「layer substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(785ページ目) - Weblio英語例文検索

To prepare a pressure-sensitive adhesive sheet which has an excellent flexibility necessary for a marking film, followability to an adherent surface and machine cuttability and which has a substrate layer constituted with a polyolefin-based resin film easy to be formed by a calendering process of a good productivity, and besides can be produced in a small lot and be incinerated after the marking film is used with a simple incinerator.例文帳に追加

マーキングフィルムに必要な柔軟性、被着体表面に対する追従性及びマシンカット性に優れ、且つ、基材層を構成するポリオレフィン系樹脂フィルムを生産能率の良好なカレンダー成形法で製膜でき、更に、小ロット生産を可能とし、使用後のマーキングフィルムを、簡単な焼却設備で焼却処分できる粘着シートを提供する。 - 特許庁

In the multi-domain vertical alignment mode liquid crystal display, a protrusion for controlling the alignment direction of liquid crystal molecules in a liquid crystal layer formed between a pair of substrates opposed to each other in a plurality of directions is provided on at least one substrate and the protrusion has electric characteristics of a specific dielectric constant of ≤11 and ≥3×10^-12 S/cm dielectric constant.例文帳に追加

対向する１組の基板間に形成された液晶層の液晶分子の配向方向を複数方向に制御する突起を少なくとも一方の基板に備え、この突起が比誘電率１１以下、かつ、導電率３×１０^-12Ｓ／ｃｍ以上である電気特性を有するものとして、複数配向分割型垂直配向モードの液晶ディスプレイとする。 - 特許庁

A semiconductor memory device includes: bit lines BL and /BL provided in a layer of the same level above a semiconductor substrate 30; a first variable-resistance element 10 and a first MOSFET 20 which are provided below the bit line BL and are connected in series; and a second variable-resistance element 10 and a second MOSFET 20 which are provided below the bit line /BL and are connected in series.例文帳に追加

半導体記憶装置は、半導体基板３０の上方の同一レベル層に設けられたビット線ＢＬ，／ＢＬと、ビット線ＢＬの下方に設けられかつ直列に接続された第１の抵抗変化素子１０及び第１のＭＯＳＦＥＴ２０と、ビット線／ＢＬの下方に設けられかつ直列に接続された第２の抵抗変化素子１０及び第２のＭＯＳＦＥＴ２０とを含む。 - 特許庁

The oxidizing process electrochemically oxidizes the porous polycrystalline silicon layer 4 by making a constant current to flow with a platinum electrode (unillustated) as a negative electrode and a lower electrode composed of the n type silicon substrate 1 and an ohmic electrode 2 as a positive electrode by using an oxidation treatment tank for containing the electrolyte of dissolving a solute composed of potassium nitrate of 0.04 M in an organic solvent composed of, for example, ethylene glycol.例文帳に追加

酸化工程では、例えばエチレングリコールからなる有機溶媒中に０．０４Ｍの硝酸カリウムからなる溶質を溶かした電解液の入った酸化処理槽を利用し、白金電極（図示せず）を負極、ｎ形シリコン基板１とオーミック電極２とからなる下部電極を正極として、定電流を流し多孔質多結晶シリコン層４を電気化学的に酸化する。 - 特許庁

An insulating substrate 1 is formed with a through-hole 2, and a plurality of types of different conductive materials 3 and 4 are packed in the through-hole 2; and the conductive materials 3 and 4 are formed like a layer in the through-hole 2, and electrically connected to a wiring pattern constituted of electroless plating copper 8 and electroplating copper 10, so that a wiring board can be configured.例文帳に追加

絶縁性基板１に貫通孔２を設け、この貫通孔２内に異なる複数の種類の導電性材料３，４を充填し、前記導電性材料３，４は、前記貫通孔２内に層状に形成され、無電解めっき銅８および電気めっき銅１０による配線パターンと電気的に接続していることを特徴とする配線基板である。 - 特許庁

To effectively utilize all components of PVC wall paper and reuse as a wooden composite material having many applications, solving the problem that a conventional PVC wall paper is composed of the substrate paper layer firmly impregnated and coated with a PVC resin, and hence it is difficult to completely separate the components from each other to effectively utilize them, and thus almost all of PVC wall paper are disposed of.例文帳に追加

