「nm C」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The rubber composition comprises a crosslinkable rubbery polymer (A), a thermoplastic resin (B) and inorganic materials (C), and is crosslinked, wherein the mean particle diameter of (C) is 1-1000 nm.例文帳に追加

（Ａ）架橋性ゴム状重合体、（Ｂ）熱可塑性樹脂、及び（Ｃ）無機系化合物とからなる架橋されたゴム組成物において、（Ｃ）の平均粒子径が１〜１０００ｎｍであることを特徴とするゴム組成物。 - 特許庁

This soft resin composition comprises a copolyester resin (A), an acrylic polymer particle (B) having a glass transition temperature of the surface of 50°C or higher and an average particle diameter of primary particles of 300 nm or more, and a plasticizer (C).例文帳に追加

共重合ポリエステル樹脂（Ａ）と、表面のガラス転移温度が５０℃以上で一次粒子の平均粒子径が３００ｎｍ以上のアクリル系重合体粒子（Ｂ）と、可塑剤（Ｃ）とを含む。 - 特許庁

The choking material 14 includes a material having the refractive index of 1.34 or higher for light at 1,310 nm wavelength at a temperature from -20°C to +60°C and no more than the refractive index of the clad 12.例文帳に追加

閉塞材１４は、−２０〜＋６０℃のいずれかの温度における波長１３１０ｎｍの光に対する屈折率が１．３４以上で且つクラッド１２の屈折率以下である材料で形成されている。 - 特許庁

To extremely quickly measure the hardness of a thin film that has high hardness and has a film thickness of 50 nm or less such as a DLC film and a ta-C film.例文帳に追加

ＤＬＣ膜、ｔａ−Ｃ膜など、高硬度の膜厚５０ｎｍ以下の薄膜について、きわめて短時間にその硬度を測定する。 - 特許庁

An oxidized film of a gate is set ≤10 nm, then, the epitaxial wafer is heat-treated at a temperature of ≥1000°C in a non-oxygen gas atmosphere.例文帳に追加

ゲート酸化膜の厚さを１０ｎｍ以下とし、その後、非酸素系ガス雰囲気でエピタキシャルウェーハを１０００℃以上の温度で熱処理する。 - 特許庁

Specifically, aqueous slurry of titanium dioxide fine particles having an average particle diameter of ≤100 nm is adjusted to pH ≥8 at 70°C, a silicate is added and the aqueous slurry is neutralized with an acid to form high density silica.例文帳に追加

平均粒子径が１００ｎｍ以下の二酸化チタン微粒子の表面に、高密度シリカと多孔質シリカの被覆を形成させる。 - 特許庁

The amorphous porous material has fine pores having 2-50 nm pore diameter and keeps a porous structure at ≤1400°C.例文帳に追加

本アモルファス多孔質材料は、孔径が２〜５０ｎｍである細孔を有し、１４００℃以下において多孔質構造を維持できることを特徴とする。 - 特許庁

The polishing solution contains an oxidant, a metal oxide dissolving agent, a metal anticorrosive agent, and water, and has an etching rate of 1.0 nm/minute or below at a temperature of 25°C.例文帳に追加

酸化剤、酸化金属溶解剤、金属防食剤及び水を含有し、エッチング速度が２５℃で１．０ｎｍ／分以下である研磨液。 - 特許庁

In addition, if the target preheat temperature is ≥800°C, the oxygen blowing velocity of the oxidizing gas to be blown into the converter is set to be ≥20 Nm^3/minute.例文帳に追加

更に、予熱目標温度が８００℃以上の場合には、転炉内に吹き込む酸化性ガスの酸素吹込速度を２０Nm^3／分以上とする。 - 特許庁

It is desirable for the multiple oxide to have a characteristic that the fine pore diameter becomes 3.5-100 nm the fine pore volume becomes ≥0.20 cc/g after being fired at 800°C for 5 hr.例文帳に追加

この複合酸化物は、 800℃で５時間の焼成後に細孔径が 3.5〜 100nmの細孔容積が0.20cc／ｇ以上となる特性を有することが望ましい。 - 特許庁

The thickness of a selection object oxide layer is 30-40 nm, and the temperature when an oscillation threshold current is minimized is ≤60°C.例文帳に追加

そして、被選択酸化層の厚さは３０ｎｍから４０ｎｍの範囲内であり、発振の閾値電流が最小となるときの温度は６０℃以下である。 - 特許庁

The ethylene polymer pellet has a kneading torque at 160°C of 2-15 Nm and a specific surface area of 1,800-3,000 mm^2/g.例文帳に追加

