「layer substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(787ページ目) - Weblio英語例文検索

As another method, adhesive conductor particles wherein at least a part of conductor particle is coated with the thermo-plastic resin to form an adhesive part are allowed to deposit on the surface of substrate, and then the adhesive parts of the adhesive conductor particles are softened or melted under heat to provide a resin pattern, forming a conductor layer of conductor particles.例文帳に追加

また、別の方法として、導体粒２１ｂ表面の少なくとも一部を熱可塑性樹脂により被覆して接着部２０ｂを形成した接着導体粒２２を、基板１の表面に付着させた後に、接着導体粒２２の接着部２１ｂを加熱により軟化ないし溶融させて樹脂パターン２０とするとともに、導体粒２１ｂにより導体層２１を形成する。 - 特許庁

In an LED array in which a plurality of island-like semiconductor layers each of which is formed by laminating one-side conductive semiconductor layer and an reverse-conductive semiconductor upon another on a substrate is arranged in a row and respectively connecting electrodes to the semiconductor layers, wires connected to an external circuit are obliquely bonded to electrodes pads.例文帳に追加

基板上に一導電型半導体層と逆導電型半導体層を積層して形成した複数の島状半導体層を列状に配設し、それぞれの一導電型半導体層と逆導電型半導体層に電極を接続して設けたＬＥＤアレイにおいて、前記電極パッドに外部回路と接続するワイヤーを斜めにボンディングしたことを特徴とする。 - 特許庁

A photosensitive resin composition layer 3 is laminated on a substrate 1 (step 1), exposed through a patterned mask 4 (step 2) and developed (step 3) to form a resist image (step 4).例文帳に追加

基板１上に感光性樹脂組成物層３を積層し（工程１）、パターンマスクを介して露光（工程２）、現像（工程３）を行ってレジスト画像を形成（工程４）した後、該形成されたレジスト画像の凹部に低融点ガラスペースト等のパターン形成材料を埋め込み（工程５）、感光性樹脂組成物の硬化レジストをサンドブラスト加工により除去（工程６）した後、焼成炉を通して焼結することにより基板上にパターンが形成される（工程７）。 - 特許庁

The porous membrane comprises a laminar resin having a number of pores or a laminar resin having a number of pores carried by a substrate, wherein the porous membrane has dense layers on at least a surface and its inside and the dense layer on at least its surface has an average pore size of 10 nm to 500 nm.例文帳に追加

多孔を有した層状の樹脂からなる、または、基材に多孔を有した層状の樹脂が担持されて形成されてなる多孔質膜であって、前記多孔質膜の表面の少なくとも一方の表面および前記多孔質膜内部に緻密層を有し、かつ、前記多孔質膜の少なくとも一方の表面にある緻密層の平均孔径が１０ｎｍから５００ｎｍであることを特徴とする多孔質膜。 - 特許庁

The aluminum layer 64 is formed under the conditions that temperature of a substrate is at least 250°C and pressure is reduced.例文帳に追加

（ａ）不純物拡散層３４を形成する工程；（ｂ）不純物拡散層３４の上に、スルーホール４２を有する層間絶縁層４０を形成する工程；（ｃ）スルーホール４２内にプラグ５０を形成する工程；（ｄ）プラグ５０および層間絶縁層４０の上に、下地層６２を形成する工程および（ｅ）下地層６２の上に、アルミニウム層６４を形成する工程であって、アルミニウム層６４は、基板の温度が２５０℃以上で、かつ、減圧下で形成される工程。 - 特許庁

To provide a method and a device for repairing an affected layer caused by machining work so as to have a crystal structure just the same as a substrate part without removing a material of a surface of a single crystal wafer.例文帳に追加

本発明の目的は、単結晶ウエハー表面の材料を除去することがなく、機械加工により生じた加工変質層を基板部分と全く同様な結晶構造に修復することであり、部品の加工精度を維持したままで、生産コストの削減、環境負荷の低減が期待できる、大気中で作動可能で、高速・高能率で簡単な単結晶ウエハーの表面欠陥の修復方法及び修復装置を提供することである。 - 特許庁

