「nm C」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

The conductive composition contains 0.1-10.0 pts.wt. metal oxide particle, which has BET value of 20-200 m^2/g or has an average particle diameter of 5-60 nm, and has a melting point of not lower than 1,500°C, based on 100 pts.wt. metal used as a conductor for electronic components.例文帳に追加

電子部品用導体として使用される金属１００重量部に対して、ＢＥＴ値が２０〜２００ｍ^２／ｇもしくは平均粒径が５〜６０ｎｍで融点が１５００℃以上である金属酸化物粒子を０．１〜１０．０重量部含有する。 - 特許庁

In the method for producing a glass preform, the temperature of SiCl_4, which is a raw-material gas, is regulated to 100°C or higher to grow fine glass particles to an average outer diameter of 90 nm or more in a flame from a burner for producing fine glass particles, before the fine glass particles are deposited on a starting glass rod 13.例文帳に追加

ガラス母材の製造方法は、原料ガスであるＳｉＣｌ_４の温度を１００℃以上に制御して、ガラス微粒子生成用バーナの火炎内で、ガラス微粒子の平均外径を９０ｎｍ以上にしてから出発ガラスロッド１３に堆積させる。 - 特許庁

An image forming method is disclosed, the method using a nonmagnetic single component toner that is prepared by externally adding inorganic fine particles having an average primary particle size of 4 to 80 nm and inorganic particles having an average primary particle size of 0.1 to 1.0 μm and that has a softening point of 105 to 125°C and a volume-basis median diameter of 3 to 10 μm.例文帳に追加

平均一次粒径が４〜８０ｎｍの無機微粒子と平均一次粒径が０．１〜１．０μｍの無機粒子とを外添し、軟化点が１０５〜１２５℃で体積基準メディアン径が３〜１０μｍとなる非磁性一成分トナーを用いた画像形成方法。 - 特許庁

The silicone microemulsion composition contains (A) 100 pts.mass of a specific carboxy-modified organopolysiloxane, (B) 25-75 pts.mass of a specific polyether-modified organopolysiloxane, (C) 0.1-10 pts.mass of anionic surfactant, and (D) 23-6,000 pts.mass of water, wherein an average diameter of an emulsion particle is not over 100 nm.例文帳に追加

（Ａ）特定のカルボキシ変性オルガノポリシロキサン 100質量部、（Ｂ）特定のポリエーテル変性オルガノポリシロキサン 25〜75質量部、（Ｃ）アニオン性界面活性剤 0.1〜10質量部、及び（Ｄ）水 23〜6000質量部、を含み、エマルション粒子の平均粒径が100nm以下であるシリコーンマイクロエマルション組成物。 - 特許庁

The polyester microfiber has a single fiber diameter of 10-1000 nm, a variation (CV%) of the single fiber diameter of 0-25%, a tensile strength of 4.0 cN/dtex or more and a fracture elongation of 10-80% as a bundle of the microfibers, and a dry heat shrinkage rate of 5% or less at 150°C.例文帳に追加

単糸繊維径が１０〜１０００ｎｍで、単糸繊維径のばらつき（ＣＶ％）が０〜２５％、極細繊維束として引張強度が４．０ｃＮ／ｄｔｅｘ以上、破断伸度が１０〜８０％、１５０℃での乾熱収縮率が５％以下であるポリエステル極細繊維。 - 特許庁

The anisotropic-shape silica sol is manufactured by adjusting the pH of a silica sol having an average particle size within the range of 3-20 nm through a cation-removing process to pH2-5, then subjecting to an anion-removing process, thereafter adjusting its pH by adding an alkaline aqueous solution to pH7-9, and heating it to 60-250°C.例文帳に追加

平均粒子径が３〜２０ｎｍの範囲にあるシリカゾルを脱陽イオン処理してｐＨ２〜５の範囲に調整し、次いで脱陰イオン処理した後、アルカリ性水溶液を添加してｐＨ７〜９に調整した後、６０〜２５０℃で加熱することにより製造する。 - 特許庁

In the method, barium titanate particles having an average particle diameter of 70-150 nm and a relative dielectric constant of 3,500-18,000 can be obtained by setting the heating temperature within the range of 900-1,000°C, especially, in the second process.例文帳に追加