１６０℃における混練トルクが２〜１５Ｎｍであるエチレン系重合体のペレットであって、比表面積が１８００〜３０００ｍｍ^２／ｇであるペレット。 - 特許庁

The purified β-D-glucan having light transmittance of ≥60% at 660 nm in 0.2 wt.% of an aqueous solution at 25°C is obtained by the method.例文帳に追加

この方法により、０．２重量％の水溶液の、２５℃での、６６０ｎｍの光の透過率が６０％以上である精製β−Ｄ−グルカンが得られる。 - 特許庁

When the thickness of the junction region is set to 1.5 nm or larger, the amount of warpage, after retaining for one hour at 150°C, can be set at approximately 200 μm, or smaller.例文帳に追加

また、接合領域の厚みを１．５ｎｍ以上とすると、１５０℃で１時間保持した後の反り量を概ね２００μｍ以下とすることができる。 - 特許庁

This sugar heated object is obtained by heating fruit sugar under a temperature of 100-200°C so as to bring an absorbance in 5 wt.% aqueous solution of 480 nm to 0.1-1.0.例文帳に追加

１００〜２００℃の温度下で果糖を加熱して、５重量％水溶液の４８０ｎｍにおける吸光度が０．１〜１．０になるようにする。 - 特許庁

The epoxy resin composition comprises an epoxy resin (A), barium sulfate particles (B) having an average particle diameter of not more than 100 nm, and dicyandiamide (C).例文帳に追加

本発明は、エポキシ樹脂（Ａ）、平均粒子径が１００ｎｍ以下の硫酸バリウム粒子（Ｂ）およびジシアンジアミド（Ｃ）からなるエポキシ樹脂組成物である。 - 特許庁

Then a GaN buffer layer (not shown in the figure) is formed on the SiC layer 1 to have a thickness of about 20 nm at a temperature of 500°C by the metal organic CVD method.例文帳に追加

次に、有機金属気相成長法により、このＳｉＣ層１上に、温度500℃でＧａＮバッファ層（図示せず）を２０ｎｍ程度の膜厚で形成する。 - 特許庁

This gas barrier formed article includes a layer comprising a gas barrier material which comprises cellulose fibers having an average fiber diameter of ≤200 nm and an oily component solid at 25°C.例文帳に追加

平均繊維径が２００ｎｍ以下のセルロース繊維と２５℃で固体の油性成分を含むガスバリア材料からなる層を有するガスバリア性成形体。 - 特許庁

The wavelength from the long arc light source LAL through the wavelength cut filter F2 in the late period P3 is 280 to 330 nm and the heat H to be applied is specified to 200°C.例文帳に追加

そして、後期Ｐ３では波長カットフィルタＦ２を通したロングアーク光源ＬＡＬからの波長は２８０〜３３０ｎｍで、与える熱Ｈは２００℃とする。 - 特許庁

Pitch with a crystallite thickness Lc (002) in c-axis direction of ≥5.0 nm, measured through X-ray diffraction, is successively subjected to carbonization treatment and activation treatment.例文帳に追加

Ｘ線回折によって測定されるｃ軸方向の結晶子厚さＬｃ（００２）が５．０ｎｍ以上のピッチを炭素化処理、次いで賦活処理する。 - 特許庁

The aqueous dispersion is an aqueous dispersion of polymer particles which comprise (A) a hydrophilic polymer, (B) a hydrophobic polymer and (C) a pigment and which have a mean particle diameter of 20 to 500 nm.例文帳に追加

（Ａ）親水性ポリマー、（Ｂ）疎水性ポリマーおよび（Ｃ）顔料からなる平均粒径２０〜５００ｎｍの顔料内包ポリマー粒子の水系分散体。 - 特許庁

Titanium oxide membranes 11 and VO2 membranes 12 are alternately laminated on an Al2O3 substrate 13 in a thickness of 5 nm at 700°C.例文帳に追加

Ａｌ_2Ｏ_3基板１３上に、温度７００℃に設定して酸化チタン薄膜１１とＶＯ_2薄膜１２を、それぞれ厚さ５ｎｍにして交互に積層する。 - 特許庁

The condition C: In the particles containing the silicon atom, their ≥5 and ≤25 mass% are silica having ≥7 and ≤40 nm mean primary particle diameter.例文帳に追加

