「nm C」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

This method for preserving the green tea beverage packed in a transparent container comprises irradiating green tea beverage colored light or white light which contains wavelength component of 495-505 nm at an irradiance of ≥2 μW/mL in cold preservation and ≥15 μW/mL in a heating condition of ≥50°C at an integrated value of radiant flux of 495-505 nm.例文帳に追加

４９５〜５０５ｎｍの放射束の積算値で常温保存の場合２μＷ/ｍL以上、５０℃以上の加温下での保存の場合１５μＷ/mL以上の放射照度で４９５〜５０５ｎｍの波長成分を含む有色光または白色光を緑茶飲料に照射する。 - 特許庁

The crystal grain consisting mainly of barium titanate is characterized in that the average particle diameter is ≤150 nm and the volume V per unit cell which is expressed by the product of lattice constants (a, b, c) determined by an X-ray diffraction pattern of the crystal grain, is ≤0.0643 nm^3.例文帳に追加

チタン酸バリウムを主成分とする結晶粒子の平均径が１５０ｎｍ以下であり、かつ前記結晶粒子のＸ線回折パターンから求められる格子定数（ａ、ｂ、ｃ）の積で表されるユニットセル当りの体積Ｖが０．０６４３ｎｍ^３以下であることを特徴とする。 - 特許庁

The oxide-film-forming method includes immersing the aluminum surface into nitric acid with the concentration of 70% under a condition of room temperature lower than 40°C for ten minutes or longer to form the aluminum oxide film with a thickness of 4 nm or more.例文帳に追加

アルミニウム表面を濃度７０％の硝酸に４０℃未満の室温、１０分以上浸漬する条件下で、厚さ４ｎｍ以上の酸化アルミニウムの被膜を形成した。 - 特許庁

The component inside the enclosure is subjected to a reactive fluid pressure higher than 10 bars during a predetermined period and also subjected to thermal activation (T>100°C) or optical activation (λ<500 nm).例文帳に追加

容器内の構成部材は、所定の期間、１０バールよりも高い反応性流体圧力を受け、かつ熱的活性化（Ｔ＞１００℃）または光学的活性化（λ＜５００ナノメートル）を受ける。 - 特許庁

The surface of a substrate 41 is oxidized at a temperature which is 1,050°C or higher, or oxidized at an oxidizing rate which is 7.5 mm/ minute or higher so that an oxide film 43 which is 1,500 nm or larger in thickness can be formed.例文帳に追加

基板表面を１０５０℃以上の温度で酸化するか、又は７．５ｎｍ／分以上の酸化速度で酸化して１５００ｎｍ以上の厚さの酸化膜を形成する。 - 特許庁

As a result of this, film formation liquid containing iron(II) ion, formic acid and hydrazine of pH7.0 and 75°C and ferrite particles whose particle size is equal to or less than 70 nm is supplied to the recirculation system pipe.例文帳に追加

この結果、ｐＨ７．０及び７５℃の、鉄（II）イオン、ギ酸、ヒドラジン及び粒径が７０ｎｍ以下のフェライト粒子を含む皮膜形成液が、再循環系配管に供給される。 - 特許庁

Next, the wafer W is irradiated with an electron beam having a charge density ≤6.7×10^-3 C/nm^2, and secondary electrons emitted by irradiation of the electron beam are detected.例文帳に追加

次いで前記ウエハＷに対して電荷密度が６．７×１０^-３Ｃ／ｎｍ^２以下の電子線を照射し、前記電子線の照射により放出された２次電子を検出する。 - 特許庁

The photocatalytic coating liquid includes (A) a photocatalytic material, (B) amorphous Zr-O particles, (C) matting particles having a particle diameter of 100 nm to 1 μm, and (D) a dispersion medium.例文帳に追加