特に、本発明によれば、第２工程において、加熱温度を９００〜１０００℃の範囲の温度とすることによって、平均粒径が７０〜１５０ｎｍの範囲にあり、比誘電率が３５００〜１８０００の範囲にあるチタン酸バリウム粒子を得ることができる。 - 特許庁

The radiation-sensitive resin composition includes a radiation-sensitive acid generator and a polymer having a structural unit including an acid dissociable group, in which the acid generating from the radiation-sensitive acid generator shows a diffusion coefficient of 0.01 nm^2/sec or less at 105°C.例文帳に追加

感放射線性酸発生体、及び酸解離性基を含む構造単位を有する重合体を含有し、上記感放射線性酸発生体から発生する酸の１０５℃における拡散係数が０．０１ｎｍ^２／ｓｅｃ以下である感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The composition includes (A) the carbon nanotubes, (B) silica particles having a density of silanol group calculated from a specific surface area measured by using a BET method and the amount of silanol groups measured by titration of 1-8 pieces/nm^2 and (C) the dispersion medium.例文帳に追加

本発明に係る組成物は、（Ａ）カーボンナノチューブと、（Ｂ）ＢＥＴ法を用いて測定される比表面積および滴定により測定されるシラノール基量から算出されるシラノール基密度が１〜８個／ｎｍ^２であるシリカ粒子と、（Ｃ）分散媒体と、を含有する。 - 特許庁

An oxide semiconductor film serving as a channel formation region of a transistor is formed by a sputtering method over 200°C, whereby the number of water molecules desorbed from the oxide semiconductor film can be 0.5 molecules/nm^3 or less according to temperature-programmed desorption analysis.例文帳に追加

トランジスタのチャネル形成領域となる酸化物半導体膜を、２００℃を超える温度のスパッタリング法で形成することにより、昇温脱離分析において、前記酸化物半導体膜から脱離する水分子の数を０．５個／ｎｍ^３以下とすることができる。 - 特許庁

This liposome for cosmetics comprises, based on 100 pts.wt. of the component A, 5 to 30 pts.wt. of the component B, 0.2 to 5 pts.wt. of the component C, and 5 to 30 pts.wt. of the component D, wherein the average particle diameter of the liposome is 100 to 500 nm.例文帳に追加

下記に示すＡ成分１００重量部に対して、Ｂ成分５〜３０重量部、Ｃ成分０．２〜５重量部およびＤ成分５〜３０重量部を含有し、リポソームの平均粒径が１００〜５００ｎｍであることを特徴とする化粧料用リポソーム。 - 特許庁

The board for drawing the conductive pattern has a particulate layer containing colloidal particles which comprise metal or composite metal having specific resistance of ≤20 μΩcm at 20°C and have the average particle size of 1 to 100 nm, on a board.例文帳に追加

基板上に、２０℃における比抵抗が２０μΩ・ｃｍ以下である金属または複合金属からなり、かつ平均粒子サイズが１〜１００ｎｍであるコロイド粒子を含有する微粒子層を有することを特徴とする導電パターン描画用基板である。 - 特許庁

When a wafer is taken out from an epitaxial reactor and taken into a carrying part, an oxide thin film having a thickness of ≤1 nm is formed by introducing a small amount of oxygen into the inert gas in a carrying chamber and taking the wafer into the carrying chamber at ≥600°C immediately after forming an epitaxial film.例文帳に追加

エピタキシャル反応室から搬送部に取り出す時に、搬送室内の不活性ガス中に僅かに酸素を存在させ、エピタキシャル膜形成直後に600℃以上でウェーハを搬送室に取り出して表面に1nm以下の薄い酸化膜を形成させる。 - 特許庁

(A) Pore size: 4-10 nm, (B) Pore volume: ≥0.60 mL/g, (C) Sphericity: ≥0.95 of a silica particle deemed as spherical as expressed by ratio of lengths of minor axis (D_S) to major axis (D_L) (D_S/D_L) determined by scanning electron microscopic observation.例文帳に追加

（Ａ）細孔径が４〜１０ｎｍ、（Ｂ）細孔容積が０．６０ｍｌ／ｇ以上、（Ｃ）シリカ粒子の球状換算として、走査型電子顕微鏡観察による短軸（Ｄ_Ｓ）と長軸（Ｄ_Ｌ）との長さの比（Ｄ_Ｓ／Ｄ_Ｌ）で表される真球度が０．９５以上。 - 特許庁

