「light simulation」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

When a simulation part 51 simulates the respective control of an LED light quantity control part 42 and a TC control part 43 by using image density data and environment data.例文帳に追加

シミュレーション部５１は、画像濃度データおよび環境データを用いてＬＥＤ光量制御部４２、ＴＣ制御部４３のそれぞれの制御をシミュレーションする。 - 特許庁

A set of profile parameter values are acquired, and by using this, a set of simulation diffraction signals, each of which characterizes behavior of light diffracted from the structure, is generated.例文帳に追加

プロファイルパラメータの値の組が取得され、これを用いて、構造から回折される光の挙動を各々が特徴付けるシミュレート回折信号の組が生成される。 - 特許庁

To provide a method for verifying a photomask pattern with high accuracy and high reliability for decreasing unnecessary correction by comparing with CAD pattern data after performing simulation of light intensity.例文帳に追加

光強度シミュレーション実施後のＣＡＤパターンデータとの比較検証で、無駄な修正を低減し、高精度で信頼性の高いフォトマスクパターンの検証方法を提供する。 - 特許庁

A main pattern of a photomask having a focus monitor mark capable of controlling a focus position can be subjected to a transfer simulation giving a just-focus and accurate contrast of transmitted light intensity, only by setting a focus controlling system 80 on a measurement stage of a lithographic simulation microscope, the system capable of giving a just-focus and accurate contrast of transmitted light intensity.例文帳に追加

リソグラフィシュミレーション顕微鏡の測定ステージに、ジャストフォーカスで正確な透過光強度のコントラストが得られるフォーカス制御システム８０をセットするだけで、フォーカス位置が制御可能なフォーカスモニターマークが配置されたフォトマスクのメインパターンをジャストフォーカスで正確な透過光強度のコントラストが得られる転写シュミレーションを行うことができる。 - 特許庁

A light intensity distribution of a projection image of a mask pattern is simulated, the area of a projection image satisfying specified light intensity on a substrate is calculated according to the light intensity distribution obtained by the simulation, and pattern formation conditions are adjusted according to the area of the projection image.例文帳に追加

マスクパターンの投影像の光強度分布をシミュレーションし、該シミュレーションによって得られた光強度分布に基づいて基板上で所定の光強度を満足する投影像の面積を算出し、該投影像の面積に基づいてパターン形成条件を調整するように構成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an ND filter with which an ND filter can be manufactured having a gradation density distribution of a desired density obtained in a simulation, and to provide a light quantity diaphragm, and a camera having the light quantity diaphragm.例文帳に追加

シミュレーションで得られた所望の濃度のグラデーション濃度分布を有するＮＤフィルタを製造することが可能となるＮＤフィルタの製造方法、光量絞り装置、該光量絞り装置を有するカメラを提供する。 - 特許庁

When there is even one in the light emitting element impressed with voltage exceeding the forward-inverse directional breakdown voltage, an element name, the impression voltage, and time are outputted, and simulation is finished.例文帳に追加

順、逆方向破壊電圧を超える電圧が印加された発光素子が１つでもある場合には、素子名、印加電圧および時間などを出力し、シミュレーションを終了する。 - 特許庁

In the method of simulation for designing the aperture of the exposure device containing a light source, a group of optical lenses, the photomask and aperture, the layout information of the photomask is first inputted.例文帳に追加

光源、光学レンズ群、フォトマスク及びアパーチュアを含む露光装置のアパーチュアを設計するためのシミュレーション方法であって、まず、前記フォトマスクのレイアウト情報を入力される。 - 特許庁

To provide a game machine and a simulation program capable of performing reporting relating to a game state and enhancing the interest of a player simultaneously by performing new light emission control.例文帳に追加

斬新な発光制御を行うことにより、遊技状態に関する報知を行うと同時に、興趣の向上を図ることができる遊技機及びシミュレーションプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a simulation device capable of comprehensively evaluating performance by variable display, performance by a light emitting body and performance by sound and improving the development efficiency of a game machine.例文帳に追加