塩化ビニル壁紙は基材の紙層に塩化ビニル層の塩化ビニル成分が強固に含浸、被覆されており、紙成分と塩化ビニル成分を完全に分離してそれぞれを有効利用することは困難で、従来は殆ど廃棄処分されていたが、塩化ビニル壁紙の全ての成分を有効活用し、多くの用途が期待される木質複合材料として再利用可能とする。 - 特許庁

Upon exposure, the upper face of a mask substrate of the photomask 1 is irradiated with i-line (365 nm wavelength) from a light source 20 such as a high-pressure mercury lamp via an illumination optical system 30; and near-field light permeates near an opening of the light shielding film 2 formed in the photomask 1 to expose a resist layer 11 on the surface of the object placed directly under the opening.例文帳に追加

露光に際して、フォトマスク１のマスク基板の上面から、例えば高圧水銀ランプ等の光源２０からｉ線（波長３６５ｎｍ）が照明光学系３０を介して照射され、フォトマスク１に形成された遮光膜２の開口の近傍に近接場光がしみだし、開口の直下に位置する被処理体表面のレジスト層１１が露光される。 - 特許庁

In the film substrate 1 for the liquid crystal display element, having the transparent conductive film 5 formed on one surface of a film base 2 consisting of a transparent polymer material, a reinforcing layer 6 consisting of a material having heat elongation and contracting characteristics nearly same as the transparent conductive film 5 is formed on the surface opposite to the one surface on which the transparent conductive film 5 of the film base 2 is formed.例文帳に追加

透明な高分子材料からなるフィルムベース２の一方の面に透明導電膜５を形成してなる液晶表示素子用フィルム基板１において、前記フィルムベース２の前記透明導電膜５が形成された一方の面の反対側の面に、その透明導電膜と５ほぼ同じ熱伸縮特性をもつ材料からなる補強層６を形成する。 - 特許庁

The electro-optical device has data lines, scanning lines, pixel-switching thin film transistors disposed below the data lines and storage capacitors each having fixed potential side electrode, a dielectric layer, and pixel-potential side electrode that are disposed in an area including a region opposed to a channel region of the pixel-switching thin film transistor when two-dimensionally viewed on a substrate and disposed above the data lines.例文帳に追加

電気光学装置は、データ線及び走査線と、データ線より下層側に配置された画素スイッチング用ＴＦＴと、基板上で平面的に見て画素スイッチング用ＴＦＴのチャネル領域に対向する領域を含む領域に配置され且つデータ線より上層側に配置されており、固定電位側電極、誘電体膜及び画素電位側電極からなる蓄積容量とを備える。 - 特許庁

A polymer layer is formed on a substrate using a polymer represented by the general formula (I) (wherein R^1 is a substituted or non-substituted naphthyl group and R^2 is a substituted or non-substituted alkyl group, a substituted or non-substituted aryl group or a substituted or non-substituted heteroaryl group) and is irradiated with light in a desired region to develop an amino group.例文帳に追加

一般式（Ｉ）：（式中、Ｒ^１は置換または非置換のナフチル基を表し、Ｒ^２は置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のヘテロアリール基を表す。）で表される基を有する重合体を用いて、基板上に重合体層を形成し、所望の領域に光照射することによって、アミノ基を発現する。 - 特許庁

Two metallic layers 2 for reducing electrode resistance are selectively provided corresponding with the source electrode 11 and the drain electrode 12, on a glass substrate 1, and a part of a source area 5 and a drain area 6 is respectively provided on the metallic layer 2, and at least a part of a contact hole 10 is located respectively on the source area 5 and drain area 6 on the metallic layers 2.例文帳に追加

ガラス基板１上に、ソース電極１１およびドレイン電極１２に対応して２個の電極抵抗低減用の金属層２が選択的に設けられ、ソース領域５およびドレイン領域６の一部が金属層２上にそれぞれ設けられ、各金属層２上のソース領域５およびドレイン領域６上に、それぞれコンタクトホール１０の少なくとも一部が位置する構造。 - 特許庁