Alternatively, amorphous strontium aluminate nanorods having a diameter of 50 nm or less are generated by heating the aqueous solution at 160-200°C and for 10 hours or more in a pressure vessel and then the crystalline strontium aluminate nanorods are produced by the same heat-treatment as above.例文帳に追加

あるいは上記水溶液を圧力容器中で１６０〜２００℃に１０時間以上加熱して直径５０ｎｍ以下の非晶質アルミン酸ストロンチウムナノロッドを生成させた後、上記と同様に加熱処理して、結晶性アルミン酸ストロンチウムナノロッドを製造する。 - 特許庁

In an LB4 crystal box 23, LB4 which converts the incident light and emits projection light of 266 nm is arranged satisfying a phase matching angle and a heating device which heats and holds this LB4 crystal at 200 to 600°C is incorporated.例文帳に追加

ＬＢ４結晶ボックス２３には、入射光を変換して２６６ｎｍの出射光を出射させるＬＢ４が、位相整合角度を満足するように配置されていると共に、このＬＢ４結晶を２００〜６００℃に加熱保持する加熱装置が内蔵されている。 - 特許庁

This optical film is characterized in that the retardation value (Rt) in the thickness direction which is defined by formula (1): Rt value = {(Nx+Ny)/2-Nz}×d is in the range of 50≤Rt≤300 nm when measured at 23°C and 55% RH.例文帳に追加

下記一般式（１）で定義される、厚み方向のレターデーション値（Ｒｔ）が２３℃、５５％ＲＨにおいて、５０≦Ｒｔ≦３００ｎｍであり、且つ、２３℃、２０％ＲＨと２３℃、８０％ＲＨにおけるＲｔ値の差が４０以下である事を特徴とする光学フィルム。 - 特許庁

The fine particles C form fine protrusions on the surface at a frequency of 5,000,000-50,000,000/mm2 wherein the height of the protrusions is 10-50 nm and the ratio t/d between the thickness t of the continuous coating 1B and the mean grain size d of the fine particles dis in the range of 0.1-4.例文帳に追加

微細粒子によって微細表面突起が形成されており、その頻度が５００万〜５０００万個／ｍｍ^2、高さが１０〜５０ｎｍ、連続被膜の厚さｔと前記微細粒子の平均粒径ｄとの比ｔ／ｄが、０．１〜４の範囲にある。 - 特許庁

This photosensitive composition contains (a) a compound having an ethylenically unsaturated double bond, (b) a phthalocyanine sensitizing dye having an absorption maximum in the wavelength region of 750 nm-1,200 nm, and (c) a photopolymerization initiator, and the image forming material is formed by coating a support with this photosensitive composition and an image is formed by using this material.例文帳に追加

（ａ）エチレン性不飽和二重結合含有化合物、（ｂ）増感色素、及び（ｃ）光重合開始剤を含有する感光性組成物に於いて、（ｂ）増感色素が７５０ｎｍから１２００ｎｍの範囲に吸収極大があるフタロシアニン化合物であることを特徴とする感光性組成物、更に基板上に上記感光性組成物からなる感光層を有する画像形成材料並びに画像形成方法。 - 特許庁

The blue-violet laser photosensitive composition contains (A) an ethylenically unsaturated compound, (B) a photopolymerization initiator and (C) a sensitizer, having a specified structural formula and shows the maximum peak of spectral sensitivity in a 390 to 430 nm wavelength region, and ≥5% transmittance T405 for light at 405 nm wavelength, when a photosensitive composition layer of 20 μm film thickness is formed.例文帳に追加

（Ａ）エチレン性不飽和化合物、（Ｂ）光重合開始剤及び、（Ｃ）特定の構造式を有する増感剤を含有し、３９０〜４３０ｎｍの波長域に分光感度の極大ピークを有するとともに膜厚２０μmの感光性組成物層を形成したときの波長４０５ｎｍにおける光透過率Ｔ４０５が５％以上であることを特徴とする青紫色レーザー感光性組成物。 - 特許庁