条件Ｃ：ケイ素原子を有する粒子中、その５質量％以上２５質量％以下が平均一次粒径７ｎｍ以上４０ｎｍ以下のシリカである。 - 特許庁

The cellulose acylate film has an Re of ≥15 nm, an Rth of ≤-7.5 nm and a tensile stress of 15-100 N/mm^2, when the film is stretched by 20% at 240°C in the direction in which the tensile elasticity modulus becomes maximum in the plane.例文帳に追加

Ｒｅが１５ｎｍ以上、Ｒｔｈが−７．５ｎｍ以下で、引張り弾性率が面内で最大となる方向に２４０℃において２０％伸ばしたときの引張り応力が１５〜１００Ｎ／ｍｍ^2であるセルロースアシレートフィルム。 - 特許庁

This ultraviolet-shielding composition for the organic electroluminescence cell is characterized by containing a binder (A), an ultraviolet shielding agent (B), and metal nano-particles (C) having an absorption peak at 280-500 nm, and a particle diameter of 0.5-60 nm.例文帳に追加

バインダー（Ａ）、紫外線遮蔽剤（Ｂ）、および２８０ｎｍ〜５００ｎｍに吸収ピークを有し、粒子径が０．５〜６０ｎｍである金属ナノ粒子（Ｃ）を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスセル用紫外線遮蔽性組成物。 - 特許庁

The low-temperature baked carbon, baked at a baking temperature of 550°C, is a condensed polycyclic hydrocarbon having a spacing of 0.405 nm and a crystallite length of 0.74 nm, and exhibits a capacity of 680 mAh/g as a lithium ion secondary battery anode material.例文帳に追加

当該低温焼成炭素は、焼成温度５５０℃においては、面間隔０．４０５ｎｍ、結晶子長０．７４ｎｍの縮合多環炭化水素であり、リチウムイオン二次電池負極材料として、６８０ｍＡｈ／ｇの容量を示す。 - 特許庁

This cylindrical light transmissive base substance for the electrophotographic photoreceptor is made of polymer resin, and set so that thermal deformation start temperature is ≥100°C, a double refraction value is ≤40 nm and its dispersion is within 5 nm.例文帳に追加

重合体樹脂により造られている、熱変形開始温度が１００℃以上であり、複屈折値が４０ｎｍ以下で且つそのバラツキが５ｎｍ以内であることを特徴とする電子写真感光体用円筒状透光性基体。 - 特許庁

In the material of the phase expressed by WC_1-x, a composition of C is 36 at% to 41 at%, and the rest being W, while the grain size of the material of the phase expressed by the WC_1-x is within the range of 2 nm to 50 nm.例文帳に追加

前記ＷＣ_１−ｘで表される相の材料において、Ｃの組成が３６at％〜４１at％であり、残部がＷであり、前記ＷＣ_１−ｘで表される相の材料の粒径が２ｎｍ〜５０ｎｍの範囲内である。 - 特許庁

The carbon material may have a crystallite size with an approximate thickness Lc (004) of a crystallite of 10-80 nm in a c-axis direction, and an approximate thickness La (110) of a crystallite of 10-190 nm in an a-axis direction.例文帳に追加

前記炭素材料は、結晶子サイズにおいて、ｃ軸方向の結晶子の厚みＬｃ（００４）が１０〜８０ｎｍ程度であり、ａ軸方向の結晶子の厚みＬａ（１１０）が１０〜１９０ｎｍ程度であってもよい。 - 特許庁

The polyester fine fiber is composed mainly of polyethylene terephthalate and has a fiber diameter of ≥50 nm and ≤800 nm, a strength of 1.5-6.0 cN/dtex, an elongation of 15-60% and a moisture absorption of ≥1.5% at 35°C and 95% relative humidity.例文帳に追加

ポリエチレンテレフタレートを主体とし、繊維径５０ｎｍ以上８００ｎｍ以下、強度が１．５〜６．０ｃＮ／ｄｔｅｘ、伸度が１５〜６０％、かつ３５℃,９５％での吸湿率が１．５％以上であるポリエステル微細繊維。 - 特許庁

The boron nitride film including the c-BN phase having 5 to 100 nm average grain diameter has a structure wherein the periphery of individual crystal is surrounded by an sp^2 bonding phase having 1 to 20 nm thickness.例文帳に追加

ｃ−ＢＮ相を含む窒化ホウ素皮膜であって、ｃ−ＢＮ相の平均結晶粒径が５〜１００ｎｍであり、各々の結晶の周りが厚さ１〜２０ｎｍのｓｐ^２結合相で囲まれた組織を有する窒化ホウ素皮膜。 - 特許庁

