「layer substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(781ページ目) - Weblio英語例文検索

Further, the multilayer wiring substrate 10 includes a plurality of reserve electrodes 42 corresponding to each of the electrode 22, the reserve electrode 42 being electrically connected to the internal wiring 16 to which the corresponding electrodes 22 are connected, in the sheet 12a located directly under the top layer sheet 14a and directly under the corresponding electrodes 22.例文帳に追加

多層配線基板１０は、さらに、それぞれが前記電極２２に対応された複数の予備電極４２であって、対応する前記電極２２が接続された内部配線１６に電気的に接続された複数の予備電極４２を、前記最上層のシート１４ａの直下に位置するシート１２ａにあって、対応する前記電極２２の直下に備える。 - 特許庁

In a dividing region, a plurality of grooves 4 that intersect the forming direction of the dividing region 2Y, as viewed in a plan view, and penetrate the uppermost layer of the laminate 1 in the thickness direction are aligned along the forming direction of the dividing region 2Y, whereby neighboring substrate regions 3 are coupled through juncture sections 5, provided in between the grooves.例文帳に追加

分割領域内に、平面視して分割領域２Ｙの形成方向と交差するとともに積層体１の最上層を厚み方向に貫通する複数の溝部４を分割領域２Ｙの形成方向に沿って配列させることにより、隣接する基板領域３を、溝部間に設けられた連結部５によって連結させる。 - 特許庁

To provide a new structure which can improve the characteristic for distributing luminous intensity of a light emitting element using the rear surface of a substrate composed of a gallium nitride compound semiconductor on which a laminated structure containing a light emitting layer is not formed as its main light emitting surface immediately above the element, and, at the same time, can maintain the luminous intensity of the element at a high level.例文帳に追加

窒化ガリウム系化合物半導体からなる基板を用い、この基板の発光層を含む積層構造が形成されていない裏面側を主発光面側とする発光素子において、発光素子直上での配光特性を改善するとともに、発光強度を高く保持することができる新規な構造を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a film comprising an organic-inorganic composite material having excellent surface smoothness, excellent heat resistance, excellent solvent resistance and low thermal expansivity and useful as a flat panel display element substrate or the like, to provide a transparent conductive film obtained by laminating a transparent conductive layer to the film or the like, and to provide a flat panel display having the transparent conductive film and the like as constituting elements.例文帳に追加

表面平滑性、耐溶剤性、低熱膨張性及び耐熱性に優れ、フラットパネルディスプレイ素子基板等として有用な有機・無機複合体からなるフィルム等、該フィルム等上に透明導電層が積層された透明導電性フィルム等、及びこの透明導電性のフィルム等を構成要素とするフラットパネルディスプレイを提供する。 - 特許庁

This nonlinear optical thin film is a thin film which is formed on a substrate directly or with an other layer and which is made from an amorphous ally or from the mixture of the amorphous alloy and oxide glass components and this optical information recording medium uses this nonlinear optical thin film whose refractive index is reversibly changed in accordance with the change of the intensity of a laser beam to be made incident on the thin film.例文帳に追加

基板上に直接または他の層を介して形成された非晶質合金あるいは非晶質合金と酸化物ガラス成分の混合物からなる薄膜であって、この薄膜に入射されるレーザー光の強度変化に応じて屈折率が可逆的に変化する非線形光学薄膜を用いた光情報記録媒体。 - 特許庁

The apparatus for forming the thin film by atomic layer epitaxy (ALE) uses a source supply means which has corrected the varying supply flow rate of the source gas to each substrate surface according to a distance from a source gas resource of a supply pipe so as to be more uniform, when having a plurality of substrates placed therein and supplying the source gas to the plurality of the substrates.例文帳に追加

複数の基板を配置し、原料ガスが複数の基板に供給される際に、各基板表面への原料ガスの供給流量が供給パイプの原料ガス供給源からの距離に応じて変化することを、より均一化するように補正した原料供給手段を用いる、原子層成長（ＡＬＥ）による薄膜成膜装置。 - 特許庁

Then the optical semiconductor device has a third semiconductor region provided on a region of a semiconductor layer isolated from the first semiconductor region and second semiconductor region by an element isolation region, and having the first conductivity type, and a fourth semiconductor region provided between a semiconductor substrate and the third semiconductor region and having the first conductivity type.例文帳に追加