In the inkjet recording material having a porous ink receiving layer containing fine inorganic particles having an average secondary particle size of 500 nm or below and a resin binder on a support and the surface layer on its upper layer, the surface layer mainly contains fine organic particles and has a thickness of 200 nm or below, and the glass transition temperature (Tg) of the fine organic particles is 55°C or below.例文帳に追加

支持体上に、平均二次粒子径が５００ｎｍ以下の無機微粒子と樹脂バインダーを含有する多孔質のインク受容層と、その上層に表面層を有するインクジェット用記録材料において、該表面層が有機微粒子を主体として含有する厚さ２００ｎｍ以下の表面層であり、かつ該有機微粒子のガラス転移点（Ｔｇ）が５５℃以下であることを特徴とするインクジェット記録材料。 - 特許庁

The adhesive composition includes: an adhesive component; and tetrazole compounds or salts thereof represented by specific three formulas, and in these tetrazole compounds or the salts thereof, the maximum value of molar absorptivity in a wavelength of 250-400 nm is at least 100, and the weight persistence when heated from 100°C to 200°C measured using a thermobalance is at least 80%.例文帳に追加

接着剤成分と、特定の３式で表されるテトラゾール化合物若しくはその塩とを含有する接着剤組成物であって、前記テトラゾール化合物は、波長２５０〜４００ｎｍにおけるモル吸光係数の最大値が１００以上であり、かつ、熱天秤を用いて測定した１００℃から２００℃に加熱したときの重量残存率が８０％以上である接着剤組成物。 - 特許庁

The alkali-developable photosensitive resin composition Q used for simultaneously forming projections and photo-spacers for the vertically aligned liquid crystal display element contains (A) hydrophilic resin formed by modifying epoxy resin and containing a (metha-)acryloyl group and a carboxylic group, (B) inorganic particles with a volume average particle diameter of 1-200 nm, and (C) a photo-radical polymerization initiator C.例文帳に追加

エポキシ樹脂を変性してなる（メタ）アクリロイル基およびカルボキシル基を含有する親水性樹脂（Ａ）、体積平均粒子径が１〜２００ｎｍである無機微粒子（Ｂ）並びに光ラジカル重合開始剤（Ｃ）を含有する、垂直配向型液晶表示素子用の突起とフォトスペーサを同時に形成するために用いられるアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 - 特許庁

In this insecticidal resin composition obtained by adding an ultraviolet absorber to a base, a base having ≥80% light transmittance in 360-830 nm wavelength range and ≥190°C weight loss starting temperature when measured by using a TG/DTA analyzer at 10°C/minute rate of heating in 100 ml/minute air atmosphere is used as the base.例文帳に追加

紫外線吸収剤を基材に含有させた防虫用樹脂組成物において、該基材として、波長３６０〜８３０ｎｍの範囲における光線透過率が８０％以上で、ＴＧ／ＤＴＡ分析器を用いて１０℃／ｍｉｎの昇温速度で、１００ｍｌ／ｍｉｎ空気雰囲気下で測定したときの重量減少開始温度が１９０℃以上のものを使用する。 - 特許庁

In a discharge lamp which emits light including ultraviolet light with a wavelength of 190 nm or less in the discharge container, at least a part of the discharge container is made of synthetic quartz glass having a content of fluorine of 7,000 wt.ppm or more and 30,000 wt.ppm or less, and a virtual temperature Tf of 750°C or more and 1,000°C or less.例文帳に追加

本発明の放電ランプは、波長１９０ｎｍ以下の紫外光を含む光を放電容器の内部で放射する放電ランプにおいて、前記放電容器の少なくとも一部が、フッ素の含有量が７０００ｗｔ．ｐｐｍ以上３００００ｗｔ．ｐｐｍ以下であり、かつ、仮想温度Ｔｆが７５０℃以上１０００℃以下である合成石英ガラスからなる。 - 特許庁

To realize 1,580 nm band optical amplifier with high output conversion efficiency, by connecting C-band and L-band silica-substrate erbium ion doped optical fiber amplifiers (EDFAs) in parallel, and reusing a rear amplified spontaneously emitted light from the C-band or L-band EDFA unit as a secondary pumping light for amplification in the L-band EDFA unit.例文帳に追加