The polycarbonate optical retardation film has 40 to 350 nm retardation in the plane direction measured at 550 nm wavelength and 0.001% to 0.04% dimensional change rate by heat in the longitudinal direction at 100°C.例文帳に追加

波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値が４０〜３５０ｎｍであり、且つ１００℃の条件下における長さ方向の熱寸法変化率が０．００１％〜０．０４％であることを特徴とするポリカーボネート系位相差フィルムである。 - 特許庁

This composition is characterized by containing (A) a resin having an ethylene unsaturated group in the molecule, (B) a compound which absorbs the near infrared region of 650 nm and 1,000 nm and (C) a light resistant improver.例文帳に追加

分子内にエチレン性不飽和基を有する樹脂（Ａ）、６５０ｎｍから１０００ｎｍの近赤外領域を吸収する化合物（Ｂ）、耐光性向上剤（Ｃ）を含有することを特徴とするエネルギー線硬化型樹脂組成物。 - 特許庁

In the phosphor, preferably, a lattice constant a of β-type sialon is in the range of 0.7608-0.7620 nm, a lattice constant c is in the range of 0.2908-0.2920 nm, and Eu content is in the range of 0.1-3 mass%.例文帳に追加

なお、上述の蛍光体において、β型サイアロンの格子定数ａが０．７６０８〜０．７６２０ｎｍ、格子定数ｃが０．２９０８〜０．２９２０ｎｍの範囲にあり、Ｅｕ含有量が０．１〜３質量％であることが好ましい。 - 特許庁

An image recording medium contains a composition composed of one kind or more compounds having an acid-sensitive substituent in which C-C bonds or C-N bonds are generated by the intermolecular reaction or intramolecular reaction accompanying desorption of the substituent to generate changes on 360 nm-900 nm absorption zones and also contains a compound generating acid by the action of light or heat.例文帳に追加

酸感受性の置換基を有し、該置換基の離脱に伴う分子間または分子内反応によりＣ−Ｃ結合またはＣ−Ｎ結合が形成され、３６０ｎｍ〜９００ｎｍの吸収域に変化を生じることができる１種類以上の化合物からなる組成物、および、光または熱の作用により酸を発生する化合物を含有する画像記録媒体。 - 特許庁

The artificial graphite for the negative electrode of the lithium-ion secondary battery has a crystallite size Lc in the c axis direction, obtained by X-ray diffractometry, of 60 to 120 nm, and has a crystallite size Lc of ≥150 nm when a graphitization treatment under an inert gas atmosphere at 3,000°C is performed.例文帳に追加

本発明に係るリチウムイオン二次電池負極用人造黒鉛は、Ｘ線回折によって求められるｃ軸方向の結晶子サイズＬｃが６０〜１２０ｎｍであり且つ不活性ガス雰囲気下、３０００℃の温度での黒鉛化処理が施されると結晶子サイズＬｃが１５０ｎｍ以上となることを特徴とする。 - 特許庁

The toner for electrostatic charge image development contains a crystalline resin, having a melting point of 50°C higher and 80°C or lower and silica as an external additive, having a volume average particle diameter of 40 nm or larger and 200 nm or smaller with a toner coverage rate ranging from 60% to 100%, and the toner has a maximum ventilation flowability index MAE of not larger than 25 mJ.例文帳に追加

融点が５０℃以上８０℃以下の結晶性樹脂を含み、外添剤として体積平均粒径が４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下のシリカをトナー被覆率６０％以上１００％以下の範囲で含み、トナーの最大通気流動性指標ＭＡＥが２５ｍＪ以下である静電荷像現像用トナーである。 - 特許庁

The manufacturing process is to manufacture an acrylic polymer composition containing acrylic polymer B containing an unsaturated carboxylic acid alkyl ester unit, an unsaturated carboxylic acid unit and a cyclic structure unit c and elastic particles C having a particle size of ≥10 nm and ≤1,000 nm and involves step (1) and step (2).例文帳に追加

不飽和カルボン酸アルキルエステル単位と不飽和カルボン酸単位と環化構造単位ｃとを含有するアクリル系ポリマーＢと、粒子径が１０ｎｍ以上１，０００ｎｍ以下である弾性体粒子Ｃとを含有するアクリル系ポリマー組成物の製造方法であって、下記工程（１）および工程（２）を経る方法とする。 - 特許庁

The optical filter wherein 100 or more thermoplastic resin layers of at least two or more kinds are laminated in the thickness direction has ≥70% maximum value of transmittance or reflectance in 250 to 2,600 nm wavelength and ≤10 nm shift quantity of a reflection spectrum or a transmission spectrum under an atmosphere of -5°C to 65°C.例文帳に追加

