「nm C」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The wire-shaped particulate-containing composition includes: the wire-shaped metal particulate with a major axis of at least ≥3 μm, a minor axis of at least ≥70 nm and an aspect ratio of 20 to 250; and a solvent with a boiling point of ≤180°C.例文帳に追加

少なくとも長軸が３μｍ以上及び短軸が７０ｎｍ以上であってアスペクト比が２０〜２５０であるワイヤー状金属微粒子と沸点が１８０℃以下の溶媒とを含むワイヤー状金属微粒子含有組成物。 - 特許庁

When the thickness of the single crystal thin film 2 of calcium fluoride is 15 nm or more, a high-quality zinc oxide single crystal film 3, which is oriented to a c axis in the vertical direction with respect to the surface of the substrate and is free from the rotation of a crystalline domain in the surface of the film, is obtained.例文帳に追加

フッ化カルシウム単結晶薄膜２の厚さが１５ｎｍ以上であれば、基板面に垂直方向にｃ軸配向し、膜面内で結晶ドメイン回転のない高品質の酸化亜鉛単結晶膜３が得られる。 - 特許庁

The examination light is preferably near-infrared ray selected from within 700 to 1,200 nm wavelengths and luminance of the first image and the second image in the step (c) are preferably compared.例文帳に追加

検査光は、波長が７００〜１２００ｎｍの範囲から選ばれた近赤外光であることが好ましく、ステップ（ｃ）における第１画像と第２画像の比較は、第１画像の輝度と第２画像の輝度を比較することが好ましい。 - 特許庁

This prepreg obtained by impregnating a substrate with an epoxy resin composition containing (A) an epoxy resin, (B) a curing agent, (C) a curing accelerator and (D) organic short fibers having ≤500 nm mean fiber diameter, and semi-curing is used.例文帳に追加

エポキシ樹脂（Ａ）、硬化剤（Ｂ）、硬化促進剤（Ｃ）、及び平均繊維径５００ｎｍ以下の有機短繊維（Ｄ）を含有するエポキシ樹脂組成物を基材に含浸し、半硬化させて得られることを特徴とするプリプレグを用いる。 - 特許庁

The toner at least contains: a resin; and a coloring agent, and has a glass transition temperature of 20 to 60°C, and also contains acrylic resin particles having fluorine atoms with a number average primary particle size of 30 to 300 nm.例文帳に追加

少なくとも樹脂と着色剤を含有するトナーで、ガラス転移温度が２０℃以上６０℃以下であり、かつ、数平均１次粒径が３０ｎｍ以上３００ｎｍ以下のフッ素原子を有するアクリル樹脂粒子を含有する。 - 特許庁

The transparent film for the electronic display consists of a transparent film of ≥50% transmittance of the UV rays in a wavelength region of a 250 to 450 nm and ≥180°C glass transition temperature measured by a TMA (stress and strain measurement).例文帳に追加

波長２５０〜４５０ｎｍの領域における紫外線の透過率が５０％以上であって、ＴＭＡ（応力歪み測定）で測定したガラス転移温度が１８０℃以上である透明フィルムからなる電子ディスプレイ用の透明フィルム。 - 特許庁

The photosensitive resin composition comprises (A) a binder polymer, (B) a photopolymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated group within a molecule, (C) a photopolymerization initiator and (D) a metal oxide having a primary particle diameter of 1-200 nm.例文帳に追加

（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）分子内に少なくとも一つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）一次粒径が１〜２００ｎｍの金属酸化物を含有してなる感光性樹脂組成物。 - 特許庁

An irradiation device 112 irradiates the wafer W with ultraviolet rays having a wavelength of 120-190 nm in a gas atmosphere that does not contain any oxygen atoms and wafer molecules as pretreatment, and the wafer W is baked at temperature of not less than 170°C.例文帳に追加

前処理として酸素原子、水分子を含まないガス雰囲気中で、波長１２０ｎｍ〜１９０ｎｍの紫外線が照射装置１１２によってウエハＷに対して照射され、ウエハＷは１７０℃以上でベークされる。 - 特許庁

