「nm C」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

This film sealed nonaqueous electrolyte battery is characterized in that, at least, a single lead terminal has, at least, a portion of a part contacting with the polymer resin layer is covered with a corrosion-resistance film with the thickness 5-1000 nm including, at least, the following components (A), (B) and (C).例文帳に追加

少なくとも一つのリード端子は、少なくとも前記高分子樹脂層と接する部分の一部が、少なくとも下記成分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）を含有する膜厚５〜１０００ｎｍの耐食性皮膜により被覆されていることを特徴とするフィルムシール型非水電解質電池。 - 特許庁

The coating material includes, as essential components, a synthetic resin (A) forming a coating film having a reflection region wherein reflectance is ≥10% at the wavelength of 300-500 nm, colored aggregate (B) having average particle size of 0.01-5 mm, and a photocatalytic metal oxide (C) having average particle diameter of ≤0.3 μm.例文帳に追加

波長３００〜５００ｎｍにおいて反射率が１０％以上となる反射領域を有する被膜を形成する合成樹脂（Ａ）、平均粒子径０．０１〜５ｍｍの有色骨材（Ｂ）、及び平均粒子径０．３μｍ以下の光触媒金属酸化物（Ｃ）を必須成分とする。 - 特許庁

To provide a method of producing a transparent electroconductive film, by which crystallization of an a-Si layer being a ground layer is prevented, and the diffusion of an impurity doped is suppressed, and to provide the transparent electroconductive film exhibiting a low resistivity at a substrate temperature of about 150°C and high transmissivity when its thickness is ≤100 nm.例文帳に追加

下地層としてのａ−Ｓｉ層を結晶化させることなく、かつドーピングした不純物の拡散を生じない透明導電膜の製造方法、および約１５０℃の基板温度で低抵抗であり、かつ膜厚１００ｎｍ以下で高透過率を示す透明導電膜を提供する。 - 特許庁

The anticorrosive coating material composition for the magnesium alloy comprises (a) an oxide particle which is selected from the group consisting of aluminium oxide, zinc oxide, tin (IV) oxide, and silicon dioxide and has an average particle size of 20-50 nm, (b) an acrylic resin, and (c) a silane coupling agent.例文帳に追加

酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化スズ（IV）、および二酸化ケイ素からなる群から選ばれる酸化物の粒子であり、平均粒子径が２０〜５０ｎｍである酸化物粒子（ａ）と、アクリル樹脂（ｂ）と、シランカップリング剤（ｃ）とを含有するマグネシウム合金用防錆塗料組成物を用いる。 - 特許庁

The liquid detergent composition for clothes contains (a) a composite oxide particulate which contains an antibacterial metal component and an inorganic oxide other than the antibacterial metal component and has an average particle size of 1-100 nm, (b) 20-60 mass% surfactant and (c) 30-70 mass% water.例文帳に追加

（ａ）抗菌性金属成分と該抗菌性金属成分以外の無機酸化物とを含有する平均粒子径１〜１００ｎｍの複合酸化物微粒子、（ｂ）界面活性剤２０〜６０質量％及び（ｃ）水３０〜７０質量％を含有する衣料用液体洗浄剤組成物。 - 特許庁

This ruthenium complex oxide minute powder is provided by crushing a coarse particle of a ruthenium complex oxide comprising oxides of ruthenium and other metal elements to not greater than 50 nm BET diameter, and sintering the particles at a temperature of 500-800°C.例文帳に追加

ルテニウムとその他の金属元素の酸化物からなるルテニウム複合酸化物の粗粒子を粉砕してＢＥＴ径が５０ｎｍ以下の粉末を得た後、該粉末を５００〜８００℃の温度で焼成することを特徴とするルテニウム複合酸化物微粉末の製造方法などによって提供する。 - 特許庁

The hardenable resin composition contains a compound (A) having at least one unsaturated double bond, a compound (B) having an oxime ester group, and a benzophenone compound (C) containing sulfur atoms and hardened with an active energy beam of 350 to 420 nm in wavelength.例文帳に追加