可変表示による演出、発光体による演出および音による演出を総合的に評価でき、遊技機の開発効率を向上させることができるシミュレーション装置を提供する。 - 特許庁

The hair optical phenomenon simulation kit for simulating the optical phenomenon occurring in irradiating light on the hair includes one or more columnar hair models formed of either one of light transmissive resin, liquid, gel or glass with a refractive index 1.3-2.7.例文帳に追加

毛髪に対して光を照射した際に生じる光学現象をシミュレートするための毛髪光学現象シミュレーションキットは、屈折率１．３〜２．７の光透過性樹脂、液体、ゲル、またはガラスのいずれかからなる１以上の柱状毛髪モデルを含む。 - 特許庁

In a daylighting simulation method, quantity of light that windows 11 to 18, 21, 22, 24 of the house A receive from the outside is obtained, and the obtained quantity of light is converted into illumination capacity (for example, 30 W fluorescent lamp) of the specific luminaire to recognize indoor situation.例文帳に追加

採光シュミレーション方法は、住宅Ａの窓11〜18，21，22，24が屋外から受ける光の量を求め、求めた光の量から特定の照明器具の照明能力（例えば３０Ｗの蛍光灯）に換算することで、屋内の状況を認識する。 - 特許庁

A light monitor display device 3 displays the position and the kind of the aircraft on the simulation screen of the airfield in accordance with the signals of the position and the kind of the aircraft, which are inputted to the LAN 4.例文帳に追加

灯火監視表示装置３では、共用ＬＡＮ４に入力された航空機の位置と種別の信号に従って、飛行場の模擬画面上に航空機の位置と種別を表示する。 - 特許庁

Then, according to the illuminance spectrum I (λ, θ, and ρ) of reflected light, three simulation values in a predetermined device-independent color specification system are obtained.例文帳に追加

この関数の拡散反射成分と鏡面反射成分とのそれぞれに所定の定数あるいは所定の関数を乗じておけば、照度スペクトルの輝度Ｙの値を任意の値に調整することができる。 - 特許庁

Simulation is carried out by overlaying a finishing material sample 20 on the backside of the transparent sheet body 18 in such a state wherein the perspective forming layer 19 is not affected by the light from the backside.例文帳に追加

そして、シミュレーションは、透視画形成層１９が裏面側からの光の影響を受けない状態で、透明シート本体層１８の裏面側に仕上げ材見本２０を重ね合わせて行なう。 - 特許庁

On the other hand, a generation condition of a simulation electric signal that can simulate a pulse light output waveform at a saturation ESD voltage is decided, and an electric signal is applied to the semiconductor laser device LD on the basis of this generation condition.例文帳に追加

一方、飽和ＥＳＤ電圧におけるパルス光出力波形を模擬できる模擬電気信号の生成条件を決定して、この生成条件に基づく半導体レーザＬＤに電気信号を印加する。 - 特許庁

To provide a method which can make exact imagery simulation even when an NA of illumination light is large, an object deviates from two- and five-dimensional shapes and the inside of the object is focused and a device using the same.例文帳に追加

照明光のＮＡが大きい場合、物体が２．５次元形状から外れる場合、物体の内部に焦点を合わせた場合でも、正確な結像シミュレーションができる方法及びその方法を用いた装置。 - 特許庁

To incorporate correction for a dimensional difference caused by dry etching in gate portions with different conductivity types into light intensity simulation for the mask data of a semiconductor integrated circuit device having a dual gate structure.例文帳に追加

デュアルゲート構造を含む半導体集積回路装置のマスクデータに、導電型が異なるゲート部にドライエッチにより生じる寸法差に対する補正を光強度シミュレーションに組み込むことができるようにする。 - 特許庁

The LED as an optimal light source is selected in response to the noise level of the apparatus by using a method for estimating the spectral distribution, and implementing a simulation for taking account of the noise so as to reduce a measurement error due to the noise from the apparatus.例文帳に追加

また、装置のノイズ等による測定誤差を抑えるために、上記分光分布の推定法を用いてノイズを考慮したシミュレーションを行うことで、装置のノイズレベルに応じた最適な光源のＬＥＤを選択する。 - 特許庁