Polymer-based primer is added to paper made of nonwoven fabric or woven fibers made of heat-resistant synthetic fiber, a middle layer is provided, a base that is formed by impregnating the paper with resin is subjected to thermally mold with copper foil, and the copper foil is subjected to pattern etching, thus obtaining a circuit formation substrate that has excellent copper foil coherency and base interlayer peeling strength.例文帳に追加

耐熱性合成繊維からなる不織布あるいは織布繊維からなるペーパーにポリマー系プライマーを付与し、中間層を設けた後、ペーパーに樹脂を含浸させて形成した基材を銅箔とともに圧熱成型して銅箔基材を形成した後、前記銅箔にパターンエッチングを施すことにより銅箔密着性、基材層間剥離強度に優れた回路形成基板を得る。 - 特許庁

The conductive plastic laminate is produced by forming a transparent conductive layer on a transparent plastic substrate which is characterized in that a glass transition temperature is 260°C or higher, a light transmittance at an optical wavelength of 400 nm is 60% or more, a light transmittance is 80% or more at all optical wavelengths ranging from 450 nm to 700 nm, and a pencil hardness is H or higher.例文帳に追加

ガラス転移温度が２６０℃以上であり、かつ、光波長４００ｎｍにおける光線透過率が６０％以上であり、かつ、４５０ｎｍ〜７００ｎｍにおける全ての光波長の光線透過率が８０％以上であり、かつ、鉛筆硬度がＨ以上である透明プラスチック基板の上に透明導電層を形成し導電性プラスチック積層体とする。 - 特許庁

The antireflection film 100 comprises a hard coat layer2, two or more primer layers 3, 4, and an antireflection layer 5 sequentially laminated on a transparent substrate film 1 and is such that the two or more primer layers 3, 4 are comprises a metal, a metal compound single body, or a mixture thereof, and the two or more primer layers 3, 4 have compositions different from one another.例文帳に追加

透明基材フィルム１上に、ハードコート層２、２層以上のプライマー層３，４、反射防止層５を順次積層した反射防止フィルム１００であって、該２層以上のプライマー層３，４が、金属あるいは金属化合物単体もしくは混合物よりなり、かつ、該２層以上のプライマー層３，４が、異なる組成であることを特徴とする反射防止フィルム１００。 - 特許庁

A heat-sensitive recording material is provided with a heat- sensitive coloring layer containing usually a colorless or a light-color coloring compound and a developing compound capable of making the coloring compound develop color at the time of being heated and formed on a substrate, and a 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone or a 2,4'-dihydroxyphenyl sulfone and an N-(4- methylphenyl)acetoamide are contained therein.例文帳に追加

支持体上に通常無色ないし淡色の発色性化合物、該発色性化合物を熱時発色させうる顕色性化合物を含有する感熱発色層を設けた感熱記録材料において、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン又は２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン及びＮ−（４−メチルフェニル）アセトアミドを含有することを特徴とする感熱記録材料。 - 特許庁

The sapphire single crystal substrate 1 includes approximately parallel and linear steps 2a each having the height of one molecular layer on a main surface, wherein the degree of the slope from a specific crystalline surface of the sapphire of the main surface or the width of a specific terrace 3a formed between the steps 2a takes a value in a specific range and each terrace described in the above has about the same width.例文帳に追加

主面に１分子層の高さを有する略平行な略直線状のステップ２ａを有し、前記主面のサファイヤの特定結晶面からの傾斜の大きさ、又は前記ステップ２ａの相互間に形成された特定のテラス３ａの幅が、所定の範囲内のいずれかの値であり、かつ前記テラスの幅が各々略等しいサファイヤ単結晶基板１。 - 特許庁

This method for forming the silicon carbide film 13 includes: a step for forming a mask 15a at a position covering a part of a silicon film 14 on a substrate 11 having the silicon film 14 on a surface layer, and a step for applying carbonizing treatment to the silicon film 14 of a region where the mask 15a is not formed to form the silicon carbide film 13 containing the carbonized film.例文帳に追加