少なくとも１つの不飽和二重結合を有する化合物（Ａ）、オキシムエステル基を有する化合物（Ｂ）、および硫黄原子を含有するベンゾフェノン化合物（Ｃ）を含み、波長３５０ｎｍ〜４２０ｎｍの活性エネルギー線によって硬化することを特徴とする硬化性樹脂組成物。 - 特許庁

(1) The leader tape has 10 to 60 nm center line average surface roughness (Ra) on at least one surface thereof, ≤20 ppm/°C temperature expansion coefficient in lateral and longitudinal directions and ≤20 ppm/%RH humidity expansion coefficient in lateral and longitudinal directions.例文帳に追加

１）少なくとも一方の面の中心線平均粗さ（Ra）が１０〜６０ｎｍであり、幅方向および長手方向の温度膨張係数が２０ｐｐｍ／℃以下であり、かつ、幅方向および長手方向の湿度膨張係数が２０ｐｐｍ／％RH以下であることを特徴とするリーダーテープ。 - 特許庁

The liquid is used as an immersion liquid for the liquid immersion lithography, such that the concentration of hydrogen atoms is reduced, has satisfactory transparency also with respect to the exposure light of a wavelength of 200 nm or less used for the exposure process, and is constituted from a fluorine-based solvent of which the boiling point is 70 to 270°C.例文帳に追加

水素原子の濃度が低減化され、露光プロセスに用いる波長２００ｎｍ以下の露光光に対しても十分な透明性を有し、その沸点が７０〜２７０℃であるフッ素系溶剤から構成した液体を、液浸露光の浸漬液として使用する。 - 特許庁

On a multilayered body (referred to a "GaN" substrate) produced by forming a GaN layer on a sapphire substrate through an AlN buffer layer and adding Mg, a metal (Pt and Ni) electrode 50 nm is (1) deposited after heating the GaN substrate at 300°C, (2) the GaN substrate is deposited at room temperature, or (3).例文帳に追加

サファイア基板上にＡｌＮバッファ層を介してＧａＮ層及びＭｇを添加した積層体（「ＧａＮ」基板をいう。）上に金属（Ｐｔ及びＮｉ）電極５０ｎｍを、▲１▼ＧａＮ基板温度を３００℃に加熱した後に蒸着、▲２▼ＧａＮ基板を室温にて蒸着した。 - 特許庁

The ink composition for offset printing comprises four process colors of yellow, red, indigo blue and black, where the yellow ink (a), the red ink (b) and the indigo blue ink (c) use a pigment having a specific spectral reflectance curve, respectively, within the wavelength of 400-700 nm.例文帳に追加

プロセス４色からなる、黄、紅、藍、墨のオフセット印刷用インキ組成物の（ａ）黄インキ、（ｂ）紅インキ、（ｃ）藍インキの３色がそれぞれ４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域において特定の分光反射率曲線を有する顔料を使用するオフセット印刷用インキ組成物。 - 特許庁

A ceramic powder with an average particle size of ≤30 nm or a molded product obtained by molding the ceramic powder is pressurized using a mold material at ≤0.60T_m°C (wherein T_m is the melting or sublimation point), deformed into a final shape having a micromachined part and sintered.例文帳に追加

平均粒径が３０ｎｍ以下のセラミックス粉末又は平均粒径が３０ｎｍ以下のセラミックス粉末を成形して得た成形体を、型材を用いて０．６０Ｔ_ｍ ℃（Ｔ_ｍは融点又は昇華点）以下の温度で加圧して微細加工部を持つ最終形状に変形させて焼結する。 - 特許庁

When a copper thin film 4 is deposited at first, to embed a copper thin film 4a in a wiring trench 5 or in a connection hole, a substrate temperature is elevated to 180-200°C from the surface of the substrate by an infrared lamp and then is held at constant level to cause the copper thin film 4 to deposit to several hundreds of nm.例文帳に追加

