的に設けられている。 - 特許庁

To provide an optical sheet and a method of manufacturing the same by which an air layer is surely and easily formed on a light transmission part of a light shielding pattern layer.例文帳に追加

光学シートおよびその製造方法において、遮光パターン層の光透過部に確実かつ容易に空気層を形成することができるようにする。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist lower layer film for forming a lower layer film superior in pattern transferability (particularly, resist bend resistance in RIE).例文帳に追加

パターン転写性（特に、ＲＩＥでのレジスト曲がり耐性）に優れた下層膜を形成する可能なレジスト下層膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

The single layer particle layer 11b of a part heated by a thermal head 3 according to a signal is delivered onto the surface of the second carrier 2 and forms a plate particle pattern.例文帳に追加

信号に従いサーマルヘッド３に加熱された部分の単層粒子層１１ｂは、第２担持体２の表面に受け渡されて版粒子パターンを形成する。 - 特許庁

The chemical resistance layer 21 is formed on the insulating layer 1, and partially provided at an edge part in a formation region for the conductor pattern 2.例文帳に追加

耐薬品性層２１は、絶縁層１の上に形成されており、導体パターン２の形成領域において縁部分に部分的に設けられている。 - 特許庁

By exposing a part of the lower layer conducting pattern a part of which is positioned below the chip-mounting part, lower layer electrode parts 51P, 51G, for a power source and ground are formed.例文帳に追加

チップ実装部の下方に位置する下層導電パターンの一部を露出して電源及びグランド用下層電極部（５１Ｐ，５１Ｇ）が形成される。 - 特許庁

A surface protective layer 4 is formed on a release film and, succeedingly, a perspective pattern layer 3 is formed on the surface of the base material 1 to form a transfer film.例文帳に追加

一方、剥離フィルム上に表面保護層４、続いて基材１面が透視可能な絵柄層３を形成して転写フィルムを形成しておく。 - 特許庁

The light entering the core layer 121 is guided in the core layer 121, and optically coupled to a next optical component in the state wherein it does not spread from the near-field pattern.例文帳に追加

コア層１２１に入った光は、ニアフィールドパターンから広がらない状態のまま、コア層１２１を導かれ、次の光学部品へ光結合される。 - 特許庁

The pattern forming method comprises laminating the photosensitive layer of the photosensitive transfer material on a substrate, and exposing and developing the laminated photosensitive layer.例文帳に追加

該感光性転写材料の感光層を基材上に積層し、積層された前記感光層に対し、露光及び現像を行うパターン形成方法である。 - 特許庁

By recognizing an image of each layer of the pattern, when detecting a defect in a following process, a layer wherein a detected defect exists can be specified.例文帳に追加

パターンの各層の像を認識することで、その後に行われる欠陥の検出の際に、検出された欠陥が存在する層の特定が可能になる。 - 特許庁

After a barrier metal layer 14, corresponding to an interconnection pattern, is formed on a surface protective film 12, a sidewall film 16 is formed on the surface of the layer 14.例文帳に追加

表面保護膜１２上に、配線パターンに応じたバリアメタル層１４が形成された後、その表面にサイドウォール用膜１６が成膜される。 - 特許庁

The amorphous carbon layer and the upper part of the layers to be patterned except at least the layer 43 of the lower part of the layers are etched by using the resist pattern 47 as a mask.例文帳に追加

レジストパターン４７をマスクとして、アモルファスカーボン膜と、パターニングすべき膜の少なくとも下層部分４３を残して一部上層部分をエッチングする。 - 特許庁

When a power source layer is separated by different planes, a power source layer pattern 110 forms ground patterns 9 on slits 20 between planes.例文帳に追加

電源層パターン１１０は、電源層が異なるプレーンにより分離されている場合、各プレーン間のスリット２０にグランドパターン９を形成するものである。 - 特許庁

The undercoat of the light shielding layer is subjected to a third etching process by using the light shielding layer and the resist pattern for correction as a mask to correct the excess defect.例文帳に追加

遮光層及び修正用レジストパターンをマスクにして遮光層の下層に対して第３のエッチング処理を施し余剰欠陥箇所を修正する。 - 特許庁

A first insulating layer 41 is formed on a suspension body 10, and a wiring pattern W1 for writing is formed on the first insulating layer 41.例文帳に追加

サスペンション本体部１０上に第１の絶縁層４１が形成され、第１の絶縁層４１上に書込用配線パターンＷ１が形成される。 - 特許庁

Particularly in the peripheral region (b), the first layer wiring 7 and the second layer wiring 9 are disposed as a light-shielding pattern covering the photoelectric converter units 3.例文帳に追加

また特に周辺領域ｂにおいては、第１層配線７および第２層配線ｂが、光電変換部３を覆う遮光パターンとして設けられている。 - 特許庁