そして、素子分離領域により前記第１半導体領域および前記第２半導体領域と分離された半導体層の領域に設けられ、第１導電型を有する第３半導体領域と、前記半導体基板と前記第３半導体領域の間に設けられ、第１導電型を有する第４半導体領域とを備える。 - 特許庁

The nitride semiconductor laser element having a nitride semiconductor layer that is laminated on a substrate and has a ridge on its surface and an electrode, wherein a first protective film is formed so as to have air gaps in at least a part of regions over surfaces of the nitride semiconductor layers on both sides of the ridge from sides of the ridge.例文帳に追加

基板上に積層され、その表面にリッジを有する窒化物半導体層と、電極とを備えた窒化物半導体レーザ素子であって、前記リッジの側面から、該リッジの両側の窒化物半導体層の表面にわたる領域の少なくとも一部にエアギャップを有するように第１の保護膜が形成されてなる窒化物半導体レーザ素子。 - 特許庁

The paper has at least one porous ink absorbing layer on a non-water-absorbing substrate and this layer contains a compound of which the molecular weight is 200 or less and which is expressed by general formula (I).例文帳に追加

着色剤含有インクにより画像形成されたインクジェット記録用紙上に、皮膜形成能を有するポリマーを含有し、かつ実質的に着色剤を含有しない無色インクを用いて、１ｍ^2あたり０．０５〜０．３ｇの乾燥固形分を有する保護皮膜を形成させるインクジェット記録方法で用いるインクジェット記録用紙であって、非吸水性支持体上に少なくとも１層の多孔質インク吸収層を有し、該多孔質インク吸収層が、分子量が２００以下である下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有するインクジェット記録用紙。 - 特許庁

The method for manufacturing the mold structure includes a transfer step to press the projecting and recessing pattern side of a master disk against an imprint resist layer formed on one surface of a substrate to be worked and composed of an electron beam resist so as to transfer the projecting and recessing pattern to the imprint resist layer.例文帳に追加

原盤の凹凸パターン側を、被加工基板の一方の表面に形成された電子線レジストからなるインプリントレジスト層に押し付け、凹凸パターンをインプリントレジスト層に転写する転写工程を含み、凹凸パターンにおける１ビットの面積Ｓｂｉｔと、１ビットの４つの角部に前記電子線レジストが到達していない欠け部の面積Ｓｃｈｉｐとの比率〔（Ｓｃｈｉｐ／Ｓｂｉｔ）×１００）〕が２％以上である場合には、原盤における１ビットの角部の形状を変化させるモールド構造体の製造方法である。 - 特許庁

The article coated with the photocatalyst, including a photocatalyst layer disposed on the surface of a substrate, which photocatalyst layer is formed by applying a photocatalytic coating liquid thereonto and subsequently drying the same, with the photocatalytic coating liquid including photocatalytic titanium oxide particles, cerium oxide particles, a curable silicone emulsion and water, is characterized in that the photocatalytic titanium oxide particles and the cerium oxide particles are partially coated or modified with a substance comprising a hydrophobic group.例文帳に追加

基材表面に光触媒層を備えた光触媒塗装体であって、前記光触媒層は、光触媒コーティング液を塗布後乾燥させることにより得られ、前記光触媒コーティング液は、光触媒性酸化チタン粒子と、酸化セリウム粒子と、硬化性シリコーンエマルジョンと、水とを備え、前記光触媒性酸化チタン粒子および前記酸化セリウム粒子は疎水性基を有する物質により部分的に被覆或いは変性処理されていることを特徴とする光触媒塗装体。 - 特許庁

The article coated with the photocatalyst, including a photocatalyst layer disposed on the surface of a substrate, which photocatalyst layer is formed by applying a photocatalytic coating liquid thereonto and subsequently drying the same, with the photocatalytic coating liquid including photocatalytic titanium oxide particles, tin oxide particles, a curable silicone emulsion and water, is characterized in that the photocatalytic titanium oxide particles and the tin oxide particles are partially coated or modified with a substance comprising a hydrophobic group.例文帳に追加

基材表面に光触媒層を備えた光触媒塗装体であって、前記光触媒層は、光触媒コーティング液を塗布後乾燥させることにより得られ、前記光触媒コーティング液は、光触媒性酸化チタン粒子と、酸化スズ粒子と、硬化性シリコーンエマルジョンと、水とを備え、前記光触媒性酸化チタン粒子および前記酸化スズ粒子は疎水性基を有する物質により部分的に被覆或いは変性処理されていることを特徴とする光触媒塗装体。 - 特許庁