銅薄膜の堆積の際、最初は、配線溝や接続孔への埋込を目的として、基板温度を１８０〜２００℃に赤外線灯により基板表面から上昇させ、温度を一定の状態に保って、銅薄膜を数百ｎｍ堆積させる。 - 特許庁

The polyester resin is composed mainly of a terephthalic acid component and a glycol component and gives an increase in the amount of a cyclic ester oligomer of at most 0.50 wt% when melted for 60 min at 290°C and a fluorescence emission intensity (B_0) of at most 20 at 450 nm in the fluorescence spectrum emitted when irradiated with an exciting light of a wavelength of 343 nm.例文帳に追加

主としてテレフタル酸成分とグリコール成分とから構成されるポリエステル樹脂であって、該ポリエステル樹脂を２９０℃の温度で６０分間溶融したときの環状エステルオリゴマー増加量が、０．５０重量％以下であり、且つ該ポリエステル樹脂に波長３４３ｎｍの励起光を照射したときに得られる蛍光スペクトルにおける４５０ｎｍの蛍光発光強度（Ｂ_0）が２０以下であることを特徴とするポリエステル樹脂である。 - 特許庁

(1) The photosensitive composition is a photosetting composition containing (A) an ethylenically unsaturated group-containing compound, (B) a photopolymerization initiator, and (C) a sensitizing dye having an absorption maximum in a wavelength region from 355 to 430 nm, wherein the photopolymerization initiator (B) contains a hexaarylbiimidazole compound having a substituent and showing ≥1 wt.% solubility to isopropyleneglycol monomethylether at 25°C.例文帳に追加

（１）（Ａ）エチレン性不飽和基含有化合物、（Ｂ）光重合開始剤、及び（Ｃ）３５５〜４３０ｎｍの波長域に吸収極大を有する増感色素を含有する光硬化性組成物であって、且つ（Ｂ）光重合開始剤が２５℃イソプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに対する溶解性が１重量％以上である置換基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。 - 特許庁

A photosensitive dry film resist which can be exposed with an ordinary exposer and can finely be patterned is provided by using a photosensitive resin composition comprising (A) a soluble polyimide, (B) a compound having a carbon-carbon double bond and (C) a photoreaction initiator as essential components, wherein the component (C) absorbs light of 400-450 nm wavelength and generates a radical.例文帳に追加

（Ａ）可溶性ポリイミド、（Ｂ）炭素−炭素二重結合を有する化合物、（Ｃ）光反応開始剤を必須成分として含有し、（Ｃ）成分が４００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長を吸収してラジカルを発生することを特徴とする感光性樹脂組成物を用いることにより、通常の露光機により、露光可能で、微細なパターンを描くことが出来る感光性ドライフィルムレジストを提供することができる。 - 特許庁

And the fiber has an average reflectance of 60% or less in a wavelength range of 300 nm to 900 nm, and a saturated moisture absorptivity at 20°C in 65%RH of 15 wt.% or more and 50 wt.% or less.例文帳に追加

染着座席となる官能基を有する重合体の領域と、これとは別の領域である架橋構造とカルボキシル基を有する重合体の領域の少なくとも２種類の領域を含み、前記染着座席となる官能基を有する重合体の領域が染料で染色されている繊維であって、かつ、波長３００ｎｍ〜９００ｎｍでの平均反射率が６０％以下であり、２０℃６５％ＲＨ下における飽和吸湿率が１５重量％以上５０重量％以下である保温性繊維。 - 特許庁

This plaque detection system is provided with the plaque dyeing agent containing (A) Monascus yellow, (B) saccharin sodium and (C) carboxymethyl cellulose sodium with the etherification degree of 2.0-2.8, and a light emitting device 10 emitting light having a wavelength within 250-500 nm to an object in the oral cavity stuck with the plaque dyeing agent.例文帳に追加