本発明の炭化シリコン膜１３の製造方法は、表層にシリコン膜１４を有する基板１１上のシリコン膜１４を一部覆う位置にマスク１５ａを形成する工程と、マスク１５ａが形成されていない領域のシリコン膜１４を炭化処理し、炭化された膜を含んだ炭化シリコン膜１３を形成する工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

After implanting an oxygen ion 11 into a silicon wafer 12 where first a polysilicon film 17 is formed on the backside, the wafer 12 is heat-treated to form an embedded oxide film 13 inside the wafer 12, thus manufacturing a SIMOX substrate 16 by forming an SOI layer 14 on the surface of the wafer 12 on the embedded oxide film 13 and further forming an oxide film 18 on the whole surface.例文帳に追加

先ず裏面にポリシリコン膜１７を形成したシリコンウェーハ１２の内部に酸素イオン１１を注入した後に、このウェーハ１２に熱処理を施してウェーハ１２内部に埋込み酸化膜１３を形成することにより埋込み酸化膜１３上のウェーハ１２表面にＳＯＩ層１４を形成してＳＩＭＯＸ基板１６を作製し更に全面に酸化膜１８を形成する。 - 特許庁

Also, in the circuit substrate for printed wiring boards that has a conductor circuit on one surface of the insulation base of the copper foil, while a via hole is formed for a through-hole which reaches the conductor circuit from the other surface of the insulation base, a low-melting point metal layer with a melting point lower than zinc is formed between one surface of the insulation base and the conductor circuit.例文帳に追加

また、銅箔の絶縁性基材の一方の面に導体回路を有し、この絶縁性基材の他方の面から導体回路に達する貫通穴に対してビアホールが形成されたプリント配線板用回路基板において、亜鉛よりも低い融点を有する低融点金属層が、絶縁性基材の一方の面と導体回路との間に形成されている。 - 特許庁

In the thin film capacitor element 10, since the substrate 1 has a plain surface almost perpendicular to the side end face 6a of the laminate 6 due to anisotropic etching during manufacturing, the insulating resin layer 5 covering a poorly covered part does not lie between the lower electrode 2 and the upper electrode film 41, but lies between the upper extraction electrode 40 and the upper electrode film 41 which are at the same potential.例文帳に追加

この薄膜キャパシタ素子１０は、製造時に異方性エッチングにより積層体６の側端面６ａを基板１と略直交する平坦面となしているので、カバレッジ不良部分を覆う絶縁樹脂層５が、下部電極２と上部電極膜４１との間に介在せず、同電位な上部引出し電極４０と上部電極膜４１との間に介在している。 - 特許庁

The film member of the display part is used as a movable film member 101 or fixed film member of the movable film type display device, and has a display part 2 composed of a colored film 9 provided with a colored layer which contains a binding material having a softening temperature or glass transition temperature of 100 degrees C or more as an essential ingredient at least at one side of a substrate film.例文帳に追加

本発明に係る表示部フィルム部材は、可動フィルム型表示装置の可動フィルム部材１０１又は固定フィルム部材として用いられるものであって、基材フィルムの少なくとも片面に軟化温度又はガラス転移点が１００℃以上の結着材を必須成分とする着色層を設けた着色フィルム９からなる表示部２を備えている。 - 特許庁

The semiconductor device includes an interlayer insulation film 36 formed above a semiconductor substrate 10, the conductor 50 containing Cu formed in the interlayer insulation film 36, and a barrier metal film 46 formed between the interlayer insulation film 36 and the conductor 50 and formed of a multilayer film of a Ti film 42 and a Ta film 44, and an interface layer 54 containing Ti and Si is formed on the surface of the conductor 50.例文帳に追加

半導体基板１０の上方に形成された層間絶縁膜３６と、層間絶縁膜３６内に形成されたＣｕより成る配線５０と、層間絶縁膜３６と配線５０の間に形成され、Ｔｉ膜４２とＴａ膜４４との積層膜より成るバリアメタル膜４６とを有し、配線５０表面に、ＴｉとＳｉとを含む界面層５４が形成されている。 - 特許庁