少なくとも２種以上の熱可塑性樹脂層が厚み方向に１００層以上積層され、波長２５０〜２６００ｎｍにおける透過率または反射率の最大値が７０％以上であり、−５℃と６５℃の雰囲気下における反射スペクトラムまたは透過スペクトラムのシフト量が１０ｎｍ以下である光学フィルタ。 - 特許庁

During rotation speed control, in C areas from t4 to t5 in which motor rotation speed Nm (transmission input speed) reaches the after gear shift input rotation speed, torque upper limit value Tm (Lim) of the electric motor during rotation speed control is set the same value as the target motor torque in front of the switching time t3 to rotation control from torque control.例文帳に追加

回転数制御中、モータ回転数Nm（変速機入力回転数Ni）が変速後入力回転数に達するt4からt5までのC領域において、回転数制御中である電動モータのトルク上限値Tm(Lim)を、トルク制御から回転数制御への切り替え時t3の直前における目標モータトルクと同じ値に設定する。 - 特許庁

The substrate for the display device has a plastic film having ≥70% average light transmittance in 400-700 nm wavelength and ≥100°C glass transition temperature and a gas barrier layer containing an inorganic laminar compound and a polymer and characteristically has 250-450 nm retardation (Re) value in 632.8 nm wavelength.例文帳に追加

波長４００〜７００ｎｍにおける平均光透過率が７０％以上、ガラス転移点が１００℃以上のプラスチックフィルムと、無機層状化合物及びポリマーを含むガスバリヤ層と、を有し、波長６３２．８ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）の値が、２５０〜４５０ｎｍであることを特徴とする表示装置用基板である。 - 特許庁

A 3C-SiC single crystal layer 3 having a thickness of 1 nm to 10 μm is formed on the Si single crystal substrate 2, and a C-BP single crystal layer 4 having a thickness of 1 nm to 10 μm and a compound semiconductor single crystal layer 5 having a thickness of 1 nm to 500 μm are formed in order on the 3C-SiC single crystal layer.例文帳に追加

Ｓｉ単結晶基板２上に厚さ１ｎｍ〜１０μｍの３Ｃ−ＳｉＣ単結晶層３が形成され、この３Ｃ−ＳｉＣ単結晶層上に厚さ１ｎｍ〜１０μｍのＣ−ＢＰ単結晶層４及び厚さ１ｎｍ〜５００μｍの化合物半導体単結晶層５がこの順で形成されている。 - 特許庁

The near-infrared light cutting filter glass also has an α ray emission amount of 0.002 to 0.02 c/cm^2.h, and a transmittance in the wavelength of 315 nm of <0.3 when conversion is performed in such a manner that a wavelength showing a transmittance of 50% in a spectral transmittance in a wavelength of 550 to 750 nm is 615 nm.例文帳に追加

また、α線放出量が０．００２〜０．０２ｃ／ｃｍ^２・ｈ、かつ波長５５０〜７５０ｎｍの分光透過率において５０％の透過率を示す波長が６１５ｎｍとなるように換算した場合に、波長３１５ｎｍにおける透過率が０．３％未満である近赤外線カットフィルタガラスである。 - 特許庁

The substrate for the display device has a plastic film having ≥70% average light transmittance in 400-700 nm wavelength and ≥100°C glass transition temperature and a gas barrier layer containing an inorganic laminar compound and a polymer and characteristically has 500-650 nm retardation (Re) value in 632.8 nm wavelength.例文帳に追加

また、波長４００〜７００ｎｍにおける平均光透過率が７０％以上、ガラス転移点が１００℃以上のプラスチックフィルムと、無機層状化合物及びポリマーを含むガスバリヤ層と、を有し、波長６３２．８ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）の値が、５００〜６５０ｎｍであることを特徴とする表示装置用基板である。 - 特許庁

The photosensitive composition for forming a light shielding film contains (a) carbon black as a light shielding pigment, (b) a photopolymerizable compound and (c) a photopolymerization initiator, wherein a primary particle diameter of the carbon black is adjusted to 20-60 nm, preferably 30-45 nm.例文帳に追加

（ａ）遮光性顔料としてのカーボンブラック、（ｂ）光重合性化合物、および（ｃ）光重合開始剤を含有する遮光膜形成用感光性組成物において、前記カーボンブラックの一次粒子径を２０〜６０ｎｍ、好ましくは３０〜４５ｎｍにする。 - 特許庁