The manufacturing method for the circuit board having an electrode wiring formed at a surface part of a substrate and an electro-thermal conversion element with a heating resistor film formed on the electrode wiring for generating heat energy comprises the steps of forming an electrode wiring layer for forming the electrode wiring, forming the heating resistor film and etching the electrode wiring layer and the heating resistor film altogether to form the electrode wiring.例文帳に追加

基板の表面部に形成された電極配線と、該電極配線上に形成された熱エネルギーを発生するための発熱抵抗体膜を有する電気熱変換素子と、を有する回路基板の製造方法であって、前記電極配線を形成するための電極配線層を形成し、前記発熱抵抗体膜を成膜した後、前記電極配線層と発熱抵抗体膜を一括エッチングすることにより、前記電極配線を形成することを特徴とする回路基板の製造方法である。 - 特許庁

The surface protective film consists of a substrate layer and an adhesive layer.例文帳に追加

基材層と粘着層からなる表面保護フィルムであって、粘着層は、メルトフローレート（ＭＦＲ）が０．１〜５０ｇ／１０分、密度（Ｄ）が０．８６０〜０．９１５ｇ／ｃｍ^３、重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が３．５未満、温度上昇溶離分別（ＴＲＥＦ）測定における４０℃までの溶出量（Ｅ）と密度（Ｄ）との関係が下記の式（１）を満たすエチレンとα−オレフィンとの共重合体からなり、粘着層の表面は活性化処理が施されていることを特徴とする表面保護フィルムが提供される。 - 特許庁

One of the plurality of semiconductor layers is an inactive layer 336 containing nitrogen interposed between the quantum well active layer and the substrate.例文帳に追加

基板３２０と、前記基板上に形成された複数の半導体層と、量子井戸活性層３５０を含む前記半導体層の１つと、前記量子井戸活性層の一方の側に配置されたＡｌを含む第１の反射器３３０及び前記量子井戸活性層の反対側に配置された第２の反射器３９０とを含んでなり、前記半導体層の１つが窒素を含む不活性層３３６であり、窒素を含む前記不活性層が前記量子井戸活性層と前記基板との間に配置されている非対称垂直空胴表面放出レーザ構造とする。 - 特許庁

One electrode is formed on the opposite conductivity type semiconductor layer, the other electrode is formed on the rear surface of the semiconductor substrate, the opposite conductivity type semiconductor layer additionally has light emitting layers and clad layers laminated in order, a film containing Zn is formed on an upper face, and thermal treatment is given after this to form a face given rough face treatment, thereby improving optical outside take-out efficiency.例文帳に追加

半導体基板上に双方の膜厚合計が１５μｍ以下になるように一導電型半導体層と逆導電型半導体層とを順次積層し、この逆導電型半導体層上に一方電極を、半導体基板の裏面に他方電極を形成し、さらに逆導電型半導体層は発光層とクラッド層とを順次積層して成り、上面にＺｎを含む膜を形成し、その後熱処理をくわえることで、粗面化処理面と成したことにより、光外部取り出し効率を向上させた。 - 特許庁

By attaining a structure for which a third electrode formed in an area, where the photoelectric conversion layer is not formed on the supporting substrate or in the area where the photoelectric conversion layer is not formed on the insulation layer is connected to the second electrode, the electrical resistance of the surface opposite to the incident light is reduced, and the crystal system solar battery of high efficiency and the large area is obtained.例文帳に追加

セラミックや金属等の支持基板上に絶縁層が形成され、その絶縁層上に光エネルギーを電気エネルギーに変換する光電変換層が設けられ、入射光により発生したキャリアを取り出すために、光電変換層の入射光面倒に第1の電極が、その反対の絶縁層側の面に第2の電極が形成された太陽電池において、支持基板上の光電変換層が形成されていない領域または絶縁層上の光電変換層が形成されていない領域に形成された第3の電極が前記第2の電極に接続されている構造とすることにより、入射光と反対の面の電気抵抗を低減し、高効率で大面積の結晶系太陽電池を得る。 - 特許庁