The method for manufacturing the radiographic image conversion panel, which includes a process of forming a stimulable phosphor layer through a gas-phase layup of stimulable phosphors on the substrate, by using a vapor flow from a vaporization source has a process of heating and retaining the vaporization source at its melting point or lower for a fixed period of time just before the vaporization source is vaporized in an inert gas atmosphere.例文帳に追加

蒸発源からの蒸気流を用いて基板に輝尽性蛍光体を気相堆積させ、輝尽性蛍光体層を形成する工程を含む放射線画像変換パネルの製造方法において、不活性ガス雰囲気下で蒸発源を蒸発させる直前に、蒸発源を融点以下で一定時間加熱保持する工程を有することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。 - 特許庁

To provide a ceramic wiring board in which a semiconductor component and a wiring structure can be formed conveniently with high precision even if the wiring structure is complicated or shrunk due to reduction in size or high integration of the semiconductor component being mounted, a dielectric layer around a conductor element is scarcely deformed, and flatness on the major surface of a substrate for forming component connection pads can be enhanced.例文帳に追加

実装される半導体部品の小型化ないし高集積化に伴い、組み込まれる配線構造が複雑化ないし微細化しても、これらを簡便かつ高精度に形成でき、また、導体要素の周囲にてセラミック誘電体層の変形がほとんど生じず、部品接続用のパッドが形成される基板主表面の平坦性を大幅に向上できるセラミック配線基板を提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing a lithographic printing plate comprises: preparing a lithographic printing plate precursor comprising: i) a grained and anodized aluminum substrate where the anodic weight is between 6.0 and 20 g/m^2, having coated thereon; ii) a metallic layer; and image-wise exposing the precursor on an external drum thermal imaging device.例文帳に追加

ｉ）酸化アルミニウムフイルムの陽極重量が６．０〜２０ｇ／ｍ^^2である陽極酸化アルミニウムフイルムを含んでなる研磨されそして陽極酸化されたアルミニウム基材であって、その上に ｉｉ）金属層、をコーティングされているアルミニウム基材を含んでなる平版印刷版前駆体を用意し、そして該前駆体を外部ドラム熱的像形成装置において像通りに露出する、ことを含んでなる平版印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the lens sheet in which a light shielding pattern is arranged on a lens substrate having a lens array, the light shielding pattern is formed using a resin layer comprising a photosensitive resin composition containing at least (a) a heat adhesive binder comprising an organic polymer, (b) a compound having at least one or more radical-polymerizable ethylenic double bonds and (c) three or more photopolymerization initiators.例文帳に追加

レンズアレイを有するレンズ基板に遮光パターンが設けられたレンズシートにおいて、前記遮光パターンが、少なくとも、（ａ）有機重合体からなる熱粘着性の結合剤、（ｂ）ラジカル重合性を有するエチレン性二重結合を少なくとも一つ以上有する化合物、（ｃ）３種類以上の光重合開始剤、を含む感光性樹脂組成物からなる樹脂層を用いて形成されているものとする。 - 特許庁

In the magnetic recording medium having at least one magnetic layer formed by dispersing ferromagnetic fine powder in a binder on a non-magnetic substrate, the binder contains a polyurethane resin having a bridged hydrocarbon structure or a spiro structure and the ferromagnetic fine powder is an acicular ferromagnetic material having 20 to 50 nm in major axis length or a flat plate like magnetic material having a plate diameter of 10 to 50 nm.例文帳に追加

非磁性支持体上に、強磁性微粉末を結合剤中に分散した少なくとも１層の磁性層を有する磁気記録媒体において、該結合剤は有橋炭化水素構造またはスピロ構造を有するポリウレタン樹脂を含み、該強磁性微粉末は長軸長が２０〜５０ｎｍの針状強磁性体または板径が１０〜５０ｎｍの平板状磁性体であることを特徴とする磁気記録媒体。 - 特許庁

A method includes a step of forming a titanium oxide film, preferably with a patterning, on a glass substrate having three-dimensional curvature shape by an electrodeposition method using a water dispersion solution containing a resin and titanium oxide capable of electrodeposition, and a step of forming the dye-sensitized solar cell using the titanium oxide film as a photoelectric conversion layer.例文帳に追加