In the electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer on a conductive substrate, a vinyl halide-based resin is used which is obtained by subjecting a vinyl chloride-based polymer having hydroxyl groups, epoxy groups and sulfur-containing strong acid radicals as substituents to modification with a fluorine compound, and converts a part of the vinyl chloride structure to a vinyl fluoride-based structure and has a structure formed by fluorinating the epoxy groups.例文帳に追加

導電性基体上に感光層を備えた電子写真感光体において、水酸基、エポキシ基、および硫黄を含む強酸根を置換基としてもつ塩化ビニル系重合体にフッ素化合物による変性処理を施し、塩化ビニル構造の一部をフッ化ビニル系構造とし、更に前記エポキシ基をフッ素化した構造を合わせ持つハロゲン化ビニル系樹脂を用いた。 - 特許庁

This method of manufacturing the developing roller includes: a process of preparing a coating liquid containing resin and solid particles at least; a process of filtering the coating liquid by the filter while irradiating ultrasonic waves or after performing ultrasonic irradiation; and a process of applying the filtrated coating liquid to the outer periphery of the substrate, and drying the same to form a coating layer, wherein a developing roller is made through these processes.例文帳に追加

少なくとも樹脂と固体粒子を含有する塗布液を調製する工程、超音波を照射しながら或いは超音照射を行った後に塗布液をフィルターで濾過する工程、濾過した塗布液を基体の外周に塗布、乾燥して被覆層を形成する工程を経て現像現像ローラを作製することを特徴とする現像ローラの製造方法。 - 特許庁

To provide an adhesive composition excellent in bonding property between a transparent electroconductive film and a glass plate, etc., even under high temperature and high humidity conditions, without forming bubbles or peeling between the adhesive layer and a glass substrate plate, also capable of inhibiting the corrosion of the transparent electroconductive film and excellent in durability, transparency and bonding reliability, and an adhesive sheet and an optical member by using the same.例文帳に追加

高温、高湿の条件下においても透明導電膜とガラス板等との接着性に優れ、粘着剤層とガラス基板等との間に発泡や剥離を生じないうえに、透明導電膜の腐食を抑制することができ、耐久性、透明性および接着信頼性に優れた粘着剤組成物とこれを用いた粘着シート並びに光学部材を提供する。 - 特許庁

In this electro-optical device, a scanning line driving circuit 400 and a data line driving circuit 200 which make a TFT (thin film transistor) having a channel region consisting of a single crystal silicon layer one of structural elements are formed on an active matrix substrate and N-channel TFTs which form source-tie structure are used in the scanning line driving circuit 400 and the data line driving circuit 200.例文帳に追加

本発明の電気光学装置は、アクティブマトリクス基板上に、単結晶シリコン層からなるチャネル領域を有するＴＦＴを構成要素の一つとする走査線駆動回路４００およびデータ線駆動回路２００が形成され、走査線駆動回路４００およびデータ線駆動回路２００にソースタイ構造をなすＮチャネルＴＦＴが用いられている。 - 特許庁

In a gap between a transparent anode 11a formed on a glass substrate 10 and a reflection cathode 11e formed against it in the organic photodiode 1, a plurality of photodetections 11c of a layer of composites for optical absorption, and a barrier 11d for insulating the transparent anode 11a and the reflection cathode 11e and insulating the photodetections 11c adjacent to each other from each other, are formed.例文帳に追加

有機フォトダイオード１では、ガラス基板１０上に形成された透明陽極１１ａと、それに対向して形成された反射陰極１１ｅとの間隙に、光吸収用組成物の層である複数の受光部１１ｃと、透明陽極１１ａ及び反射陰極１１ｅを絶縁するとともに、隣り合う受光部１１ｃ間を絶縁する隔壁１１ｄが形成されている。 - 特許庁

The display panel 2 is formed by joining a transparent panel 12 in which reflecting structure 30 having a first surface 31 reflecting the light emitted from a light emitting element 14 to the emission side D1 and a second surface 32 reflecting the emitted light to the light emitting element 14 side to a substrate 15 on which a luminescent layer 11 containing a plurality of light emitting elements 14 is formed.例文帳に追加