A driving simulator that simulates driving of a motor vehicle is provided with illuminating means that irradiates one or both of the inside of the vehicle and the operator's field of view with illuminating light, and control means that instructs the illuminating means to perform irradiation with illuminating light in a form suitable for a given scenario of the simulation of driving.例文帳に追加

自動車の運転を模擬する運転模擬装置であって、前記自動車の内部と操作者の視界との双方もしくは何れか一方に照明光を照射する照明手段と、前記運転の模擬のシナリオに適した形態による前記照明光の照射を前記照明手段に指示する制御手段とを備る。 - 特許庁

The determiner 40 sets, as constants, thresholds of light intensities at two edges forming a pair prescribing calculated dimensions of the transfer pattern in the simulation, and determines the thresholds and the light reaction coefficient through regression calculation so that a difference becomes minimum between the calculated dimensions and the measured dimensions.例文帳に追加

決定部４０は、当該シミュレーションにおける転写パターンの計算寸法を規定する対をなす２箇所のエッジでの光強度の閾値を定数とし、回帰計算によって、上記修正光強度の下で上記計算寸法と上記測定寸法との差が極小となるように上記閾値および上記光反応係数を決定する。 - 特許庁

At this time, the relation between exposure conditions and the surface shape of the unevenness forming layer 119 or light reflecting layer is previously simulated according to a simulation result of the relation between exposure conditions including the mask pattern of the exposure mask 102 and a proximity gap G and a distribution of the quantity of exposure to the photosensitive resin 101, and exposure conditions are determined according to the simulation result.例文帳に追加

その際、露光マスク１０２のマスクパターン、およびプロキシミティギャップＧを含めた露光条件と、感光性樹脂１０１に対する露光量分布との関係のシミュレーション結果に基づいて、露光条件と凹凸形成層１１９あるいは光反射層１１２の表面形状との関係を予めシミュレーションしておき、そのシミュレーション結果に基づいて、露光条件を決定する。 - 特許庁

To provide an optical component measurement method and an optical component measurement apparatus, for accurately obtaining a measurement result, by accurately calculating the influence to the spectrum of detection light by the concentration of a constituent to be measured by a statistical probability simulation.例文帳に追加

確率統計的なシミュレーションにより測定対象成分の濃度による検出光のスペクトルへの影響を正確に計算することができ、正確な測定結果を得ることのできる光学的成分測定方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a simulation method and program that can measure the intensity distribution of light irradiated on a substrate surface through a mask in a short time period in the same way as thin film mask approximate calculation, and can measure the intensity distribution more accurately than the thin film mask approximate calculation.例文帳に追加

リソグラフィシミュレーションにおいて、マスクを通して基板表面上に照射される光の強度分布を、薄膜マスク近似計算と同様に短時間で測定でき、且つ薄膜マスク近似計算よりも正確に測定することができる。 - 特許庁

The improvement in effective aperture efficiency by an increase in quantity of light transmitting through a pixel aperture portion by effectively converging illumination light incident on a region other than the pixel aperture portion by a lens, is taken into consideration and its effect is evaluated through a simulation analysis to obtain an effective optical constant, based upon which a flat lens array is fabricated.例文帳に追加

画素開口部以外の領域に入射する照明光を、レンズによって開口部に有効に集光させて開口部を透過する光量を増加させ実効的な開口効率を上げることを考え、この効果をシミュレーション解析により評価し有効な光学定数を求め、それに基づく平板レンズアレイを製作する。 - 特許庁

To provide a storage medium stored with a simulation program enabling an electrode arranged in a computation region to be placed in a float state and calculating transmissivity to light transmitted through the liquid crystal element while taking the float state of the electrode into consideration.例文帳に追加

本発明の課題は、計算領域内に配置された電極をフロート状態に設定可能とし、液晶素子を透過する光の透過率を電極のフロート状態を考慮して計算するようにしたシミュレーションプログラムを記憶した記憶媒体を提供すことを目的とする。 - 特許庁

When simulation for finding light intensity right below a mask having this structure about dig depth D is performed, it is recognized that D is larger than wavelength λ and resolution is improved and further, higher resolution was obtained as the depth D increased in the order of 1×λ, 3×λ, and 6×λ.例文帳に追加