色素増感太陽電池を備えた車載用ガラスを製造する方法であって、電着可能な樹脂と酸化チタンを含む水分散液を用いた電着法により、３次元曲面形状を有するガラス基板の上に、好ましくはパターニングされた酸化チタン膜を形成する工程と、酸化チタン膜を光電変換層として用いて色素増感太陽電池を作製する工程とを備えることを特徴としている。 - 特許庁

The flexible printed board having a metal wiring layer formed on a film-shaped insulating substrate and attachable to an adherend having a cubic surface has a substantially arc (including an easement curve shape with a gradually varying arc radius, such as an arc, elliptic arc or oval arc) notch formed in a peripheral portion of the flexible printed board, especially, a portion where strain stress tends to concentrate at adhesion.例文帳に追加

フィルム状の絶縁基材上に金属配線層が形成され、三次曲面を有する被貼着体に貼着されるフレキシブルプリント基板において、当該フレキシブルプリント基板の周縁部、特に貼着時に歪み応力が集中しやすい部位に、略円弧状（円弧状、楕円弧状、長円弧状など、円弧半径が徐々に変化する緩和曲線形状を含む）の切欠部を形成する。 - 特許庁

The semiconductor device is formed of a zinc oxide semiconductor having a hexagonal crystal structure and comprises a substrate 1 where four side surfaces orthogonal to a first main surface 111 being a polar surface are adjoined to the first main surface 111 at an angle 40-50° with respect to a reference non-polar surface orthogonal to the first main surface 111, and a semiconductor layer 2 arranged on the first main surface 111.例文帳に追加

六方晶構造の酸化亜鉛系半導体からなり、極性面である第１の主面１１１、及びその第１の主面１１１に対し直交する基準の非極性面と４０度乃至５０度の角をなして第１の主面１１１と直交する４つの側面を第１の主面１１１に隣接させた基板１と、第１の主面１１１上に配置された半導体層２とを備える。 - 特許庁

This thin film transistor has a gate electrode 2 formed on a transparent insulating substrate 1, a gate insulating film 3 covering the gate electrode 2, a semiconductor active layer 4 and an ohmic contact film 5 formed on the gate insulating film 3, a source electrode 6b, source wiring 6a, and drain electrode 7 formed on the ohmic contact film 5, and a pixel electrode 10 connected to the drain electrode 7.例文帳に追加

本発明に係る薄膜トランジスタは、透明絶縁基板１上に形成されたゲート電極２と、ゲート電極２を覆うゲート絶縁膜３と、ゲート絶縁膜３上に形成された半導体能動層４とオーミックコンタクト膜５と、オーミックコンタクト膜５上に形成されたソース電極６ｂ、ソース配線６ａ及びドレイン電極７と、ドレイン電極７に接続された画素電極１０とを備えたものである。 - 特許庁

In the transflective liquid crystal display panel having a reflection part 20 where a reflection film is disposed and a transmission part 10 where no reflection film is disposed in each unit pixel forming region 6 on the inner side surface of one transparent substrate 4 on the non-visual confirmation side of two transparent substrates opposed to each other sandwiching a liquid crystal layer, the reflection film is used as a transflective film 21.例文帳に追加

液晶層を挟んで互いに対向する二枚の透明基板のうち、反視認側となる一方の透明基板４の内側表面上における各単位画素形成領域６内に、反射膜が配設された反射部２０と、反射膜が配設されていない透過部１０とを有してなる半透過反射型液晶表示パネルにおいて、前記反射膜を半透過反射膜２１とする。 - 特許庁

In the liquid crystal display element having a liquid crystal interposed between a pair of substrates, the satisfactory alignment and the satisfactory contrast characteristics can be made compatible with each other and the simplification of the stages and the reduction of the material cost can be provided by forming a protrusion for controlling the alignment and a light shielding layer shielding light on the same substrate by using the same material.例文帳に追加

一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示素子において、同一基板上に配向を制御する突起物と光を遮光する遮光層が形成されており、前記突起物と前記遮光層を同一材料で形成することにより、良好な配向と良好なコントラスト特性を両立すると共に工程の簡略化と材料費の低減を提供することができる。 - 特許庁