（Ａ）紅麹黄色素、（Ｂ）サッカリンナトリウム、（Ｃ）エーテル化度が２．０〜２．８のカルボキシメチルセルロースナトリウムを含有する歯垢染色剤と、該歯垢染色剤を付着させた口腔内の対象物に２５０〜５００ｎｍの範囲内の波長を有する光を照射する発光装置１０とが備えられた歯垢検出システムとする。 - 特許庁

The positive-type photosensitive resin composition comprises (a) an alkali-soluble polymer, (b) a compound having a phenolic hydroxyl group, (c) an esterified quinonediazido compound and (d) inorganic particles of 1 to 30 nm particle diameter selected from aluminum compounds, silicon compounds, tin compounds, titanium compounds and zirconium compounds.例文帳に追加

（ａ）アルカリ可溶性ポリマーと、（ｂ）フェノール性水酸基を有する化合物と、（ｃ）エステル化したキノンジアジド化合物と、（ｄ）アルミニウム化合物、ケイ素化合物、スズ化合物、チタン化合物、ジルコニウム化合物から選ばれる粒子径１ｎｍから３０ｎｍの無機粒子を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The magnetic layer existing at least at the uppermost layer in the upper magnetic layer contains a binder including a polyurethane resin having a glass transition temperature ranging from 100 to 200°C and the magnetic layer existing at the uppermost layer has surface projections of 10 to 20 nm in height at 5 to 1,000 pieces/100k μm^2 on its surface.例文帳に追加

前記上層磁性層の中の、少なくとも最上層に位置する磁性層は、ガラス転移温度が１００〜２００℃の範囲であるポリウレタン樹脂を含む結合剤を含み、かつ最上層に位置する磁性層は、その表面に高さ１０〜２０ｎｍの表面突起を５〜１０００個／１００μｍ^2有する。 - 特許庁

A catalyst layer composed of Ni or Pt is formed on a gallium oxide single crystal substrate, and then, gallium nitride nanowires each in the form of a wire having a diameter of 5-200 nm and a length of 5-50 μm are formed by reacting trimethyl gallium and ammonia on the catalytic layer in a temperature range of 850-1,000°C by a CVD method.例文帳に追加

酸化ガリウム単結晶基板上に、ＮｉまたはＰｔからなる触媒層を形成し、前記触媒層上でトリメチルガリウムおよびアンモニアをＣＶＤ法により８５０〜１０００℃の温度範囲で反応させ、径が５ｎｍ〜２００ｎｍ、長さが５μｍ〜５０μｍのワイヤ状の形態をした窒化ガリウムナノワイヤを形成する。 - 特許庁

A gate electrode with a lowermost Pt layer is formed on a barrier layer (nondoped AlGaAs) 17, the (initial) film thickness of the lowermost Pt layer before solid-phase diffusion is set to 2 to 5 nm, the gate electrode is heat treated at 250 to 400°C to mutually diffuse Pt in the lowermost layer and GaAs in the barrier layer 17, thereby obtaining a buried gate structure.例文帳に追加

ここで、最下層のＰｔ層の固相拡散前の膜厚（初期膜厚）を２ｎｍ以上５ｎｍ以下とし、ゲート電極を２５０℃以上４００℃以下の温度で熱処理することにより、最下層のＰｔと障壁層１７のＧａＡｓとを相互に拡散させ、埋め込み型ゲート構造を得る。 - 特許庁

In the golf club head, an epoxy resin whose viscosity is 100 cps is prepared as a matrix resin, and a carbon nano-fiber indicating characteristics that an average fiber diameter is 150 nm and a heat conductivity under a temperature state of 15°C is 1500 W/(m×K) is mixed in the ratio of 3 mass% in the epoxy resin as a micro-carbon fiber 8 to obtain a matrix fiber material.例文帳に追加

マトリックス樹脂として、粘度が１００ｃｐｓのエポキシ樹脂を準備し、これに微細炭素繊維８として、平均繊維径が１５０ｎｍ、熱伝導率が１５℃の温度状態下で１５００Ｗ／（ｍ・Ｋ）の特性を示すカーボンナノファイバーを３質量％の割合で混入せしめたマトリックス樹脂素材を得た。 - 特許庁