複数の発光素子１４を含む発光層１１が形成された基板１５に対し、発光素子１４からの出力光を射出側Ｄ１に反射する第１の面３１および出力光を発光素子１４の側に反射する第２の面３２を備えた反射構造３０が形成された透明パネル１２を接合した表示パネル２を提供する。 - 特許庁

The solid state image sensor 1 is fabricated through a step for forming an oxide film and a nitride film sequentially on a substrate, a step for forming an opening 7 by removing the nitride film at a part between the light receiving sections 2, a step for forming an oxide film to fill the opening 7, and a step for forming transfer electrodes 4 and 5 by the same electrode layer.例文帳に追加

また、基板上に酸化膜と窒化膜とを順次成膜する工程と、上記受光部２間となる部分において、窒化膜を除去して開口７を形成する工程と、この開口７内を埋めて酸化膜を形成する工程と、その後、同一層の電極層により転送電極４，５を形成する工程とを有して、前記固体撮像素子１を製造する。 - 特許庁

Fine liquid particles containing silica and a siliceous material for bonding are uniformly applied onto a substrate surface having minute ruggedness of 1 to 5 μm average surface roughness or a roughened surface of 10 to 800 μm and then heat treatment preferably at 300 to 700°C is executed to form siliceous binders and thereby the tile having hydrophilic antipollution layer to which silica fine particles are bound is manufactured.例文帳に追加

平均表面粗さ１〜５μｍの微細凹凸あるいは１０〜８００μｍの粗化面を持つ基体表面にシリカ及び結合用珪酸質物質を含有する微細液粒を均一に塗付し、ついで好ましくは３００〜７００℃で熱処理することにより珪酸質バインダーを形成せしめ、これによりシリカ微粒子を結合した親水性防汚層を持つタイルを製造する。 - 特許庁

The semiconductor photodetector SP includes: a silicon substrate 21 that includes a first conductivity type semiconductor and has first and second main surfaces 21a, 21b opposing to each other and a second conductivity type semiconductor layer 23 formed at the side of the first main surface 21a; and a charge transfer electrode 25 that is provided on the first main surface 21a and transfers generated charges.例文帳に追加

半導体光検出素子ＳＰは、第１導電型の半導体からなり、互いに対向する第１主面２１ａ及び第２主面２１ｂを有すると共に第１主面２１ａ側に第２導電型の半導体層２３が形成されたシリコン基板２１と、第１主面２１ａ上に設けられ、発生した電荷を転送する電荷転送電極２５と、を備えている。 - 特許庁

The method for producing the information-recording paper is provided by applying the aqueous emulsion pressure-sensitive adhesive on at least one side of the paper substrate 1 having temperature dependent water absorbing property, impregnating and drying at a higher temperature than the normal temperatures to laminate the aqueous emulsion pressure-sensitive adhesive layer 2 not sticking in the usual state but showing the peelable sticking property by the compression.例文帳に追加

この情報記録用紙の製造方法は、吸水温度依存性を有する紙基材１の少なくとも片面に、水性エマルジョン感圧接着剤を塗布し、常温より高い温度で含浸乾燥することにより、通常の状態では接着せず加圧により剥離可能な接着性を示す水性エマルジョン感圧接着剤層２を積層することを特徴とする。 - 特許庁

The display element is constituted by charging a medium which changes in optical anisotropy when applied with an electric field between a couple of transparent substrates, and has a signal electrode 14 and a counter electrode 15 for applying the electric field on a surface of one substrate which faces the medium, the signal electrode 14 and counter electrode 15 being put one over the other across an insulating layer are overlapped.例文帳に追加

透明な一対の基板間に、電界を印加することにより光学的異方性が変化する媒質が封入されている表示素子であって、上記基板の一方の媒質と接する表面に、上記電界を印加するための信号電極１４・対向電極１５を有しており、信号電極１４と対向電極１５とが絶縁層を介して重なっている。 - 特許庁

A nonvolatile semiconductor device using the ferroelectric film includes: the conductive barrier film 17 formed on a semiconductor substrate 10 and composed of a conductive metal oxide film; and a capacitative element 22 which is obtained by sequentially forming a lower electrode 18, a capacitive insulating film 20 having a bismuth layer perovskite-type structure, and an upper electrode 21, arranged in this order on the conductive barrier film 17.例文帳に追加