The laminated wiring board comprises a wiring board equipped with a substrate and a plurality of through hole electrodes penetrating the substrate, and an insulation layer formed on at least one side of the wiring board wherein the insulation layer is formed above the end face of the through hole electrode with an opening having an area smaller than that of the end face.例文帳に追加

配線板１と、配線板１の一面側に設けられるコンデンサ構造３とを有し、第１電極層４及び第２電極層５が各々、環状切欠き部７によって、第１電極部４ｂ，５ｂと第２電極部４ａ，５ａとに分離され、第１電極層及び第２電極層５の第２電極部４ａ，５ａ同士が互いに電気接続され、第１電極層４及び第２電極層５の第１電極部４ｂ，５ｂ同士が互いに電気接続され、配線板１は、第１電極部４ｂに電気接続されるスルホール電極２ｂと、第２電極部４ａに電気接続される別のスルホール電極２ａを有するコンデンサであって、第１電極層４と配線板１との間の絶縁層８に形成された開口部１２の開口面積がスルホール電極２ａ，２ｂの端面の面積よりも小さいインターポーザ型コンデンサである。 - 特許庁

This manufacturing method is carried out in a manner, where a phosphorus junction layer 2 provided with an N++ part heavily doped with phosphorus on its surface is formed on a P-type silicon substrate 1, a surface electrode 6 is formed on the N++ part 3, and a back face electrode 7 is formed on the rear of the P-type silicon substrate 1.例文帳に追加

少なくともＰ型シリコン基板１に、リンが高濃度にドープされたｎ^^++部を表面に有するリン接合層２を形成した後、該ｎ^++部３上に表面電極６を形成し、Ｐ型シリコン基板裏面に裏面電極７を形成する太陽電池の製造方法において、前記リン接合層の形成は、リンを含んだ有機シリカ化合物ペースト１５を表面電極が形成されるパターンに対応してＰ型シリコン基板１に印刷し、該Ｐ型シリコン基板に気相リン拡散熱処理を施すことにより、ｎ^++部３を表面に有するリン接合層を形成する太陽電池の製造方法。 - 特許庁

The substrate 10 is provided in a gap between the pixel electrodes 15 in at least one direction of the first direction and the second direction, and includes: a first oriented film that horizontally orients liquid crystal molecules in the liquid crystal layer along a longitudinal direction of the gap; and a second oriented film that at least covers the pixel electrodes and vertically orients the liquid crystal molecules along a normal line of the substrate.例文帳に追加

第１方向と前記第１方向に交差する第２方向とに複数の画素電極１５が配置された基板１０と、液晶層と、を備えた液晶装置であって、前記基板１０は、前記第１方向または前記第２方向の少なくとも一方において前記画素電極１５間の隙間に設けられ、前記液晶層中の液晶分子を前記隙間の長手方向に沿って水平配向させる第１配向膜と、少なくとも前記画素電極を覆う、前記液晶分子を前記基板の法線に沿って垂直配向させる第２配向膜と、を有する。 - 特許庁

Electrodes 61 and 62 are formed on the semiconductor substrate 2 around the T-type gate electrode 5, the hollow structure 7 is provided between the head part 52 of the T-type gate electrode 5 and the insulation layer 4 in order to isolate the head part 52 of the T-type gate electrode 5 and the electrodes 61 and 62 on the semiconductor substrate 2.例文帳に追加

半導体基板２上に形成された絶縁層４と、絶縁層４上に、この絶縁層４に形成された穴９を通じて半導体基板２に接続して形成されたＴ型ゲート電極５とを有し、Ｔ型ゲート電極５の周囲の半導体基板２上に電極６１，６２が形成され、Ｔ型ゲート電極５の頭の部分５２と絶縁層４との間が中空構造７とされ、この中空構造７により、Ｔ型ゲート電極５の頭の部分５２と半導体基板２上の電極６１，６２とが離間されている半導体装置１を構成する。 - 特許庁

The dummy plate for offset printing is substantially constituted of a sheet type, foil type or belt type aluminum substrate, whose surface is roughened, anodized and made hydrophilic mechanically and/or electrochemically, and a light-insensible water-soluble layer applied for the substrate.例文帳に追加