The molybdenum disulfide nanoflower consisting of aggregation of several thousands of petal-like structures having 100 to 200 nm width and several nanometers thickness is produced by heating a molybdenum oxide thin film in an atmosphere of sulfur vapor at 950 to 1,000°C.例文帳に追加

酸化モリブデン薄膜を硫黄の蒸気雰囲気中で９５０〜１０００℃に加熱し、１００〜２００ナノメートルの幅と数ナノメートルの厚さの花弁状構造物が数千枚集合している二硫化モリブデンナノフラワーを作製する。 - 特許庁

The titanium black (C) preferably has a particle diameter of 30-200 nm, the alkali-soluble resin (A) is preferably a polyamide resin or a polybenzoxazole precursor resin, and the photosensitizing agent (B) is preferably selected from a quinonediazido compound and a dihydropyridine compound.例文帳に追加

前記チタンブラック（Ｃ）の粒径が３０〜２００ｎｍであり、前記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）がポリアミド樹脂又はポリベンゾオキサゾール前駆体樹脂であり、（Ｂ）がキノンジアジド化合物及びジヒドロピリジン化合物から選ばれることが好ましい。 - 特許庁

In the gas barrier film, the inorganic amorphous film with a glass-transition temperature of 100-500°C is formed on at least one side of the film substrate, and the minimum transmission coefficient in the wavelength range of 400-700 nm is 70% or more.例文帳に追加

フィルム基体の少なくとも片面に、ガラス転移温度が１００〜５００℃である無機質非結晶質膜を形成されてなり、かつ４００〜７００ｎｍの波長域における最低透過率が７０％以上であるガスバリア性フィルム。 - 特許庁

This method for measuring elimination activity of active oxygen species of medicines and foods by using a cytochrome-C reduction reaction comprises mixing an aqueous solution of extracted solution of a medicine or a food with cytochrome-C and hypoxanthine, formulating the mixed solution with xanthine oxidase and measuring an absorption spectrum of visible region of specimen at 549-551 nm after a fixed time.例文帳に追加

シトクロム−Ｃの還元反応を利用した医薬品、食品類の活性酸素種の消去活性測定方法であり、医薬品あるいは食品類の水溶液又は抽出液にシトクロム−Ｃ、ヒポキサンチンを混合し、その混合液にキサンチンオキシダーゼを添加混合し、所定時間後に549〜551nmにおける可視部吸収スペクトルを測定する。 - 特許庁

This sheet semiconductor sealing resin composition has a viscosity measured at 80°C of ≤10,000 Pa s and comprises (A) an epoxy resin having at least two epoxy groups in the molecule, (B) a curing agent, and (C) silica particles having an average particle diameter dmax of 3-50 nm and a half width of ≤1.5 times the average particle diameter dmax.例文帳に追加

８０℃で測定される粘度が１００００Ｐａ・ｓ以下であり、（Ａ）１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂、（Ｂ）硬化剤、ならびに（Ｃ）平均粒径ｄｍａｘが３〜５０ｎｍでかつ半値幅が平均粒径ｄｍａｘの１．５倍以下であるシリカ粒子を含有してなるシート状半導体封止用樹脂組成物。 - 特許庁

The coherent pigment of a multilayered structure has, on at least a part of visible spectrum of 200 nm width, a spectral reflectance different from, within 20%, the spectral reflectance (C;M) of some keratinous materials, wherein the multilayered structure comprises at least a layer (3b;3c) completely covering a lower layer (3a;3b).例文帳に追加

多層構造を持つ干渉性顔料であって、幅200nmをもつ可視スペクトルの少なくとも一部に対して、ある種のケラチン物質の分光反射率(C；M)から、20％を越えないだけ異なる分光反射率をもつことを特徴とし、かつ該多層構造が、下層(3a; 3b)を完全に覆う少なくとも一つの層(3b; 3c)を含むことを特徴とする、上記干渉性顔料。 - 特許庁