強誘電体膜を用いた不揮発性の半導体装置は、半導体基板１０上に形成され、導電性金属酸化膜からなる導電性バリア膜１７と、導電性バリア膜１７の上に、下部電極１８、ビスマス層状ペロブスカイト型構造を有する容量絶縁膜２０及び上部電極２１が順に形成されてなる容量素子２２とを備える。 - 特許庁

The method of manufacturing the nitride semiconductor thin film includes a metal excessive supply process of excessively supplying indium exceeding a stoichiometry condition S, and a droplet conversion process of converting indium droplets 15 deposited on the substrate 10 in the metal excessive supply process into an indium nitride layer 16 by supplying the active nitrogen species 12 until the stoichiometry condition S is met.例文帳に追加

窒化物半導体薄膜の製造方法は、インジウムをストイキオメトリ条件Ｓを越えて過剰に供給する金属過剰供給工程と、該金属過剰供給工程で基板１０の上に析出したインジウムドロップレット１５を、活性窒素種１２をストイキオメトリ条件Ｓに達するまで供給することによってインジウムナイトライド層１６に転換するドロップレット転換工程と、を含む。 - 特許庁

An electrostatic chuck 1410, for electrostatically sucking and holding a wafer, is composed of a substrate 1405, an electrode plate 1412, and an insulating layer 1404 overlapped, and generates a suction force between the wafer and the chuck by applying to an electrode plate of the electrostatic chuck a voltage linked to a voltage applied to the wafer, increasing or decreasing from 0 volt to a prescribed voltage with time.例文帳に追加

ウェハを静電的に吸着保持する静電チャック１４１０は、基板１４０５、電極１４１２板及び絶縁層１４０４を重ねて成り、ウェハの印加電圧が０ボルトから所定電圧まで時間とともに増大又は減少されるのに連動する電圧を静電チャックの電極板に印加することにより、ウェハとチャックの間に吸引力を発生する。 - 特許庁

To provide a semiconductor light emitting element having such a structure as internal quantum efficiency is enhanced by enhancing crystallinity of a semiconductor layer being laid when light of short wavelength of 400 nm or less is emitted, and external quantum efficiency is also enhanced by absorbing the emitted light as much as possible through a substrate, and the like, and thereby total emission efficiency can be enhanced.例文帳に追加

４００ｎｍ以下の短波長の光を発光させる場合に、積層する半導体層の結晶性を向上させて内部量子効率を高くすると共に、発光した光を基板などでできるだけ吸収させないで外部に取り出すことにより外部量子効率も向上させ、総合的に発光効率を向上させることができる構造の半導体発光素子を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a color filter for an image sensor includes steps of: coating a substrate directly or via another layer with a dye-containing photosetting composition and drying to form a coating film; exposing the coating film to light; developing the exposed coating film with an alkali; and irradiating the alkali-developed coating film with UV rays while heating at 20 to 50°C.例文帳に追加

イメージセンサ用カラーフィルタの製造方法が、染料を含む光硬化性組成物を基板上に直接または他の層を介して塗布し、その後乾燥して塗布膜を形成する工程と、前記塗布膜を露光する工程と、露光された塗布膜をアルカリ現像する工程と、アルカリ現像された塗布膜に２０〜５０℃で加熱しながら紫外線を照射する工程と、を含んでいる。 - 特許庁

A manufacturing method of thin polarizing film in the invention includes: a step for making a laminate 10 by forming a polyvinyl alcohol resin layer 12 on a thermoplastic resin substrate 11 that is made of a polyethylene terephthalate resin having a repeating unit (isophthalic acid) represented by a general formula (I); and a step for applying underwater stretching to the laminate 10 in a boric acid solution.例文帳に追加

本発明の薄型偏光膜の製造方法は、一般式（Ｉ）で表わされる繰り返し単位（イソフタル酸ユニット）を有するポリエチレンテレフタレート系樹脂で構成された熱可塑性樹脂基材１１上に、ポリビニルアルコール系樹脂層１２を形成して、積層体１０を作製する工程と、積層体１０をホウ酸水溶液中で水中延伸する工程とを含む。 - 特許庁