本発明は、板状の、箔状のまたは帯状の、機械的におよび／または電気化学的に粗面化され、陽極酸化されそして親水化されたアルミニウム支持体およびそれに適用された非感光性の水溶性層より本質的になるオフセット印刷用のダミー版であって、層が式−ＣＯ−ＮＨ−および／または−ＣＯ−Ｎ＜の懸垂基を有する単量体単位を有し且つ２５℃の温度におけるその水中溶解度が少なくとも５０ｇ／ｌである少なくとも１種の共重合体、並びに少なくとも１種の酸性化合物および／またはその塩を含んでなるダミー版に関する。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptive member has a cylindrical electrically conductive substrate and a photoconductive layer comprising a silicon-base non-single crystalline material containing hydrogen, halogen and at least one of the group IIIb elements of the Periodic Table on the surface of the substrate.例文帳に追加

円筒状導電性支持体と、支持体の表面上に水素原子、ハロゲン原子及び周期律表第IIIｂ族元素からなる群より選択された少なくとも一つの元素を含有しシリコン原子を母体とする非単結晶材料からなる光導電層とを有し、光導電層の表面側で実質的に光を吸収する領域の膜厚Ａ（ｍｍ）、光受容部材の直径Ｄ（ｍｍ）、光受容部材の回転速度Ｂ（ｍｍ／ｓｅｃ）及び帯電前露光と帯電器の間の角度Ｃ（ｒａｄ）が、下記式（１）で示される関係にある電子写真用光受容部材。 - 特許庁

The wiring formation method includes: a process for forming a coating layer 3 having a dispersed solution including conductive fine particles, on a resin substrate 1; a process for forming a conductive fine wiring 4 by consecutively irradiating a specific area of the coating layer 3 with a laser beam 6; and a process for removing material in the area other than the conductive fine wiring 4.例文帳に追加

樹脂基板１上に、導電性微粒子を含有する分散溶液の塗布層３を形成する工程と、レーザ光６を塗布層３の特定領域に連続的に照射していくことで、導電性微細配線４を形成する工程と、導電性微細配線４以外の領域の材料を除去する工程とを備え、塗布層３の厚さをｄ、塗布層３の光吸収係数をα、レーザ光６の入射光強度をＩ_0、樹脂基板１上に到達するレーザ光６の透過光強度をＩ_1とするとき、以下の関係式から成り立つことを特徴とする。 - 特許庁

Here, the main surface of a semiconductor substrate 10 is tilted against a reference plane containing a crystal axis, and related to the selectively oxidized layer 16, a layer which is to be oxidized wherein the profile provided, when it is cut along the plane parallel to the main surface is smooth in a macro manner, comprising at least no singular point, is oxidized starting with a peripheral edge.例文帳に追加

半導体基板１０の主面に、活性層１４を挟んで上下の反射ミラー層１２、１８が形成され、上下の反射ミラー層１２、１８の少なくとも一方にその周縁部が酸化された選択酸化層１６を備えた面発光型半導体レーザにおいて、半導体基板１０の主面を、基準となる結晶軸を含む面に対して傾斜させ、選択酸化層１６を、主面と平行な面で切断したときの外周形状が少なくとも特異点のないマクロ的に滑らかな形状の被酸化層を周縁部から酸化して形成する。 - 特許庁

A passivation film 14 of silicon nitride having thickness of about 1 μm is formed on the insulating film 12 and the p-side electrode 13 and a light emitting layer 15 emitting light having emission wavelength shorter than the wavelength corresponding to the energy gap of silicon constituting the semiconductor substrate 10 and containing a fluorescent material having luminous properties is formed on the passivation film 14.例文帳に追加

絶縁膜１２及びｐ側電極１３上には、膜厚が約１μｍの窒化シリコンからなるパッシベーション膜１４が形成され、該パッシベーション膜１４上には、発光波長が半導体基板１０を構成するシリコンのエネルギーギャップに相当する波長よりも短い発光光を発し且つ蓄光性を有する蛍光体材料を含む発光層１５が形成されている。 - 特許庁

The image forming material has an image forming layer containing at least an organic dye having no counter anion and having absorption in the visible region, a radical generating agent which does not absorb visible light which is absorbed in the organic dye, a radical polymerizable compound and a compound which deactivates radical generation on the substrate.例文帳に追加