To provide a composition for a via hole conductor in which protrusion at a part of a via hole conductor or cracking of a ceramic layer or the via hole conductor can be prevented at the time of producing a multilayer ceramic substrate comprising a plurality of ceramic layers containing BaO-Al2O3-SiO2 mixture ceramic and the via hole conductors penetrating specified ceramic layers.例文帳に追加

ＢａＯ−Ａｌ_2 Ｏ_3 −ＳｉＯ_2 混合セラミックを含む複数の積層されたセラミック層およびセラミック層の特定のものを貫通するように設けられたビアホール導体を備える多層セラミック基板を製造するにあたって、焼成工程の結果、ビアホール導体の部分が隆起したり、セラミック層において割れやクラックが生じたり、ビアホール導体に亀裂が生じたりしにくくできる、ビアホール導体用組成物を提供する。 - 特許庁

The multi-layer ceramic substrate 100 includes a first insulating sheet 120 having a first via contact 124 and a second insulating sheet 130 having a second via contact 134, jointed to the first via contact 124 so as to be vertically aligned, and the first via contact 124 and the second via contact 134 are formed of conductive paste having mutually different shrinkage ratios, when baking.例文帳に追加

本発明の多層セラミック基板１００は、第１のビアコンタクト１２４を有する第１の絶縁シート１２０と、第１のビアコンタクト１２４と上下に整列されて接合された第２のビアコンタクト１３４を有する第２の絶縁シート１３０とを含み、第１のビアコンタクト１２４と第２のビアコンタクト１３４とは、焼成時に互いに異なる収縮率を有する導電性ペーストによって形成されている。 - 特許庁

A semiconductor device 100 include: an interlayer dielectric 108 formed over a substrate 101; an electric fuse 150 comprising first wiring 120 formed in the interlayer dielectric 108 and having a cut portion 152; and second wiring 126 and third wiring 128, which are formed respectively on both sides of the cut portion 152 while extending along the cut portion 152, in the same layer as the first wiring 120.例文帳に追加

半導体装置１００は、基板１０１上に形成された層間絶縁膜１０８と、層間絶縁膜１０８中に形成された第１の配線１２０により構成され、被切断部１５２を有する電気ヒューズ１５０と、第１の配線１２０と同層において、被切断部１５２の両側方に、それぞれ、被切断部１５２に沿って延在して形成された第２の配線１２６および第３の配線１２８と、を含む。 - 特許庁

To provide a manufacturing method by which degradation of superconductive characteristics can be suppressed and the superconductive thin film wiring material can be obtained at a superior yield rate, and productivity can be improved sufficiently, when manufacturing a lengthy superconductive thin film wiring material by continuously forming an intermediate layer on a lengthy orientation metal substrate at a single time of processing, and furthermore by continuously forming an oxide superconductor thin film.例文帳に追加

長尺の配向金属基板上に中間層を１回の処理で連続的に形成し、さらに酸化物超電導体薄膜を連続的に形成して長尺の超電導薄膜線材を製造するに際して、超電導特性の低下を抑制することができ、歩留まりよく超電導薄膜線材を得て、充分に生産性を向上させることができる製造方法を提供する。 - 特許庁

The liner removing method includes the steps of: forming a groove in a substrate; stacking a conformal liner in the groove; packing the groove with the bulk packed material; and selectively removing an excessive part of the conformal liner by alternately forming a protective layer on the exposed surface of the bulk packed material and etching the conformal liner.例文帳に追加

本発明の実施例によるライナ除去方法は、基板内に溝を形成する工程、前記溝内部にコンフォーマルなライナを堆積する工程、前記溝をバルク充填材料で充填する工程；及び、前記バルク充填材料の露出表面上への保護層の形成及び前記コンフォーマルなライナのエッチングを交互に実行することによって前記コンフォーマルなライナの余剰部分を選択的に除去する工程を有する。 - 特許庁

The resin structure has a resin layer formed by subjecting the first coating film formed on a substrate made of a resin composition comprising an epoxy resin and/or an oxetane resin being solid at ordinary temperatures, a photoacid generator and an organic solvent and the second coating film formed on the first coating film with a resin composition containing a cation-polymerizable modified silicone to simultaneous exposure to light for development.例文帳に追加