(1) This reducing catalyst consists of a chromium oxide crystal of ≤2 nm in the thickness of the amorphous layers existing on the surfaces of primary particles or its molding and (2) the heating up time from 200°C up to a heat treatment temp. is regulated to ≤2 hours at the time of heat treating chromium hydroxide or its molding at ≥400°C.例文帳に追加

（１）一次粒子の表面に存在するアモルファス層の厚さが２ｎｍ以下であるクロム酸化物結晶またはその成形体から成る還元触媒、および、（２）４００℃以上の温度で水酸化クロム又はその成形体を加熱処理するに当たり、２００℃から加熱処理温度までの昇温時間を２時間以下にする上記の還元触媒の製造法。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition comprises (A) an alkali-insoluble or hardly alkali-soluble acid-dissociating group-containing resin which becomes alkali-soluble by dissociation of the acid-dissociating group, (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation of ≤220 nm wavelength and (C) a phenolic compound represented by formula (C-1).例文帳に追加

本発明の感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）酸解離性基の解離によりアルカリ可溶性となるアルカリ不溶性又はアルカリ難溶性の酸解離性基含有樹脂と、（Ｂ）２２０ｎｍ以下の波長の活性光線又は放射線の照射により酸を発生させる化合物と、以下に示す（Ｃ）フェノール性化合物と、を含有する。 - 特許庁

The silica glass contains 3-10 mass% TiO_2 and a material having a property of reducing TiO_2, has 0±300 ppb/°C thermal expansion coefficient CTE_0-100 at 0-100°C and ≤80% internal transmittance T_200-700 per 1 mm thickness in 200-700 nm wave length range.例文帳に追加

３〜１０質量％のＴｉＯ_２を含有するガラスであって、ＴｉＯ_２に対する還元性を有する物質を含有し、０〜１００℃での熱膨張係数ＣＴＥ_０〜１００が０±３００ｐｐｂ／℃であり、かつ２００〜７００ｎｍの波長域で厚さ１ｍｍあたりの内部透過率Ｔ_２００〜７００が８０％以下であることを特徴とするシリカガラス。 - 特許庁

The woody floor material has a woody base material (A), an undercoat layer (B), an intermediate coat layer (C) and an upper coat layer (D) wherein the intermediate coat layer (C) is formed of a cured film of ultraviolet-curable paint containing a polyfunctional acrylate-based monomer or an acrylate-based prepolymer, silica having a particle size of 1-50 nm and a photopolymerization initiator.例文帳に追加

木質基材（Ａ）、下塗り層（Ｂ）、中塗り層（Ｃ）及び上塗り層（Ｄ）を有する木質床材であって、中塗り層（Ｃ）が、多官能アクリレート系モノマー又はアクリレート系プレポリマー、粒径１〜５０ｎｍのシリカ及び光重合開始剤を含有する紫外線硬化型塗料の硬化皮膜で形成されたことを特徴とする木質床材。 - 特許庁

The coated paper for printing comprises a coating layer containing a copolymer latex having ≥2 glass transition temperatures, ≤-5°C lowest glass transition temperature, ≥10°C highest glass transition temperature and 100-200 nm average particle diameter and ≥30 wt.% of styrene content in an amount of 4-15 pts.wt. based on 100 pts.wt. of the coating layer.例文帳に追加

塗工層が、ガラス転移点を２つ以上有するとともに、最も低いガラス転移点が−５℃以下で且つ最も高いガラス転移点が１０℃以上であり、平均粒子径が１００ｎｍ〜２００ｎｍであり、スチレン含有量が３０重量％以上である共重合体ラテックスを、４〜１５重量部含有する印刷用塗工紙である。 - 特許庁

The λ/4 plate is extended in a direction crossing the longitudinal direction and its in-plane retardation Ro (550), measured with a measurement wavelength 550 nm under the temperature 23°C and the relative humidity 55%RH, falls within the range of 100-160 nm and its orientation angle θ falls within the range of 40-50°.例文帳に追加