Ｃ−バンド及びＬ−バンドのシリカ基材ＥＤＦＡを並列接続し、Ｃ−バンドＥＤＦＡ部またはＬ−バンドＥＤＦＡ部から出力される後方増幅自発放出光をＬ−バンドＥＤＦＡ部の増幅に対する２次ポンピング光で再活用することにより、高出力変換効率を有する１５８０ｎｍバンドの光増幅器を実現する技術を提供する。 - 特許庁

Amorphous strontium aluminate nanotubes are generated by heating the aqueous solution of the mixture of aluminum nitrate nonahydrate, strontium nitrate, urea, n-butanol and cetyltrimetylammonium bromide at 115-150°C and for 10 hours or more in a pressure vessel and then the crystalline strontium aluminate nanotubes having an outside diameter of 150-200 nm are produced by heating the nanotubes at 1,250-1,350°C and for 3-10 hours.例文帳に追加

硝酸アルミニウム九水和物、硝酸ストロンチウム、尿素、ｎ−ブタノールおよび臭化セチルトリメチルアンモニウムの混合物の水溶液を圧力容器中で１１５〜１５０℃に１０時間以上加熱して非晶質アルミン酸ストロンチウムナノチューブを生成させた後、さらに、該ナノチューブを１２５０〜１３５０℃に３〜１０時間加熱して外径１５０〜２００ｎｍの結晶性アルミン酸ストロンチウムナノチューブを製造する。 - 特許庁

The CO oxidation method, which oxidizes CO in an exhaust gas to produce CO2, is characterized in that CO and a CO oxidant are made to contact at 150-200°C on a carrier and a catalyst where a catalyst active component is dispersed as a cluster of size of an average of 2 nm or below on the carrier.例文帳に追加

排ガス中のＣＯを酸化して二酸化炭素とするＣＯの酸化方法であって、ＣＯとＣＯ酸化剤とを、担体と、触媒活性成分を大きさが平均２ｎｍ以下のクラスターとして担体上に分散させた触媒上で、１５０〜２００℃で接触させることを特徴とする。 - 特許庁

This optical biaxially oriented polyester film is characterized by having total light transmittance of ≥80%, light transmittance of ≤5.0% at a wavelength of 380 nm, a haze value of ≤3.0% and contraction stress of ≥10 g/mm^2 in a film longitudinal direction (MD direction) at 90°C.例文帳に追加

全光線透過率が８０％以上であり、波長３８０ｎｍの光線透過率が５．０％以下であり、ヘーズ値が３．０％以下であり、９０℃におけるフィルム長手方向（ＭＤ方向）の収縮応力が１０g／ｍｍ^２以上であることを特徴とする光学用二軸配向ポリエステルフィルム。 - 特許庁

When forming the thin titanium oxide film form, a mixed-solution in which anatase titanium oxide particles with primary particle diameters of 1-200 nm are dispersed in an aqueous medium of pH 0.5 to 3.0 containing titanium hydroxide and/or titanium hydroxide precursor is applied to the conductive substrate and dried at 0-300 °C.例文帳に追加

酸化チタン薄膜を形成させる際には、水酸化チタン及び／または水酸化チタン前躯体を含むｐＨ０．５〜３．０の水系媒体に、一次粒子径１〜２００ｎｍのアナターゼ型酸化チタン粒子が分散された混合液を、導電性基板に塗布し０〜３００℃で乾燥させる。 - 特許庁

The thermosensitive recording material comprises a diazonium salt, a coupler, and a base in such a manner that a coupling reaction constant at 100°C is 0.1 or more and a maximum absorption wavelength λmax of a dye generated by a reaction of the salt and the coupler is 600 nm or more.例文帳に追加

ジアゾニウム塩、カプラー及び塩基を含有し、これらの１００℃におけるカップリング反応定数が０．１以上であり、該ジアゾニウム塩と該カプラーとの反応により生成する色素の最大吸収波長λ_max が６００ｎｍ以上であることを特徴とする感熱記録材料である。 - 特許庁

The manufacturing method comprises emulsion-polymerizing in water a monomer (A) mainly composed of methyl methacrylate in the coexistence of a surfactant (B) represented by formula (I) or (II), a radical polymerization initiator (C) and an inorganic substance particle (D) having a primary particle size of 1-50 nm.例文帳に追加