As a material for this high-pressure hydrogen gas tank and the high-pressure hydrogen gas piping, a stainless steel containing an appropriate quantity of C, Si, P, S, Mn, Ni, Cr and N is used, and this stainless steel has an aluminum layer formed from aluminum or an aluminum alloy and having a thickness of 100 nm to 10 mm in a surface to be brought in contact with hydrogen gas.例文帳に追加

材質が、適量のＣ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｎを含有するステンレス鋼であり、水素ガスと接する面にアルミニウム又はアルミニウム合金からなる厚さ１００ｎｍ〜１０ｍｍのアルミ層を有することを特徴とする高圧水素ガス用タンク又は高圧水素ガス用配管。 - 特許庁

The circuit pattern is formed by sintering nano-silver paste prepared by stably dispersing fine metallic particles which have a mean particle diameter of 1-100 nm, are composed of gold, silver, copper, etc., and are coated with a dispersant 2 (amine, alcohol, thiol, etc.), capable of coordinating with the metal element contained in the fine metallic particles in an organic solvent at a temperature of ≤250°C.例文帳に追加

平均粒径１〜１００ｎｍの金，銀，銅などの金属微粒子の表面が、当該金属微粒子に含まれる金属元素と配位可能な分散剤２（アミン, アルコール, チオールなど）で被覆され、有機溶媒中に安定に分散した銀ナノペーストなどを、２５０℃以下の温度で燒結して回路パターンを形成する。 - 特許庁

The magnesium oxide powder is aggregate of periclase crystallites each having 1-20 nm average crystal diameter, contains plate like primary aggregate having average particle diameter of 0.1-5 μm and has specific surface area of ≥80 m^2/g and magnesium oxide content of ≥98 mass% after ignition at 1,400°C.例文帳に追加

平均結晶子径が１〜２０ｎｍの範囲にあるペリクレース結晶子の凝集体であって、平均粒子径が０．１〜５μｍの範囲にある板状一次凝集体を含み、比表面積が８０ｍ^２／ｇ以上であって、１４００℃で灼熱後の酸化マグネシウム含有量が９８．０質量％以上である酸化マグネシウム粉末。 - 特許庁

A mixed aqueous solution of ions of a rare earth metal such as europium and yttrium ions is adjusted to a pH of ≥8 using an alkali aqueous solution, and hydrothermally reacted at 360 to 500°C in a short time to thereby manufacture a rare earth metal ion-dissolved yttria solid solution microparticle having a primary particle diameter of ≤100 nm and a high crystallinity degree.例文帳に追加

ユーロピウムなどの希土類金属イオンとイットリウムイオンとの混合水溶液をアルカリ水溶液でｐＨ８以上に調製し、３６０−５００℃で短時間水熱反応させて、一次粒子径が１００ｎｍ以下であり、その粒子は結晶化度が高い希土類金属イオン固溶イットリア微粒子を製造する。 - 特許庁

The liquid detergent composition for use in kitchen contains (a) 10-40 mass% of a nonionic surfactant, (b) 0-4 mass% of a semipolar surfactant and/or an amphoteric surfactant, and (c) inorganic particles having a mean particle diameter of 1-100 nm and having a hemoglobin agglomeration action.例文帳に追加

（ａ）ノニオン界面活性剤１０〜４０質量％と、（ｂ）半極性界面活性剤及び／又は両性界面活性剤０〜４質量％と、（ｃ）平均粒子径１〜１００ｎｍのヘモグロビン凝集作用を有する無機粒子とを含有することを特徴とする台所用液体洗浄剤組成物。 - 特許庁

The photosensitive composition contains (A) a compound containing an addition polymerizable ethylenic double bond, (B) a photopolymerization initiator, (C) a polymeric binder and (D) a dye having an absorption maximum wavelength of 350-450 nm, wherein the photosensitive composition further contains a charge transport material.例文帳に追加