支持体上に、少なくとも、対アニオンを持たず、かつ、可視域に吸収を有する有機色素と、有機色素が吸収する可視域の光を吸収しないラジカル発生剤と、ラジカル重合可能な化合物と、ラジカル発生を失活させる化合物と、を含む画像形成層を有することを特徴とする画像形成材料およびこれを用いた画像形成方法である。 - 特許庁

The apparatus is equipped with an electrophotographic photoreceptor 12 having a conductive substrate and a photosensitive layer, an electrifying apparatus 14, an exposure apparatus 16, a developing apparatus 18 and a transfer apparatus 32.例文帳に追加

導電性基体及び感光層を有する電子写真感光体１２と、帯電装置１４と、露光装置１６と、現像装置１８と、転写装置３２と、を備え、露光装置１６はマルチビーム方式を採用する構成を有し、感光層は、金属フタロシアニンを含み且つ下記式（１）で表される吸光度Ａ_１が０．５以上である第一の金属フタロシアニン含有層を有することを特徴とする画像形成装置。 - 特許庁

To provide an alkali-soluble resin for forming an alkali-soluble photosensitive coloring composition, which causes few residues in an unexposed part when the composition is applied to a color filter substrate by a die-coating method for forming a colored layer of the color filter and allows easy removal of a dry aggregation adhering to a die lip.例文帳に追加

本発明は、カラーフィルタ用基板上にダイコート法により塗布し、カラーフィルタの着色層を形成した場合に、未露光箇所における残渣が少なく、かつ、乾燥凝集物がダイリップに付着した場合であっても容易に除去することができるアルカリ可溶型感光性着色組成物を形成可能なアルカリ可溶型樹脂を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide a method which can form semiconductor dots as desired, while making a semiconductor film polycrystalline without spoiling the planarity of the top surface of a polycrystalline silicon layer and a tunnel oxide film and can easily manufacture a memory element, having a fine particle floating gate easily at a low cost, even when the substrate is made of glass or plastic.例文帳に追加

結晶化シリコン層の表面の平坦性やトンネル酸化膜を損なうことなく、半導体膜を所望のように多結晶化する一方で、所望のように、半導体ドットを形成することができ、基板がガラスあるいはプラスチックで形成されている場合にも、容易に、かつ、低コストで、微粒子フローティングゲートを有するメモリ素子を製造することができるメモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this optical recording medium formed by providing a recording layer on a substrate, the recording medium includes a formazan metal chelate anionic compound comprising a formazan compound represented by general formula (I) and a metal, a metal oxide or their salts, and at least one coloring matter salt made of a styryl coloring matter cationic compound represented by general formula (II).例文帳に追加

基板上に記録層を設けてなる光記録媒体において、記録媒体中に一般式（Ｉ）で示されるホルマザン化合物と金属、金属酸化物またはそれらの塩からなるホルマザン金属キレートアニオン化合物と一般式（ＩＩ）で示されるスチリル色素カチオン化合物からなる色素塩を少なくとも一種類含有することを特徴とする光記録媒体；一般式（Ｉ）一般式（ＩＩ） - 特許庁

This method for producing the automotive interior trim, comprising laminating and bonding a porous substrate to a surface layer material through an organic polyisocyanate in the presence of an amine aqueous solution, is characterized in that the organic polyisocyanate is a non-yellowing polyisocyanate and that the amine aqueous solution is the aqueous solution of a primary or secondary amine compound.例文帳に追加

多孔質基材と表層材をアミン水溶液の存在下、有機ポリイソシアネートを介して積層接着して得られる自動車内装材の製造方法において、該有機ポリイソシアネートが無黄変ポリイソシアネートであり、かつ、アミン水溶液が１級及び／又は２級アミン化合物の水溶液であることを特徴とする自動車内装材の製造方法により解決する。 - 特許庁

In the image forming method in which a silver halide photographic sensitive material with a silver halide emulsion layer on the substrate is exposed, the sensitive material contains at least one magenta dye forming coupler of formula M-I or M-II and is exposed by a scanning exposure system.例文帳に追加

支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料を露光する画像形成方法において、該ハロゲン化銀写真感光材料には一般式（Ｍ−Ｉ）又は（Ｍ−II）〔「化１」〕で表されるマゼンタ色素形成カプラーの少なくとも１種を含有し、かつ該ハロゲン化銀写真感光材料を走査露光方式で露光することを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁

A method of coating a surface with a polymer layer comprises exposing the surface to a pulsed plasma comprising a monomeric saturated organic compound, the compound comprises an optionally substituted alkyl chain of at least 5 carbon atoms optionally interposed with a heteroatom, such as a halo substituted alkane; so as to form an oil or water repellent coating on the substrate.例文帳に追加

ポリマー層により表面をコーティングする方法であって、該方法はモノマー飽和有機化合物を含むパルスされたプラズマに前記表面を曝露することを含んでなり、前記化合物がハロ置換アルカン等の任意にヘテロ原子により介在された少なくとも５個の炭素原子の任意に置換されたアルキル鎖を含んでなり、前記基材上に撥水又は撥油性コーティングを形成する方法。 - 特許庁

A substrate 5 impregnated with a melamine resin 50, a resin unimpregnated decorative sheet 30 having a printing layer 2 formed thereto by ink jet printing and not impregnated with a resin and an overlay 1 impregnated with a melamine resin 10 are prepared to be laminated and the formed laminate is pressed under heating to manufacture the decorative panel.例文帳に追加

メラミン樹脂５０を含浸してなる基材５と，インクジェット印刷により印刷層２が形成されており且つ樹脂が含浸されていない樹脂未含浸化粧シート３０と，メラミン樹脂１０を含浸したオーバーレイ１とを準備し，基材５，樹脂未含浸化粧シート３０及びオーバーレイ１を積層し，加熱加圧することを特徴とする化粧板の製造方法である。 - 特許庁

The method includes: forming patterns on a substrate; forming first photoresist film patterns in regions where the patterns are opened; diffusing the first photoresist film patterns to upper corners of the patterns to form second photoresist film patterns; and etching the patterns using the second photoresist film patterns as an etch-stop layer.例文帳に追加

基板の上部にパターンを形成する段階と、前記パターンがオープンされた領域に第１の感光膜パターンを形成する段階と、前記第１の感光膜パターンを前記パターンの縁部の上部に拡散させて第２の感光膜パターンを形成する段階及び前記第２の感光膜パターンをエッチング防止層として用いて前記パターンをエッチングする段階とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the membrane-electrode assembly for the fuel cell having a catalyst layer on the surface of an electrolyte membrane contains a process arranging the electrolyte membrane on a substrate which has a surface hardness of pencil hardness 5B or less, and applying catalyst ink containing at least a catalyst component and a solvent to the electrolyte membrane.例文帳に追加

電解質膜の表面に触媒層を備えた燃料電池用膜・電極接合体の製造方法であって、表面硬度が鉛筆硬度５Ｂ以下である基材上に、前記電解質膜を配置した状態で、少なくとも触媒成分及び溶媒を含む触媒インクを、該電解質膜に塗布する工程を含むことを特徴とする、燃料電池用膜・電極接合体の製造方法。 - 特許庁

In a plasma display substrate formed with a plurality of electrodes, a dielectric layer covering the electrodes and a plurality of barriers for partitioning a discharge space in order to improve a problem which blue brightness of a PDP is low and to become red, a PDP member is characterized in that the barriers are blue and a PDP uses the PDP member for a backborde.例文帳に追加

ＰＤＰの青色輝度が低く、赤っぽくなるという課題を改善するために、基板上に、複数の電極およびその電極を覆う誘電体層、放電空間を仕切るための複数の隔壁が形成されたことを特徴とするプラズマディスプレイ用基板において、隔壁が青色であることを特徴とするＰＤＰ用部材、およびそれを背面板として用いたＰＤＰ。 - 特許庁

The invention also provides a device for measuring deformation, which device comprises the first alumina coating 30 obtained by atmospheric thermal spraying onto the silicon carbide layer covering the substrate of the part after it has been treated by superposing laser impacts, a free filament strain gauge 40 placed on the coating 30, and an additional alumina coating obtained by atmospheric thermal spraying onto the strain gauge.例文帳に追加

本発明はまた、変形を測定する装置を提供し、装置は、レーザー衝突を重ねることによって処理された後、部品の基材を被覆する炭化ケイ素層上の、常圧溶射によって得られた第１のアルミナコーティング（３０）と、コーティング（３０）上に置かれたフリーフィラメントひずみゲージ（４０）と、ひずみゲージ上への常圧溶射によって得られたさらなるアルミナコーティングと、を含む。 - 特許庁