本発明の製造方法は、メチルメタクリレートを主成分とする単量体（Ａ）を、式（Ｉ）または式（II）で示される界面活性剤（Ｂ）、ラジカル重合開始剤（Ｃ）および一次粒子径１ｎｍ〜５０ｎｍの無機物粒子（Ｄ）の共存下に水中で乳化重合させることを特徴とする。 - 特許庁

The treatment agent for a textile product comprises an emulsion obtained by emulsifying a dimethylpolysiloxane compound having 100,000-1,000,000 mm^2/sec viscosity at 25°C into particles having 50-900 nm average particle diameter by a surfactant selected from a nonionic surfactant and an anionic surfactant.例文帳に追加

２５℃における粘度が１０万〜１００万ｍｍ^２／ｓのジメチルポリシロキサン化合物を、非イオン界面活性剤及び陰イオン界面活性剤から選ばれる界面活性剤により、平均粒子径５０〜９００ｎｍの粒子に乳化された乳化物を含む繊維製品処理剤。 - 特許庁

This liquid curable composition comprises the following components (A) to (D): (A) a phosphorus-containing tin oxide particle, (B) a compound having two or more polymerizable unsaturated groups in the molecule, (C) a photopolymerization initiator whose molar extinction coefficient at 313 nm is ≤5,000 L/mol×cm, and (D) a solvent.例文帳に追加

下記成分（Ａ）〜（Ｄ）：（Ａ）リン含有酸化錫粒子（Ｂ）分子内に２以上の重合性不飽和基を有する化合物（Ｃ）３１３ｎｍにおけるモル吸光係数が５，０００Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ以下である光重合開始剤（Ｄ）溶剤を含有する液状硬化性組成物。 - 特許庁

The quartz glass has ≥95% internal transmittance in 10 mm thickness to ultraviolet light of 245 nm wavelength, ≥10^11.5 Pa s coefficient of viscosity at 1,215°C and the coefficient of viscosity increased to ≥10^12.0 Pa s by containing ≤3 ppm Al by weight.例文帳に追加

また、波長２４５ｎｍの紫外光に対する厚さ１０ｍｍでの内部透過率が９５％以上であり、１２１５℃における粘性率が１０^１１．５Ｐａ・ｓ以上であり、さらにＡｌを重量比で３ｐｐｍ以下含有することにより、粘性率が１０^１２．０Ｐａ・ｓ以上である。 - 特許庁

At least one of the lower clad layer 12 and upper clad layer 22 is made of a cured body of a photocuring resin composition containing (A) urethane (meth)acrylate oligomer, (B) a reactive diluted monomer, (C) elastomer particles of 1 to 100 nm in number average particle size, and (D) a photoinitiator.例文帳に追加

下部クラッド層１２及び上部クラッド層２２のうち少なくとも１つは、（Ａ）ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、（Ｂ）反応性希釈モノマー、（Ｃ）数平均粒径が１〜１００ｎｍであるエラストマー粒子、及び（Ｄ）光重合開始剤を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。 - 特許庁

The aromatic polyamide film has a light transmittance of ≥80% for all the lights of wavelengths of 450-700 nm, a thickness of 1-200 μm, and an amount of ≤2 wt%, based on 100 wt% of the film, as the amount of the outgassing in the range of 130-330°C.例文帳に追加

波長４５０ｎｍ〜７００ｎｍの全ての光に対する光線透過率が８０%以上、厚みが１μｍ〜２００μｍであり、１３０℃〜３３０℃の範囲におけるアウトガス量がフィルム１００重量％に対して２重量％以下である芳香族ポリアミドフィルムとする。 - 特許庁

The method for manufacturing the composite metal powder is characterized by mixing refractory and hard compound particles like ceramics, of which the surface is covered with a vapor-depositing C film of 100 nm or thicker, with a molten metal, and atomizing it to uniformly disperse the hard compound particles into the metal matrix of the powder.例文帳に追加

表面に１００ｎｍ以上のＣ膜を蒸着させたセラミックス等の高融点、硬質化合物粒子を、溶融金属に混合後アトマイズすることにより硬質化合物粒子が均一にマトリックス中に分散してなることを特徴とする複合金属粉末の製造方法。 - 特許庁

This optical glass blank used when the optical elements are manufactured by press forming is constituted by forming a release layer which is a thin film consisting mainly of carbon and fluorine and is F/C=0.4 to 2 in the constitution ratio of these elements and 1.5 to 10 nm in film thickness on the surface of the glass blank.例文帳に追加