（Ａ）付加重合可能なエチレン性二重結合含有化合物、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）高分子結合材、および（Ｄ）吸収極大波長が３５０〜４５０ｎｍにある色素を含有する感光性組成物において、該感光性組成物がさらに電荷輸送物質を含有することを特徴とする感光性組成物。 - 特許庁

For the developer, an external additive A using a titanium oxide, an external additive B which is a silicon oxide larger than the external additive A, and an external additive C which is a titanium oxide, zinc oxide or aluminum oxide larger than the external additive B are used in combination as an external additive, wherein the average primary particle diameter of the external additive A is set to 7-20 nm.例文帳に追加

現像剤に、外添剤として、酸化チタンを用いた外添剤Ａと、該外添剤Ａより大きい酸化ケイ素である外添剤Ｂと、該外添剤Ｂよりも大きい酸化チタン、酸化亜鉛もしくは酸化アルミニウムである外添剤Ｃとを組み合わせて使用し、前記外添剤Ａの平均一次粒子径が７〜２０ｎｍとなるようにした。 - 特許庁

The cholesteric liquid crystal film obtains a liquid crystal mixture containing (a) a polymerizable mesogen compound, (b) a polymerizable chiral agent, and (c) a photopolymerization initiator subjected to ultraviolet ray polymerization between two base materials, and the wideband cholesteric liquid crystal film has a reflection wideband width of 200 nm or larger.例文帳に追加

重合性メソゲン化合物（ａ）、重合性カイラル剤（ｂ）および光重合開始剤（ｃ）を含む液晶混合物を、二枚の基材間で、紫外線重合して得られるコレステリック液晶フィルムであって、反射帯域巾が２００ｎｍ以上を有することを特徴とする広帯域コレステリック液晶フィルム。 - 特許庁

The apatite particles can be produced by generating precipitates from slurry containing raw materials comprising at least calcium and phosphorous acid, and heating the precipitates at 100-300°C under the presence of oxygen, and produce active oxygen species with the irradiation of ultraviolet rays including a wavelength of 254 nm or less.例文帳に追加

このようなアパタイト粒子は、少なくともカルシウムとリン酸とを構成要素とする原料物質を含むスラリーから沈殿物を生成させ、該沈殿物を酸素存在下において１００〜３００℃で熱処理して製造することができ、２５４ｎｍ以下の波長を含む紫外線照射によって活性酸素種を生成する。 - 特許庁

To provide a nonionic substituted ethynyl gold-nitrogen-containing heterocyclic carbene complex exhibiting light emission in a blue region of the wavelength of 460 nm or shorter essential for realizing a full-color display and useful as an organic light emitting material or the like of a high melting temperature of 200°C or higher withstanding Joule heat generated upon applying a voltage thereto for use in an organic electroluminescent device.例文帳に追加

フルカラーディスプレイを実現するために不可欠な460nm以下の青色領域の発光を有し、電圧印加時に発生するジュール熱に耐えうる200℃以上の高い融点をもつ有機ルミネッセンス素子用発光材料等として有用な非イオン性の置換エチニル金−含窒素へテロ環カルベン錯体を提供する。 - 特許庁

In the synthetic quartz glass substrate the halogen content is less than 10 ppm, the OH group content is less than 100 ppm, the heavy metal and alkali metal content in total is less than 1 ppm, the annealing point is more than 1050°C and the double refraction within the substrate is less than 0.5 nm/cm.例文帳に追加

合成石英ガラス基板であって、ハロゲン含有量が１０ｐｐｍ以下、ＯＨ基含有量が１００ｐｐｍ以下、重金属及びアルカリ金属の含有量の総計が１ｐｐｍ以下、徐冷点が１０５０℃以上であり、かつ基板内の複屈折が０．５ｎｍ／ｃｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