One substrate of the liquid crystal display has a common electrode, a pixel electrode P disposed on the common electrode via an insulating film and having a pattern of a stripe shape, an alignment layer disposed on the pixel electrode P and aligning a liquid crystal, and a means for applying voltage between the pixel electrode P and the common electrode to change an alignment state of the liquid crystal.例文帳に追加

液晶表示装置の片方の基板は、共通電極と、絶縁膜を介して共通電極の上に配されたストライプ状のパターンを有する画素電極Ｐと、画素電極Ｐの上に配され液晶を配向する配向層と、画素電極Ｐと共通電極との間に電圧を印加して液晶の配向状態を変化させる手段とを有する。 - 特許庁

The substrate Ni-plated layer 230B is directly friction-welded to the wire bonding 240.例文帳に追加

そして、かかるメッキ構造は、Ｃｕ元素を基として組成される母材２３０Ａと、母材２３０Ａのうち一方の面に積層された抵抗溶接側防食層２３０Ｄと、母材２３０Ａのうち他方の面に積層された下地Ｎｉメッキ層２３０Ｂと、下地Ｎｉメッキ層２３０Ｂに積層された摩擦溶着側防食層２３０Ｃとを備え、下地Ｎｉメッキ層２３０Ｂとワイヤーボンディング２４０とが直接的に摩擦溶着されている。 - 特許庁

To provide a gas-barrier film which has an inorganic vapor deposition layer of a metal or an inorganic oxide on at least one side of a plastic film substrate, is improved in bending resistance and oxygen-barrier properties of an inorganic vapor deposition film, prevents the improved properties from being deteriorated by moisture, and has moisture resistance and a method for producing the film.例文帳に追加

本発明は、プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に金属または無機酸化物からなる無機蒸着層を有する無機蒸着フィルムの耐屈曲性と耐酸素透過性を向上させると共に、向上した諸特性が水分によっても低下しないようにした、耐湿性を有するガスバリア性フィルムとその製造方法の提供を目的とする。 - 特許庁

The near-IR absorbing film has, as structural elements, a transparent substrate and a near-IR absorbing layer containing a near-IR absorption dye, a resin and a surfactant, wherein the maximum color difference Δ in the film width direction (TD direction) calculated from tones measured at predetermined measuring points is ≤1.0.例文帳に追加

近赤外線吸収色素、樹脂、および界面活性剤を含有する近赤外線吸収層と、透明基材を構成要素に含む近赤外線吸収フィルムであって、所定の測定箇所毎に測定した色調から算出されるフィルム幅方向（ＴＤ方向）の色差Δの最大値が１．０以下であることを特徴とする近赤外線吸収フィルムである。 - 特許庁

A photopolymerizable image forming material obtained by forming a photosensitive layer comprising a photopolymerizable composition containing an ethylenically unsaturated compound, a photopolymerization initiator and a polymer binder on the surface of a substrate is exposed with laser, developed and further post-exposed with a mercury lamp as a light source.例文帳に追加

支持体表面に、（Ａ）エチレン性不飽和化合物、（Ｂ）光重合開始剤、及び（Ｃ）高分子結合材の各成分を含有する光重合性組成物からなる感光性層が形成された光重合性画像形成材を、レーザー露光した後、現像処理し、更に後露光する画像形成方法であって、その後露光の光源として水銀灯を用いる画像形成方法。 - 特許庁

The hydrogen generating electrode has an electrode catalytic cover layer produced by pyrolysis of a composition comprising: at least one platinum-group compound; at least one selected from a group consisting of a lanthanum compound, a cerium compound and yttrium compound; and at least one selected from a group consisting of a niobium compound and a manganese compound, on a nickel substrate.例文帳に追加

ニッケル基材上に、少なくとも１種類の白金族化合物と、ランタン化合物、セリウム化合物、イットリウム化合物からなる群より選ばれた少なくとも１種類と、ニオブ化合物、マンガン化合物からなる群より選ばれた少なくとも１種類とからなる組成物の熱分解により生成される電極触媒被覆層を有することを特徴とする水素発生用電極。 - 特許庁