プレス成形により光学素子を製造する際に用いられる光学ガラスブランクにおいて、主として炭素とフッ素よりなる薄膜で、その元素の構成比がＦ／Ｃ＝０．４〜２であり、かつ、膜厚が１．５〜１０ｎｍである離型層が、ガラスブランク表面に形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

For the melted metal, a metal material, whose melting point is 650°C or less, and whose average extinction coefficient after solidification in a wavelength of 400 to 700 nm is larger than 5.0 or whose average extinction coefficient is larger than 4.5 and average refractive index is less than 1, is chosen to improve optical performance.例文帳に追加

溶融する金属は、融点が６５０℃以下であり、４００〜７００ｎｍの波長における固化後の金属の平均消衰係数が５．０より大、または、平均消衰係数が４．５より大きくて平均屈折率が１未満である金属材料を選択することで、光学性能を向上させる。 - 特許庁

The transparent resin film contains an alicyclic structure-containing polymer and a liquid hydrocarbon being liquid at ordinary temperature and pressure with a boiling point of 80°C or over at a predetermined weight ratio and light transmission of 80% or over at a wavelength of 550 nm and is prepared by a fusion method.例文帳に追加

脂環式構造含有重合体と沸点が８０℃以上であり常温常圧において液体である液体炭化水素と特定の重量比で含んでなり、波長５５０ｎｍにおける光透過率が８０％以上である、溶融法によって作製された透明樹脂フィルム。 - 特許庁

The transparent polymer film satisfies Re≥15 and Rth≤-7.5 (Re and Rth are retardation values in the direction of plane and film thickness, respectively, measured by light of 632.8 nm wavelength) and has moisture permeability of ≥100 g/(m^2 day) at 40°C and 90% relative humidity in terms of the film having a thickness of 80μm.例文帳に追加

Ｒｅ≧１５、Ｒｔｈ≦−７．５［ＲｅおよびＲｔｈは測定波長６３２．８ｎｍの面内方向と膜厚方向のレターデーション値］を満足し、４０℃・相対湿度９０％における透湿度が膜厚８０μｍ換算で１００ｇ／（ｍ^2・ｄａｙ）以上である透明ポリマーフィルム。 - 特許庁

The manufacturing method comprises emulsion-polymerizing in water a monomer (A) mainly composed of methyl methacrylate in the presence of a surfactant (B), a radical polymerization initiator (C) and a silica particle (D) having a particle size (d_1) of 1-100 nm as measured by the BET method.例文帳に追加

本発明の製造方法は、メチルメタクリレートを主成分とする単量体（Ａ）を、界面活性剤（Ｂ）、ラジカル重合開始剤（Ｃ）およびＢＥＴ法により測定される粒子径（ｄ_1）が１ｎｍ〜１００ｎｍであるシリカ粒子（Ｄ）の存在下に水中で乳化重合させることを特徴とする。 - 特許庁

The acrylic resin film (A) has total light transmittance of 90-99%, a haze value of 0.01-2%, light transmittance at wavelength of 380 nm of 0.5-13%, and a glass transition temperature Tg of 100-120°C.例文帳に追加

全光線透過率が９０％以上９９％以下であり、ヘイズが０．０１％以上２％以下であり、波長３８０ｎｍにおける光線透過率が０．５％以上１３％以下であり、かつガラス転移温度Ｔｇが１００℃以上１２０℃以下であるアクリル系樹脂フィルム（Ａ）によって達成される。 - 特許庁

The reflection preventing body is equipped with a low refractive index layer composed of a cured film formed of a composition containing hollow particles with 5-2,000 nm particle diameters (A), a siloxane oligomer having a (meth)acryloyl group and a fluoroalkyl group (B), and an acrylate compound having a (meth)acryloyl group (C).例文帳に追加

反射防止体は、（Ａ）粒径が５〜２０００ｎｍの中空粒子、（メタ）アクリロイル基およびフルオロアルキル基を有するシロキサンオリゴマー、および（Ｃ）（メタ）アクリロイル基を有するアクリレート化合物を含んでなる組成物から形成される硬化膜からなる低屈折率層を備える。 - 特許庁