常温で固体のエポキシ樹脂及び／又はオキセタン樹脂、光酸発生剤及び有機溶剤を含む樹脂組成物からなる基材上に形成された第１の塗膜と、カチオン重合可能な変性シリコーンを含有する樹脂組成物によって前記第１の塗膜上に形成された第２の塗膜とを一括露光、又は一括露光と現像して形成した樹脂層を有することを特徴とする樹脂構造体。 - 特許庁

The hydrophilic member includes a hydrophobic under coat with a surface water drop contact angle of 45° or more and surface free energy of 65 mN/m or less on a substrate of polyethylene terephthalate or the like, and a hydrophilic layer formed of a hydrophilic composition containing a hydrophilic polymer with a silicon atom having at least one of hydroxyl group and a hydrolysis functional group, on the hydrophobic under coat.例文帳に追加

ポリエチレンテレフタレート等の基板上に、表面の水滴接触角が４５°以上であり、表面自由エネルギーが６５ｍＮ／ｍ以下である疎水性下塗り層を有し、かつ該疎水性下塗り層上に、水酸基及び加水分解性官能基の少なくともいずれかを有する珪素原子を有する親水性ポリマーを含む親水性組成物から形成された親水性層を有することを特徴とする親水性部材。 - 特許庁

For a photosensitive layer formed on a conductive substrate, a resin which contains polycarbonate copolymer resin represented by the general formula (I) in binder resin, and a charge transport agent which contains as a hole transport agent a tetraphenylbenzidine derivative of a specific structure containing at least two of three kinds of isomers, EE, EZ and ZZ, and 34-65 mass% of EE isomer are used.例文帳に追加

導電性基体上に形成された感光層について、バインダ樹脂中として一般式（Ｉ）で表される共重合ポリカーボネート樹脂を含む樹脂を用い、ＥＥ体、ＥＺ体、及びＺＺ体からなる３種の異性体のうち少なくとも２種を含み、かつＥＥ体を３４〜６５質量％含む特定構造のテトラフェニルベンジジン誘導体を正孔輸送剤として含む電荷輸送剤を用いる。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film material of a multilayer resist film used in lithography for forming a resist underlayer that prevents wiggling in substrate etching and prevents a poisoning problem in forming an upper layer pattern using a chemically amplified resist, to provide a process for forming the resist underlayer film, and to provide a patterning process and a fullerene derivative.例文帳に追加

本発明は、リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、基板エッチング中のよれの発生を高度に抑制できると共に、化学増幅型レジストを用いた上層パターン形成におけるポイゾニング問題を回避できるレジスト下層膜、を形成するためのレジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、及びパターン形成方法、及びフラーレン誘導体を提供することを目的とする。 - 特許庁

An aluminum nitride composite film 10 is produced by precipitating aluminum nitride 1 at 150 to 500°C by sputtering on a base material 6 comprising a single crystal α-Al_2O_3 substrate 3 and an aluminum nitride crystal film 5 formed thereon via an aluminum oxynitride layer 4, and subsequently annealing at a temperature higher than the reaction sputtering temperature and in a range from 250 to 800°C to form a highly oriented aluminum nitride polycrystalline film 1.例文帳に追加

単結晶α−Ａｌ２Ｏ３基板３上に、酸窒化アルミニウム層４を介して窒化アルミニウム結晶膜５が形成されてなる母材６上に、スパッタリング法により、１５０〜５００℃にて窒化アルミニウム１を析出させ、次いで、前記反応スパッタ温度よりも高く、かつ２５０〜８００℃にてアニールを行うことにより高配向窒化アルミニウム多結晶膜１が形成さた窒化アルミニウム複合膜１０が製造する。 - 特許庁

The method of manufacturing a metal silver part includes exposing a silver salt-containing layer containing a silver halide as an optical sensor disposed on a substrate and carrying out a developing treatment thereby forming a light transmissive part and a mesh metal silver part, in which the width of a line constituting the mesh is 3 to 18 μm, and an intersection growing rate in intersections of the lines constituting the mesh is >1 and ≤1.5.例文帳に追加

支持体上に設けられた光センサとしてハロゲン化銀を含有する銀塩含有層を露光し、現像処理することにより光透過性部とともにメッシュ状の金属銀部を形成し、前記メッシュを構成する線の線幅が３〜１８μｍであり、かつ、前記メッシュを構成する線の交点における交点太り率が１を超え１．５以下であることを特徴とする、金属銀部の製造方法。 - 特許庁