特定一般式で表される化合物とセルロースエステル樹脂を含有するλ／４板であって、長手方向に対して斜交する方向に延伸されており、温度２３℃・相対湿度５５％ＲＨにおいて、測定波長５５０ｎｍで測定した面内リターデーションＲｏ（５５０）が１００〜１６０ｎｍの範囲内にあり、配向角θが４０〜５０°の範囲内にあることを特徴とするλ／４板。 - 特許庁

The stable modified metal oxide sol contains a particle C obtained by using a colloid particle A of a metal oxide having 2-60 nm primary particle diameter and covering the surface with a coating material B composed of a colloid particle of an acidic oxide in the ratio of 2-50 wt.% expressed in terms of metal oxide and has 2-100 nm primary particle diameter.例文帳に追加

２〜６０ｎｍの一次粒子径を有する金属酸化物のコロイド粒子（Ａ）を核として、その表面を酸性酸化物のコロイド粒子からなる被覆物（Ｂ）で被覆して得られた粒子（Ｃ）を含有し、且つ（Ｃ）を金属酸化物に換算して２〜５０重量％の割合で含み、そして２〜１００ｎｍの一次粒子径を有する安定な変性金属酸化物ゾルである。 - 特許庁

This coating composition contains (A) a component of a silicon- containing material and (B) a component of modified metal oxide colloidal particles comprising (c) particles obtained by coating the surfaces of (a) colloidal particles of a metal oxide having 2-60 nm primary particle diameters as nuclears with (b) a coating material comprising colloidal particles of an acidic oxide, and having 2-100 nm primary particle diameters.例文帳に追加

（Ａ）成分：ケイ素含有物質、及び（Ｂ）成分：２〜６０ｎｍの一次粒子径を有する金属酸化物のコロイド粒子（ａ）を核として、その表面を酸性酸化物のコロイド粒子からなる被覆物（ｂ）で被覆して得られた粒子（ｃ）を含有し、且つ２〜１００ｎｍの一次粒子径を有する変性金属酸化物コロイド粒子、を含有するコーティング組成物である。 - 特許庁

This coverlay film for protecting a conductor circuit of a printed wiring board is composed by including a layer (A) containing a thermoplastic resin and a layer (B) including an inorganic filler in a silicone resin, wherein average reflectivity at a wavelength of 400-800 nm is ≥70%, and the falling rate of the reflectivity at a wavelength of 470 nm after heat treatment for 4 hrs at 200°C is ≤10%.例文帳に追加

熱可塑性樹脂を含有してなる層（Ａ）とシリコーン樹脂に無機充填材を含有してなる層（Ｂ）とを備えて構成され、波長４００〜８００ｎｍにおける平均反射率が７０％以上であって、かつ２００℃で４時間熱処理した後の波長４７０ｎｍにおける反射率の低下率が１０％以下であるプリント配線板の導体回路保護用のカバーレイフィルム。 - 特許庁

The pickup lens for the short-wavelength type semiconductor laser is formed by using an acrylic resin having ≥90% light transmittance at 405 nm, ≥85% light transmittance at 405 nm after light resistance tests, ≥110°C deformation temperature under load and ≤1.2% moisture absorption rate without substantially containing an N-substituted maleimide compound and an aromatic vinyl compound.例文帳に追加

４０５ｎｍの光線透過率が９０％以上、耐光性試験後の４０５ｎｍの光線透過率が８５％以上、荷重たわみ温度が１１０℃以上、且つ吸湿率が１．２％以下であり、且つＮ−置換マレイミド化合物および芳香族ビニル化合物を実質的に含有しないアクリル樹脂を用いて、短波長型半導体レーザー用ピックアップレンズを形成する。 - 特許庁

In the metallic tone decorative sheet having at least a thermoplastic acrylic resin sheet and a metallic thin film layer, the metallic tone decorative sheet satisfies the condition that when the thermoplastic acrylic resin sheet is heated at 175°C for 30 sec, newly protruded structure having a depth of 50 nm or more or a recessed structure having a depth of 50 nm or more is not generated on the surface of the thermoplastic acrylic resin sheet.例文帳に追加