This restorative dental material composition comprises an organic inorganic composite filler the surface of which is treated with (a) a (meth)acrylate monomer having at least one unsaturated double bond and (b) a mono (meth)acrylate having a cyclic ether structure in the molecule, (c) an inorganic filler of fine particles having 5-50 nm average particle size and (d) a polymerization initiator.例文帳に追加

(ａ)少なくとも１個の不飽和二重結合を持つ（メタ）アクリレートのモノマーと、(ｂ)分子中に環状エーテル構造を含むモノ（メタ）アクリレートにより表面処理された有機無機複合充填材と、(ｃ)平均粒径が５〜５０ｎｍの微粒子無機充填材と、(ｄ)重合開始剤とで歯科用修復材組成物を構成する。 - 特許庁

In the manufacturing method for the optical recording substrate, a stamper having projecting and recessed parts and/or grooves is brought into contact with the organic polymer sheet having 120-190°C glass transition temperature, (+10)-(-10) nm double refraction retardation value in a single pass and ≤0.35 mm thickness under vacuum and they are heat-pressed to each other.例文帳に追加

ガラス転移温度が１２０〜１９０℃の範囲にあり、シングルパスの複屈折レターデーションが＋１０ｎｍ〜−１０ｎｍの範囲にありそして厚さが０．３５ｍｍ以下である有機高分子シートに、凹凸および／または溝を有するスタンパを、減圧下で接触させ且つ加熱プレスせしめる、光記録基板の製造法。 - 特許庁

The boron oxide nanowire having a stoichiometric composition, which is arranged on a magnesium substrate and has a diameter of 40-100 nm and a length of 1-2 μm, is obtained by heating a magnesium substrate, boron, and boron oxide at 700°C for 40 minutes in an atmospheric current of argon gas and oxygen gas in an infrared radiation furnace.例文帳に追加

赤外線照射炉において、アルゴンガス及び酸素ガス気流中で、マグネシウム基板、ホウ素及び酸化ホウ素を７００℃、４０分間加熱することにより、マグネシウム基板上に配列し、直径が４０〜１００ナノメートル、長さが１〜２マイクロメートルで、化学量論組成を有する酸化ホウ素ナノワイヤーを得る。 - 特許庁

The plastic substrate for the reflective liquid crystal display element contains a base material layer including fiber cloth and at least one layer of a smoothness improving layer to smooth the surface and has ≤500 nm surface smoothness, (-5)-70 ppm mean linear expansion coefficient at 30-200°C and 50-1,000 μm thickness.例文帳に追加

繊維布を含有する基材層と表面を平滑化する平滑性改良層を少なくとも１層含み、表面平滑性が５００ｎｍ以下で有り、３０〜２００℃での平均線膨張係数が−５〜７０ｐｐｍである厚みが５０〜１０００μmの反射型液晶表示素子用プラスチック基板。 - 特許庁

The nickel alloy powder production method is characterized in that a gaseous mixture of gaseous nickel chloride and at least one kind of gaseous metal chloride selected from among tungsten, molybdenum, niobium and tantalum is subjected to vapor phase hydrogen reduction at 980 to 1,150°C to obtain nickel alloy powder having an average grain size of 10 to 100 nm.例文帳に追加

塩化ニッケルガスと、タングステン、モリブデン、ニオブ、タンタルから選ばれる少なくとも一種類の金属塩化物ガスとの混合ガスを、９８０℃以上１１５０℃以下で気相水素還元することにより、平均粒径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満のニッケル合金粉末を得ることを特徴とするニッケル合金粉末の製造方法。 - 特許庁

The polyurethane resin is produced by carrying out polycondensation reaction of a polyhydric alcohol (A) with a polycarboxylic acid (B) and reacting obtained polyester polyol (C) with a polyisocyanate (D), wherein the polyhydric alcohol (A) or the polycarboxylic acid (B) contains colloidal silica particles having a primary particle diameter of 1-100 nm.例文帳に追加