In the manufacturing method of a plasma display panel comprising a front plate with electrodes and a dielectric layer formed on a glass substrate and a back plate, which are arranged to be opposed to each other, a plurality of layers of electrode paste are applied to defective parts in the pattern of the electrodes, thereby repairing the defective parts.例文帳に追加

上記目的を達成するため、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、ガラス基板上に電極および誘電体層を形成する前面板と、背面板とを、対向配置して形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記電極のパターンの欠陥部に対して、複数層の電極ペーストを塗布することによって補修することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。 - 特許庁

To provide a self-adhesive having excellent antistatic performances, even when the surface protective film and an adherend are attached in a state that air bubbles are intruded between them, so as to prevent contamination (aging bubbles) on the surface of adherend around the air bubbles; and close adhesiveness of such a level that interfacial delamination is hardly caused between the self-adhesive layer and the substrate constituting the self-adhesive film.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、優れた帯電防止性能を有し、表面保護フィルムと被着体との間に気泡が入った状態でそれらを貼付した場合に、前記気泡周辺の被着体表面の汚染（エージングバブル）を防止可能で、かつ、粘着フィルムを構成する支持体と粘着剤層との界面剥離を引き起こさないレベルの密着性を備えた粘着剤を提供することである。 - 特許庁

The low-temperature co-fired ceramic substrate comprises a ceramic body in which one or more first dielectric layers having a diopside-based crystallized glass are laminated, and a second dielectric layer which is formed on at least one surface of the upper surface and the lower surface of the ceramic body, fired with the first dielectric layers at a firing temperature for the first dielectric layers, and contains ≥10 wt.% of amorphous substances.例文帳に追加

本発明による低温同時焼成セラミック基板は、ディオプサイド系結晶化ガラスを有する第１誘電体層が１つ以上積層されたセラミック本体と、前記セラミック本体の上面及び下面のうち少なくとも一面に形成され、前記第１誘電体層の焼成温度で前記第１誘電体層とともに焼結され、１０ｗｔ％以上の非晶質を含む第２誘電体層と、を含む。 - 特許庁

In the hard coat film for molding characterized in that the active energy ray curable resin is applied on the surface, and the hard coat film for molding is used by being laminated on a plastic substrate with a three-dimensional shape in a state that the resin layer is before irradiating with the active energy rays, the active energy ray curable resin is obtained by making hydroxyl group-containing acrylamide react with an isocyanate compound.例文帳に追加

活性エネルギー線硬化型樹脂が表面に塗布され、該樹脂層が活性エネルギー線照射前の状態において、立体形状を有するプラスチック基材に積層されて使用される成型用ハードコートフィルムであって、前記活性エネルギー線硬化型樹脂が、水酸基含有アクリルアミドとイソシアネート化合物を反応させることによって得られるものであることを特徴とする成型用ハードコートフィルム。 - 特許庁

The metal membrane formed on a substrate, the layer of a first fixing agent provided in order to fix a target molecule on the metal membrane which is constituted of a compound having the region bonded to a metal and a second fixing agent, and that of a second fixing agent which has a functional group bondable to a target and an alkylene glycol chain for obstructing non-specific adsorption, are formed to the measuring chip for the surface plasmon resonance sensor.例文帳に追加

基板上に形成された金属薄膜と、該金属薄膜上にターゲット分子を固定化するために設けられた、金属及び第二の固定剤と結合する部位を有する化合物からなる第一固定剤と、ターゲットと結合可能な官能基と非特異吸着阻止のためのアルキレングリコール鎖を持つ第二固定剤の層を表面プラズモン共鳴センサー用測定チップに形成させた。 - 特許庁

The semiconductor device includes: an interlayer insulating film III1 so formed as to cover a switching element TR formed over a main surface of a semiconductor substrate SUB; flat plate-like lead wiring LEL; coupling wiring ICL coupling the lead wiring LEL and the switching element TR with each other; and a magnetoresistive element TMR including a magnetization free layer MFL the orientation of magnetization of which is variable and which is formed over the lead wiring LEL.例文帳に追加