少なくとも熱可塑性アクリル樹脂シートと金属薄膜層を有する金属調加飾シートにおいて、熱可塑性アクリル樹脂シートが、１７５℃で３０秒間加熱した際に、熱可塑性アクリル樹脂シート表面に、新たに、高さ５０ｎｍ以上の凸状構造または深さ５０ｎｍ以上の凹状構造が発生しない、という条件を満足する金属調加飾シートとする。 - 特許庁

The carbon fiber has ≥1 nm to ≤20 nm arithmetic average surface roughness (Ra), ≥0.5 m^2/g to ≤1.5 m^2/g BET specific surface area determined from gaseous krypton adsorption and an oxygen concentration ratio O/C of ≥0.01 to <0.13 on the surface of the carbon fiber which is determined by X-ray photoelectron spectrometry.例文帳に追加

本発明の炭素繊維は、表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下であって、クリプトンガス吸着から求めたＢＥＴ法比表面積が０．５ｍ^２／ｇ以上１．５ｍ^２／ｇ以下で、かつＸ線光電子分光法によって求められる炭素繊維表面の酸素濃度比Ｏ／Ｃが０．０１以上０．１３未満であることを特徴とするものである。 - 特許庁

The sheet body 1 has an asker C hardness of 4-30 degree, an elongation of 10-20%, repulsive elasticity of 21-49% measured by JIS K 6255, and a light transparency of 75-100% within the range of 350-900 nm of light wavelength.例文帳に追加

シート本体1は、アスカーＣ硬度が４度〜３０度、伸び率が１０〜２０％、ＪＩＳ Ｋ ６２５５で測定した反発弾性率が２１％〜４９％、光波長３５０〜９００ナノメートルの範囲における光透過率が７５％〜１００％とする。 - 特許庁

The magnetoresistive element is produced in a method, including a step of performing heat treatment at not less than 330°C, and has a longest distance of not larger than 10 nm from the center line of a nonmagnetic layer to an interface between a pair of a ferromagnetic layer and the nonmagnetic layer.例文帳に追加

３３０℃以上で熱処理する工程を含む方法により製造され、かつ非磁性層の中心線から、一対の強磁性層と非磁性層との間の界面までの最長距離が１０ｎｍ以下である磁気抵抗素子とする。 - 特許庁

Mesoporous silica obtained by firing an acid treated material of shale at a temperature higher than 700°C and having a BET specific surface area of ≥50 m^2/g and the maximum value of pore volume at a pore diameter of 4-8 nm is used as the moisture control agent.例文帳に追加

頁岩の酸処理物を７００℃を超える温度で焼成処理して得られ、ＢＥＴ比表面積が５０ｍ^２／ｇ以上、細孔直径４乃至８ｎｍに細孔容積の極大値を有するメソポーラスシリカを調湿剤として用いる。 - 特許庁

The emulsified cosmetic includes an oily agent, the phospholipid, a carboxyvinyl polymer, and xanthan gum and/or sodium carboxymethyldextran, and has a viscosity of 100-300 mPa s at 25°C, a pH of 6.0-7.0 and an emulsified particle size of 100-300 nm.例文帳に追加

油剤と、リン脂質と、カルボキシビニルポリマーと、キサンタンガム及び／又はカルボキシメチルデキストランナトリウムとを含有し、２５℃における粘度が１００〜３００ｍＰａ・ｓであり、ｐＨが６．０〜７．０であって、乳化粒子径が１００〜３００ｎｍである乳化化粧料。 - 特許庁

Fibrous carbon with an average fiber diameter of 10 to 200 nm is produced by bringing mixed gas including polyhydric alcohol and water into contact with a catalyst 17 having a smooth surface formed on a reaction part 13 under a heating atmosphere of 400 to 1,000°C.例文帳に追加