この構造を有するフォトマスクに、掘り込み深さＤに対するマスク直下の光強度を求めるシミュレーションを行ったところ、Ｄが波長λ以上で解像度向上効果が認められ、更に深さＤが１ラλ→３ラλ→６ラλと深くなるに従いより高い解像度が得られた。 - 特許庁

The specular gloss simulation device is for simulating specular glossiness by simulating a specular reflection light amount in each (other) geometry from a luminance measured in a given geometry of a sample having a base material and a colorant material layer formed on the base material.例文帳に追加

本発明の鏡面光沢予測装置は、基材と上記基材上に形成された色材層とからなる試料の所定のジオメトリにおける輝度値を測定し、この測定結果から全ての（他の）ジオメトリにおける鏡面反射光量を予測することによって、鏡面光沢度を予測するものである。 - 特許庁

The simulation apparatus is equipped with a dividing means 1 of dividing the layout of a photomask (mask layout) into a plurality of regions; an average calculating means 2 for the light intensity for calculating the average of the light intensity in each region; a smoothing means 3 for smoothing the calculated average; and a multiplying means 4 for multiplying the smoothed average by a specified multiple.例文帳に追加

本発明のシミュレーション装置は、フォトマスクのレイアウト（マスクレイアウト）を複数の領域に分割する分割手段１と、各領域内の光強度の平均値を算出する光強度平均値算出手段２と、算出された平均値に平滑化処理を施す平滑化手段３と、平滑化処理された平均値に一定の乗数を掛ける乗算手段４とを有して構成される。 - 特許庁

According to this invention, the electrode arranged in the computation region to be set in the float state and all unknown potentials including the potential of the electrode in the float state are obtained to perform simulation calculation of the transmissivity to the light transmitted through the liquid crystal element wherein the float state of the electrode is taken into consideration.例文帳に追加

本発明では、計算領域内に配置された電極をフロート状態に設定可能とし、フロート状態にある電極の電位を含めて、全ての未知の電位を求めることによって、電極のフロート状態が考慮された液晶素子を透過する光の透過率についてシミュレーション計算を行う。 - 特許庁

To provide a system in which the database of color materials used for color scheme includes information about price, delivery, and stock in addition to color information and also quality information such as light resistance and weather resistance, in the system for displaying color scheme of an article on a display by simulation to support work to examine the color scheme of the article.例文帳に追加

物品の配色を検討する作業を支援するために、ディスプレイ上に該物品の配色をシミュレーションして表示するシステムにおいて、該配色に使用する色材のデータベースが色情報に加えて価格や納期、在庫、また耐光性、耐候性などの品質情報をも保有するシステムを提供する。 - 特許庁

The image forming method includes: a toner image forming step of forming a toner image by using a toner that can develop a color by imparting external simulation thereto; and a fixing and color developing step of fixing the toner image onto a recording medium surface and irradiating the image with light for fixing and color developing that develops a color to thereby form an image.例文帳に追加

外部刺激の付与により発色可能なトナーを用いてトナー像を形成するトナー像形成工程と、前記トナー像に対して、これを記録媒体表面に定着させると共に発色させる定着発色光を照射して画像を形成する定着発色工程とを含むことを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁

On the simulation method of slow leak of a fluorescent lamp having a portion of a light emitting tube 8 not exceeding 180°C at normal lighting, slow leak is simulated by painting a metal hydride-containing paste 30 on a portion in the arc tube 8 which can be heated from outside, and not exceed 180°C at normal lighting, and by heating the metal hydride-containing paste 30.例文帳に追加

この発明に係る蛍光ランプのスローリークのシミュレーション方法は、通常点灯時において１８０℃を超えない部分が発光管８に存在する蛍光ランプのスローリークのシミュレーション方法において、発光管８内の通常点灯時に１８０℃を超えない、且つ外部から加熱できる部分に金属水素化物含有ペースト３０を塗布し、金属水素化物含有ペースト３０を加熱することによりスローリークをシミュレーションすることを特徴とする。 - 特許庁