（Ａ）光触媒体と（Ｂ）非晶質Ｚｒ−Ｏ系粒子と（Ｃ）粒径が１００ｎｍ〜１μｍの艶消し用粒子と（Ｄ）分散媒を含む光触媒コーティング液を用いる。 - 特許庁

The method for raising seedling of flowering plants includes irradiating young seedlings after all of true leaves come out after germination with light having a peak wavelength of 400-550 nm at a low temperature of not more than 15°C for 100-600 hours.例文帳に追加

発芽後本葉が出揃った後の幼苗に、温度１５℃以下の低温下で、ピーク波長４００〜５５０nmの光を１００時間以上、６００時間以下の期間照射する。 - 特許庁

The peak shift of the peak top of interfering light, before and after the selective holding layer is treated at 32°C for 3 hr using a 1.5 μM avidin aqueous solution, is preferably 2 nm or below.例文帳に追加

選択的保持層を１．５μＭのアビジン水溶液を用いて３２℃にて３時間処理した前後における、干渉光のピークトップのピークシフトが、２ｎｍ以下である態様が好ましい。 - 特許庁

The white vaseline is hydrogenated in the presence of a group VIII metal catalyst under conditions of 170-250°C and 6-30 MPa to have ≤0.25 ultraviolet absorbance (value of 1 w/v% isooctane solution and 1 cm optical path length) at 275 nm.例文帳に追加

白色ワセリンを第VIII族金属触媒の存在下、170〜250℃、６〜30MPaの条件下で水素化して、275nmの紫外部吸光度（１w／v％イソオクタン溶液の値、光路長１cm）を0.25以下にする。 - 特許庁

With the active layer 5 includes a quantum well layer of 10 nm or less, the contact layer 9 is growth through the temperature difference LPE with a substrate temperature of 700°C or less.例文帳に追加

さらに、活性層５が厚さ１０ｎｍ以下の量子井戸層を含む場合には、ｐ型ＧａＡｓコンタクト層９を基板温度７００℃以下の温度差ＬＰＥ法により成長させる。 - 特許庁

The optical fiber 300 has a zero-dispersion wavelength that is not less than 1,555 nm and positioned in a wavelength range which does not exceed L-band, and has negative dispersion values in C-band and positive dispersion values in L-band.例文帳に追加

光ファイバー３００は、ゼロ分散波長が１５５５ｎｍ以上で且つＬ−バンド以下の波長範囲に位置し、Ｃ−バンドで負の分散値を有し、Ｌ−バンドで正の分散値を有する。 - 特許庁

A first organic EL display element color filter (c) comprises a green pixel area 4G, the green pixel area 4G having a light transmittance of 15% or less over 600-650 nm.例文帳に追加

第１の有機ＥＬ表示素子用カラーフィルターｃは、緑色画素領域４Ｇを備え、緑色画素領域４Ｇの光透過率が６００〜６５０ｎｍにわたって１５％以下である。 - 特許庁

In the high strength steel wire having excellent ductility, the average width of planar ferrite is ≤15 nm, and also, the average C concentration in the central part of the ferrite is ≤0.2 mass%.例文帳に追加

板状のフェライトの平均幅が１５ｎｍ以下であり、かつフェライト中心部の平均Ｃ濃度が０．２質量％以下であることを特徴とする延性に優れた高強度鋼線。 - 特許庁

This dielectric ceramic is obtained by firing a powder of barium titanate having an average particle diameter of 10-90 nm and a mass change rate of 0.1-0.5% at 600-900°C.例文帳に追加

平均粒子径が１０〜９０ｎｍであり、６００〜９００℃における質量変化率が０．１〜０．５％であるチタン酸バリウム系粉末を焼成して得られる誘電体セラミックスを得る。 - 特許庁

The organic fine particle B is an organic fine particle of ≥70°C in Tg and ≤100 nm in average particle size, having a polymer containing the repeating unit given in general formula (1) of ≥5 mass%.例文帳に追加