The semiconductor device comprises: a gate insulating film 16 provided on a semiconductor layer 10; a gate electrode 9 provided on the gate insulating film 16 and having at least one opening 8 between adjacent well regions 13; a source electrode 19 in ohmic contact with the source region 15; and a drain electrode 18 provided on the rear surface of the semiconductor substrate 11.例文帳に追加

半導体装置は、半導体層１０上に設けられたゲート絶縁膜１６と、ゲート絶縁膜１６上に設けられ、隣接するウェル領域１３間に少なくとも１つの開口部８を有するゲート電極９と、ソース領域１５にオーミック接触するソース電極１９と、半導体基板１１の裏面に設けられたドレイン電極１８とを備えている。 - 特許庁

The method of manufacturing the organic electroluminescent display device 1 comprises a microlens forming step of forming a lens pattern corresponding to the microlens 17 that refracts the light from the organic luminescent layer 14 by photolithographic treatment on a first transparent resin deposited on a substrate 11 and forming the microlens 17 by reflow treatment on the lens pattern.例文帳に追加

基板１１上に成膜した第１の透明樹脂に対してフォトリソグラフィ処理を施すことで、有機発光層１４からの光を屈折するマイクロレンズ１７に応じたレンズパターンを形成し、レンズパターンに対してリフロー処理を施すことで、マイクロレンズ１７を形成するマイクロレンズ形成ステップ、を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置１の製造方法。 - 特許庁

Low-temperature bubbles are hardly generated by disposing projections 205 of a dielectric material on a counter substrate 200, the projections as a member having a larger shrinkage rate at low temperature than that of a liquid crystal layer, because in a low temperature environment, the volume of the liquid crystal having low resistance against external shock decreases while the volume of projections 205 having high shock resistance increases between substrates.例文帳に追加

対向基板２００上に低温時の収縮率が液晶層よりも大きい部材として誘電体の突起物２０５を配置することで、両基板間において低温環境下で外部からの衝撃耐性の低い液晶量が減少する一方で衝撃耐性の高い突起物２０５の体積が増加するので、低温気泡を発生し難くすることができる。 - 特許庁

Conjugating the protruding electrode 5 formed on a semiconductor chip 4 on the interconnection pattern 2 face down bonds the semiconductor chip 4 on an insulating substrate 1, arranges the electrode 5 in staggering hsape, and forms an insulating layer 7 so as to cover an interconnection pattern 2a at the part adjacent to the bonding part of the protruding electrode 5b arranged at the outside on the semiconductor chip 4.例文帳に追加

半導体チップ４に形成された突出電極５を配線パターン２上に接合させることにより、半導体チップ４が絶縁性基材１上にフェースダウン実装され、突出電極５は千鳥配列されるとともに、半導体チップ４上で外側に配置された突出電極５ｂの接合部に隣接する部分の配線パターン２ａを覆うように絶縁層７を形成する。 - 特許庁

In this method of cleaning a substrate treatment apparatus by using a cleaning transfer member, the cleaning transfer member is provided with an aggregation layer of oblique columnar structures each protruding with an elevation angle of <90° from the surface of the transfer member and having an aspect ratio of ≥1, and the cleaning transfer member is used after completion of cleaning processing.例文帳に追加

本発明の基板処理装置のクリーニング方法は、クリーニング搬送部材を用いて基板処理装置をクリーニングする方法であって、該クリーニング搬送部材は搬送部材の表面に該表面からの仰角が９０度未満で突出したアスペクト比が１以上の斜め柱状構造体の集合層を備え、該クリーニング搬送部材を清浄処理した後に用いる。 - 特許庁

After liquid drops having different size which are formed of low-viscosity photo-setting resin or thermosetting resin are formed in random arrangement on a substrate surface by using an ink jet nozzle, the liquid drops are made asymmetrically partial and optically or thermally solidified in the partial state, and a reflecting layer is formed of a metal film on the surfaces of the solidified resin liquid drops.例文帳に追加

インクジェットノズルを使用して基板表面に低粘度の光硬化型樹脂若しくは熱硬化型樹脂からなる大きさの異なる液滴をランダム配置で形成した後、基板を傾斜させて液滴を非対称型に偏らせ、液滴を偏らせた状態を光硬化若しくは熱硬化させて固化し、さらに固化した樹脂液滴の表面に金属膜からなる反射層を形成する。 - 特許庁