多価アルコールと水とを含む混合ガスを、反応部１３に設けられた平滑面を有する触媒１７に４００〜１０００℃の加熱雰囲気下で接触させることにより、平均繊維径１０〜２００ｎｍの繊維状炭素を製造する。 - 特許庁

The water dispersion of a crystalline polyester resin has particle sizes of 30-250 nm, a melting point of 80°C or over and an ionic group concentration of 5-30 mg KOH/g.例文帳に追加

融点が８０℃以上で、イオン性基濃度が５〜３０ｍｇＫＯＨ／ｇである結晶性ポリエステル樹脂が分散しており、かつその分散ポリエステル樹脂の粒子径が３０〜２５０ｎｍの範囲にあることを特徴とするポリエステル樹脂水分散体に関する。 - 特許庁

The substrate for the display device has: a plastic film of ≥70% mean light transmittance in a wavelength region of 400 to 700 nm and ≥100°C glass dislocation point; and a gas barrier layer containing an inorganic laminar compound and a polymer.例文帳に追加

波長４００〜７００ｎｍにおける平均光透過率が７０％以上、ガラス転移点が１００℃以上のプラスチックフィルムと、無機層状化合物及びポリマーを含むガスバリヤ層と、を有することを特徴とする表示装置用基板である。 - 特許庁

This method for carbon fiber of vapor phase method comprises activating carbon fiber of vapor phase method having ≥0.33 nm lattice spacing (d_002) of crystal measured by X-ray diffraction method in the presence of an alkali metal compound at ≤1,000°C temperature.例文帳に追加

Ｘ線回折法で測定した結晶格子面間隔（ｄ_002）が０．３３ｎｍ以上の気相法炭素繊維をアルカリ金属化合物の存在下、１０００℃以下の温度で賦活することを特徴とする気相法炭素繊維の製造方法。 - 特許庁

According to the present invention, the polyazomethine film excellent in heat-resistance having surface roughness (Ra, arithmetic average roughness) of 40 nm or less and 10% weight reduction temperature of 250°C or higher is obtained, and is preferable as electric and electronic part materials.例文帳に追加

本発明によれば表面あらさ（Ｒａ、算術平均粗さ）が４０ｎｍ以下であり、かつ、１０％重量減少温度が２５０℃以上である耐熱性に優れたポリアゾメチンフィルムが得られ、電気・電子部品材料として好適である。 - 特許庁

Alternatively, after forming a semiconductor film on a substrate, the Ni film having a thickness of 10 nm or more is deposited on the semiconductor film while heating the substrate to 450°C or higher, thereby forming the Ni silicide on the semiconductor film.例文帳に追加

また基板上に半導体膜を形成し、前記基板を４５０℃以上に加熱しながら前記半導体膜上にＮｉ膜を１０ｎｍ以上成膜することにより、前記半導体膜にＮｉシリサイドを形成することを特徴とする。 - 特許庁

Strontium titanate powder having an average primary particle size of 1-60 nm is sintered by discharge plasma sintering at a pressure of 20-400 MP and a sintering temperature of 700-1000°C for a sintering time of 0.5 minute to 24 hours.例文帳に追加

平均一次粒子径が１〜６０ｎｍのチタン酸ストロンチウム粉末を、２０〜４００ＭＰの圧力下、７００〜１０００℃の焼結温度で０．５分〜２４時間の焼結時間という条件下で放電プラズマ焼結法を用いて焼結させる。 - 特許庁

The near-infrared ray absorbing adhesive composition comprises (A) a diimonium pigment with the maximum absorption wavelength 1,060-1,200 nm in an acetone solution and (B) a resin with a calculated glass transition temperature of -20°C or less.例文帳に追加

本発明の近赤外線吸収粘着剤組成物は、（Ａ）アセトン溶液における最大吸収波長が１０６０ｎｍを超えて１２００ｎｍ以下であるジイモニウム色素及び（Ｂ）計算ガラス転移温度が−２０℃以下である樹脂を含有する。 - 特許庁