有機微粒子Ｂ：下記一般式（１）の繰り返し単位を５質量％以上含有するポリマーを有し、Ｔｇが７０℃以上、平均粒子径が１００ｎｍ以下の有機微粒子。 - 特許庁

This method comprises adding a fine silica gel powder having a mean particle diameter of 5-100 nm to a powdery or particulate normally solid aromatic compound having a melting point of 250°C or below in order to prevent its solidification.例文帳に追加

常温固体で、２５０℃以下の融点を有する芳香族化合物の粉末又は粒子の固結を防止するため、平均粒径が５〜１００ｎｍのシリカゲル微粉末を添加混合する。 - 特許庁

The epoxy resin composition essentially comprises (A) an epoxy resin, (B) an epoxy resin curing agent, (C) globular nanoparticles having a particle size of 1,000 nm or less, and at least one block copolymer (D) selected from the group consisting of S-B-M, B-M, and M-B-M.例文帳に追加

下記［Ａ］〜［Ｄ］を必須とするエポキシ樹脂組成物、それを繊維基材に含浸して得られるプリプレグ、およびそのプリプレグを硬化してなる繊維強化複合材料。 - 特許庁

A second organic EL display element color filter (c) comprises a blue pixel area 4B, the blue pixel area 4B having a light transmittance of 30% or less over 500-550 nm.例文帳に追加

第２の有機ＥＬ表示素子用カラーフィルターｃは、青色画素領域４Ｂを備え、青色画素領域４Ｂの光透過率が５００ｎｍ〜５５０にわたって３０％以下である。 - 特許庁

When the applied pressure is 500 MPa, a highly-transparent alumina having a real in-line transmittance (wavelength of 645 nm) higher than 60% is obtained at a low temperature of 950-1,000°C.例文帳に追加

印加圧力が５００ＭＰａの場合、９５０℃〜１０００℃という低温で、６０％よりも高い実直線透過率（波長６４５ｎｍ）を持つ高度に透明なアルミナが得られた。 - 特許庁

The expressions are: (I) 20≤Re≤500; (II) 70≤Rth≤200 and (III) 1.0≤Rth/Re≤3.0, wherein Re and Rth are values at 25°C and 60% RH respectively and the unit is nm.例文帳に追加

ここに、式（Ｉ）：２０≦Ｒｅ≦５００、式（ＩＩ）：７０≦Ｒｔｈ≦２００、式（ＩＩＩ）：１．０≦Ｒth/Ｒｅ≦３．０であり、Re及びRthは、２５℃，６０％ＲＨにおける値であり、単位は、ｎｍである。 - 特許庁

In the post-printing processing liquid containing at least polymer fine particles, the polymer fine particles having a glass transfer temperature of 50°C or higher and an average particle diameter of 200 nm or more are used.例文帳に追加

少なくともポリマー微粒子を含有する印刷後処理液において、該ポリマー微粒子として、ガラス転移温度５０℃以上且つ平均粒子径２００ｎｍ以上のものを使用する。 - 特許庁

An SiOC film deposited for the film thickness of about 200 nm while making a temperature on the surface of a substrate ≤400°C is deposited on a low dielectric constant organic film in a reducing atmosphere.例文帳に追加

低誘電率の有機膜上に、基板温度表面の温度を４００℃以下にして堆積した膜厚２００ｎｍ程度のＳｉＯＣ膜を還元性雰囲気中で堆積する。 - 特許庁

A negative active material contains easily graphitizable carbon having a crystallite size in the direction of c axis Lc of 72.5 nm or less as a single component or the main component.例文帳に追加

負極活物質として、ｃ軸方向の結晶子の大きさＬｃが７２．５ｎｍ以下である易黒鉛化性炭素を単一成分または主成分として含むものを用いる。 - 特許庁

This carbon nano-tube having less than 200 nm outside diameter is obtained by using a carbon precursor resin as a raw material and holding the carbon precursor resin at 500-3,000°C for 0.5-24 hours to carbonize it.例文帳に追加