半導体基板ＳＵＢの主表面上に形成されたスイッチング素子ＴＲを覆うように形成された層間絶縁膜ＩＩＩ１と、平板状の引出配線ＬＥＬと、引出配線ＬＥＬとスイッチング素子ＴＲとを接続する接続配線ＩＣＬと、磁化の向きが可変とされた磁化自由層ＭＦＬを含み、引出配線ＬＥＬ上に形成された磁気抵抗素子ＴＭＲとを備える。 - 特許庁

The nicotine transdermal absorption preparation is obtained by forming an adhesive layer containing a liquid component compatible with nicotine and an adhesive on a substrate.例文帳に追加

支持体上に、ニコチン及び粘着剤と相溶する液状成分を含む粘着剤層が形成されたニコチン経皮吸収製剤の製造方法であって、（１）粘着剤と相溶する液状成分を含有する粘着剤層であって、ニコチン含有前の粘着剤層に対するニコチンの接触角が２０〜６０°である粘着剤層を提供する工程、及び、（２）ニコチンを該粘着剤層に塗布し、ニコチンを粘着剤層中に含浸させる工程を含む方法。 - 特許庁

The moistureproof laminate has a moistureproof layer containing a synthetic resin, an expandable inorganic laminar compound and a nitrogen-containing compound on at least one surface of a paper substrate.例文帳に追加

紙支持体の少なくとも片面に合成樹脂と膨潤性無機層状化合物と含窒素化合物を含む防湿層を設けた防湿積層体において、膨潤性無機層状化合物の陽イオン交換容量Ａ（ｍｅｑ／１００ｇ）と含窒素化合物のカチオン量Ｂ（ｍｅｑ／ｇ）、膨潤性無機層状化合物と含窒素化合物の質量比Ｃ／Ｄ（膨潤性無機層状化合物の質量Ｃ／含窒素化合物の質量Ｄ）が下記式を満たす防湿積層体。 - 特許庁

In the color filter 10 for a liquid crystal display having color regions 14R, 14G, 14B of at least two or more different colors formed on a transparent substrate 12 by using a metal oxide or pigment dispersion type photosetting resist film, a transparent protective layer 18 colored by the dyestuff such as dyes or pigments is applied on the color regions 14R, 14G, 14B.例文帳に追加

透明基板１２上に、金属酸化物若しくは顔料分散型光硬化性レジスト膜により、少なくとも２色以上の異なる色領域１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂが形成されてなる液晶ディスプレイ用カラーフィルタ１０において、色領域１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂ上に、染料若しくは顔料の色素により着色された透明保護層１８が設けられてなる液晶ディスプレイ用カラーフィルタ。 - 特許庁

Also following methods are disclosed: a method for producing the aqueous dispersion of polymer-enclosed particles; and methods for producing a polymerizable polymer useful in the method for producing such the aqueous dispersion, a powder coating composition formed from such the aqueous dispersion, a substrate at least partially coated with such the composition, and a reflective surface including a non-hiding coating layer deposited from such a composition.例文帳に追加

さらに、ポリマー被覆粒子の水性分散物を製造する方法と、このような水性分散物を製造する方法に有用な重合性ポリマーと、このような水性分散物から形成される粉末コーティング組成物と、少なくとも一部がこのような組成物でコーティングされた支持体と、このような組成物から堆積された非隠蔽性コーティング層を含む反射面とを製造する方法が開示される。 - 特許庁

The semiconductor element comprises a substrate 1 having a crystal grown face in which partial setback recesses 8 are formed, and a single or a plurality of nitride semiconductor layers 2 grown on the crystal grown face wherein the atomic arrangement structure is identical to that of the semiconductor layer 2 on the crystal grown face.例文帳に追加

半導体素子が、部分的に内部に後退した凹部８が表面に形成された結晶成長面を有する基板１と、上記結晶成長面上に成長された、窒化物半導体からなる単層または複数層の半導体層２とを備えてなり、上記結晶成長面において、上記結晶成長面の原子配列構造と上記半導体層２の原子配列構造が同じである。 - 特許庁

The semiconductor device 100 comprises a surface-mounted diode 100d which has an n conduction type impurity diffusion region 12 and a p conduction type impurity diffusion region 13 arranged adjacently to each other in the surface layer of a semiconductor substrate 11, and which is structured by forming a pn junction S at the interface between the n conduction type impurity diffusion region 12 and p conduction type impurity diffusion region 13.例文帳に追加