The photosensitive composition contains (A) a hexaarylbiimidazole compound having a specific structure, (B) a sensitizing dye having an absorption maximum λ_max at 350-850 nm and (C) an addition polymerizable compound which reacts under at least one of a radical and an acid.例文帳に追加

（Ａ）特定構造を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物、（Ｂ）３５０ｎｍ〜８５０ｎｍに吸収極大λ_maxを持つ増感色素、及び（Ｃ）ラジカル又は酸の少なくともいずれかによって反応する付加重合性化合物、を含有する感光性組成物。 - 特許庁

The flaky titanium nitride having 0.1-1,000 μm average particle diameter and 1-5,000 nm average thickness is manufactured by floating the flaky titanic acid in a gas phase containing gaseous nitrogen and gaseous ammonia and heating it to 800-1,800°C.例文帳に追加

平均粒子径０．１〜１０００μｍ、平均厚さ１〜５０００ｎｍの形状である薄片状窒化チタンは、薄片状チタン酸を窒素ガス及びアンモニアガスを含む気相中に浮遊させ、８００〜１８００℃に加熱することにより製造される。 - 特許庁

A method for producing a titanium oxide particle with an average particle size of 10-40 nm comprises steps wherein (a) titanium alkoxide is decomposed, (b) the obtained hydrolyzate is subjected to a condensation polymerization and (c) the obtained polymerization product is subjected to a dispersal treatment.例文帳に追加

本発明は平均粒子径10〜40nmの酸化チタン粒子の製造法であって、（ａ）チタニウムアルコキシドを分解する工程、（ｂ）得られた加水分解生成物を縮合重合する工程、（ｃ）重合生成物を分散処理する工程を含む。 - 特許庁

The organic particulate B has a polymer containing a repeating unit expressed by general formula (1) as a copolymerization component of ≥5 mass%, and has a glass transition temperature (Tg) of ≥70°C and a mean particle diameter of ≤100 nm.例文帳に追加

有機微粒子Ｂ：下記一般式（１）で表される繰り返し単位を共重合成分として５質量％以上含有するポリマーを有し、ガラス転移温度（Ｔｇ）が７０℃以上で、且つ平均粒子径が１００ｎｍ以下の有機微粒子。 - 特許庁

The polycarbonate resin molding is surface treated so that the amount of chemiluminescence at 300-650 nm wavelength in a nitrogen atmosphere at 140°C for 30 minutes reaches 30,000-1,200,000 count based on 1 cm^2 measurement surface.例文帳に追加

１４０℃の窒素雰囲気下、３０分間に測定される波長３００ｎｍ〜６５０ｎｍの化学発光量が、測定面１ｃｍ^２当たり３０，０００カウント〜１，２００，０００カウントになるように、表面処理されたポリカーボネート樹脂成形品。 - 特許庁

The photosensitive composition contains (A) a biimidazole type compound of a specific structure, (B) a sensitizing dye having an absorption maximum λ_max at 350-850 nm and (C) an addition polymerizable compound which reacts with at least one of a radical and an acid.例文帳に追加

（Ａ）特定構造にビイミダゾール型化合物、（Ｂ）３５０ｎｍ〜８５０ｎｍに吸収極大λ_maxを持つ増感色素、及び（Ｃ）ラジカル又は酸の少なくともいずれかによって反応する付加重合性化合物を含有する感光性組成物。 - 特許庁

The low refractive index layer is composed of a cured film formed of a composition containing hollow particles with 5-2,000 nm particle diameters (A), a siloxane oligomer having a (meth)acryloyl group and a fluoroalkyl group (B), and an acrylate compound having a (meth)acryloyl group (C).例文帳に追加

低屈折率層は、（Ａ）粒径が５〜２０００ｎｍの中空粒子、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基およびフルオロアルキル基を有するシロキサンオリゴマー、および（Ｃ）（メタ）アクリロイル基を有するアクリレート化合物を含んでなる組成物により形成された硬化膜からなる。 - 特許庁