多価アルコール（Ａ）又は多価カルボン酸（Ｂ）が、一次粒子径が１〜１００ｎｍのコロイダルシリカ粒子を含むものであり、該多価アルコール（Ａ）と多価カルボン酸（Ｂ）との重縮合反応により得られるポリエステルポリオール（Ｃ）をポリイソシアネート（Ｄ）と反応させることにより得られるポリウレタン樹脂を提供することにより上記課題を解決する。 - 特許庁

The colored composition comprises a pigment (A), resin (B), a monomer (C) having an ethylenically unsaturated double bond, and a photopolymerization initiator (D) represented by a general formula (1), wherein the colored composition is cured upon irradiation with a laser of a 405 nm wavelength.例文帳に追加

前記課題は、顔料（Ａ）と、樹脂（Ｂ）と、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー（Ｃ）と、及び一般式（１）で表される光重合開始剤（Ｄ）とを含有してなる着色組成物であり、波長４０５ｎｍのレーザーの照射により硬化することを特徴とする着色組成物によって解決される。 - 特許庁

The foaming pest-controlling agent comprises an emulsion containing an active ingredient for pest control, water or an aqueous solvent, a surfactant, and a higher alcohol of dodecyl alcohol, tetradecyl alcohol or a mixture thereof as essential components, and having ≥0.09 of absorbance at 660 nm of the wavelength at 25°C by a spectrophotometer, and is used by being foamed.例文帳に追加

害虫防除有効成分と水または水性溶媒、界面活性剤、ドデシルアルコールもしくはテトラデシルアルコールまたは両者併用した高級アルコールを必須成分とし、分光光度計による波長６６０ｎｍ、２５℃での吸光度０．０９以上の乳濁液からなり、起泡して施用される起泡性害虫防除剤とする。 - 特許庁

The cleaning and processing cloth is configured such that a number average diameter of monofilament is 1-1,000 nm; a cleaning layer 1 composed of fabrics or knitted fabrics of multifilament that is twisted with a twisted number of ≥1,000 T/M is a laminate integrated with a cushion material 3, and an Asker C hardness of the laminate is ≤70.例文帳に追加

洗浄加工布は、単繊維の数平均直径が１〜１０００ｎｍであり、撚数が１０００Ｔ／Ｍ以上で撚糸されたマルチフィラメントの織物または編物からなる洗浄層１がクッション材３と積層一体化されなる積層体であり、その積層体のアスカーＣ硬度が７０以下の洗浄加工布である。 - 特許庁

A magnetic sensing sensor element and a fixed resistance element are formed with the same magnetoresistance effect film, and a magnetoresistance effect expression of the magnetoresistance effect film forming the fixed resistance element is inhibited by preparing a surface roughness of a foundation forming the fixed resistance element at 5.0 nm or more or heating the fixed resistance element to 350°C or more.例文帳に追加

感磁センサー素子と固定抵抗素子を同一の磁気抵抗効果膜で形成し、固定抵抗素子を形成する下地の面粗さを５．０ｎｍ以上とするか固定抵抗素子を３５０℃以上に加熱して、固定抵抗素子を形成する磁気抵抗効果膜の磁気抵抗効果発現を抑える。 - 特許庁

The photosensitive resin composition comprises: a dispersion composition that comprises (A) titanium dioxide particles having a mean particle diameter of 1 to 100 nm, (B) a graft copolymer bearing a graft chain that has a number of atoms of 40 to 10,000, exclusive of hydrogen, and (C) a solvent; (D) a polymerizable compound; and (E) a polymerization initiator.例文帳に追加

感光性樹脂組成物は、平均粒子径が１ｎｍから１００ｎｍである二酸化チタン粒子（Ａ）、水素原子を除いた原子数が４０〜１００００の範囲であるグラフト鎖を有するグラフト共重合体（Ｂ）、及び溶媒（Ｃ）を含む分散組成物と、重合性化合物（Ｄ）と、重合開始剤（Ｅ）とを含む。 - 特許庁