半導体基板１１の表層部において、隣接して配置されるｎ導電型不純物拡散領域１２とｐ導電型不純物拡散領域１３とを有し、ｎ導電型不純物拡散領域１２とｐ導電型不純物拡散領域１３の界面でＰＮ接合部Ｓが形成されてなる表面型ダイオード１００ｄを備える半導体装置１００とする。 - 特許庁

The optical retardation plate is manufactured by forming at least two optical anisotropic layers containing at least one kind of liquid crystalline compound on a support, and photo-polymerizing and fixing at least the two optical anisotropic layers sequentially from the substrate side, wherein the rate of polymerization of the layer closest to the support side among the optical anisotropic layers lies in the range of 10 to 90%.例文帳に追加

支持体上に少なくとも一種の液晶性化合物を含有する光学異方性層を少なくとも２層形成してなり、少なくとも２層の該光学異方性層を該支持体側から順次光重合させて固定化させることによって製造される位相差板において、前記光学異方性層のうち最も支持体側の層の重合率が１０〜９０％であることを特徴とする位相差板。 - 特許庁

In the measurement method for abrasion loss of a measurement sample surface having a substrate and a coating layer, a standard sample surface spectrum is formed by using a surface element analyzer analyzing element of a material surface from charged particle energy spectrum obtained by measuring charged particles generated out of the material surface when excited ionization radiation is irradiated to a sample identical to the measurement sample.例文帳に追加

基体と、被覆層とを有する測定試料の表面の摩耗量を測定する方法において、測定試料と同等な標準試料に、励起電離放射線を照射して物質表面から発生する荷電粒子を計測することによって得られる荷電粒子エネルギースペクトルから物質表面の元素を分析する表面元素分析装置を使用し、標準試料表面のスペクトルを作成する。 - 特許庁

The process for fabricating a ridge type semiconductor laser comprises a step for forming a structure of a plurality of semiconductor layers including an active layer on a substrate, a step for forming a first electrode having a width narrower than that of the multilayer structure on the surface thereof, and a step for forming a ridge structure by etching the multilayer structure using the first electrode as a mask.例文帳に追加

本発明による製造方法は、基板上に活性層を含む複数の半導体層を積層して積層構造を形成する積層構造形成ステップと、その積層構造の表面において、積層構造よりも狭い幅を有する第１の電極を形成する第１電極形成ステップと、第１の電極をマスクとして積層構造をエッチングし、リッジ構造を形成するリッジ構造形成ステップとを含む。 - 特許庁

The light absorbing antireflection body 10 comprises a light absorbing film 12 formed on a substrate 11 and containing fine pigment particles and fine particles having a high refractive index and an antireflection multilayer film 13 formed on the light absorbing film 12 as a multilayer structure 14, 15 including an electrically conductive thin film as at least the layer 14. and having function to attenuate reflected light to incident light by interference.例文帳に追加

基材１１上に形成された顔料微粒子及び高屈折率の微粒子を含む光吸収膜１２と、この光吸収膜１２上に多層構造１４，１５で形成され、かつその少なくとも１つの層１４が導電性薄膜から成り、光干渉によって入射光に対する反射光を減衰させる反射防止多層膜１３とから成る光吸収性反射防止体１０を構成する。 - 特許庁

A semiconductor device is the PMOS transistor formed on an active region 104 of a semiconductor substrate 101 isolated by an element isolation region 102, and the PMOS transistor has a gate insulating film 105b formed on the active region 104, a gate electrode 106b formed on the gate insulating film, a sidewall 108b, and a source/drain diffused layer region 107b.例文帳に追加

半導体装置は、半導体基板１０１における素子分離領域１０２によって分離された活性領域１０４上に形成されたＰＭＯＳトランジスタであって、このＰＭＯＳトランジスタは、活性領域１０４上に形成されたゲート絶縁膜１０５ｂと、ゲート絶縁膜上に形成されたゲート電極１０６ｂと、サイドウォール１０８ｂと、ソース・ドレイン拡散層領域１０７ｂとを備える。 - 特許庁