炭素前駆体樹脂を原料とし且つ５００〜３０００℃にて０．５〜２４時間保持することにより炭素化され、外径が２００ｎｍ未満であることを特徴とするカーボンナノチューブ。 - 特許庁

This transparent aqueous elastomer has the light permeability of ≥90%T measured by means of a spectrophotometer with the light of 655 nm wavelength and 10 mm optical path at 25°C.例文帳に追加

この透明水性弾性体は分光光度計により測定した透過率が温度２５℃、測定波長６５５ｎｍ、光路１０ｍｍの条件下で９０％Ｔ以上である。 - 特許庁

A polyester resin having ≥120°C glass transition temperature, ≥1.6 refractive index, ≤30 nm retardation value and a fluorene structure is used as the transparent resin substrate 21 of the optical filter.例文帳に追加

光学フィルタの透明樹脂基板２１として、ガラス転位温度が１２０℃以上、屈折率が１．６以上、リタデーション値が３０ｎｍ以下のフルオレン構造を有するポリエステル樹脂を用いる。 - 特許庁

The component (C) has 20-100 nm primary particle diameter, and is preferably aluminum-doped zinc oxide, zinc antimonate, antimony-doped tin oxide, indium-doped tin oxide, phosphorus-doped tin oxide and/or antimony oxide.例文帳に追加

（Ｃ）が、２０〜１００ｎｍの一次粒径を持ち、アルミニウムドープ酸化亜鉛、アンチモン酸亜鉛、アンチモンドープ酸化錫、インジウムドープ酸化錫、リンドープ酸化錫及び／又は酸化アンチモンが好ましい。 - 特許庁

This rubber composition for mounting an engine comprises a chloroprene-based rubber, carbon black having ≥2 nm average piled height Lc in C-axis of layer plane in a crystallite and zinc powder.例文帳に追加

クロロプレン系ゴム、結晶子内の層平面のＣ軸方向の平均積み重なり高さＬｃが２ｎｍ以上のカーボンブラック及び亜鉛粉を含有するエンジンマウント用ゴム組成物。 - 特許庁

The titanium oxide coating film is formed by adhering the titanium oxide sol, volatilizing the solvent, heating at a temperature of ≥200°C and then irradiating an electromagnetic wave with a wavelength of <650 nm.例文帳に追加

この酸化チタンゾルを付着させ溶媒を揮発させた後、２００℃以上での加熱焼成処理、波長６５０ｎｍ未満の電磁波照射処理により酸化チタン塗膜を形成する。 - 特許庁

Here, the deposition rate of the CeO_2 thin film in the deposition step is ≥30 nm/min, and the temperature of the oriented metal substrate in the deposition step is 750-1,100°C.例文帳に追加

そして、成膜工程におけるＣｅＯ_２膜の成膜速度は３０ｎｍ／分以上であり、成膜工程における、配向性金属基板の温度は７５０℃以上１１００℃以下である。 - 特許庁

The material comprises fluorinated apatite obtained by preparing a neutral aqueous solution at 30 to 100°C in which P and Ca are mixed and then F is supplied thereto, and precipitating crystals having a grain size of not more than 100 nm.例文帳に追加

ＰとＣａを混合し、その後、Ｆを投下した３０〜１００℃の中性水溶液から粒度１００ｎｍ以下の結晶として析出させたフッ化アパタイトで構成される。 - 特許庁

A film having 90 to 350 nm retardation at 550 nm wavelength is manufactured by preparing a sheet by molding a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer resin and having ≤50 nm retardation at 550 wavelength and stretching the above sheet in at least one direction by 1 to 4 times of elongation magnitude in the temperature range of Tg±50°C with respect to the glass transition temperature (Tg) of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer resin.例文帳に追加

ビニル脂環式炭化水素重合体樹脂を成形してなる、波長５５０ｎｍのレターデーションが５０ｎｍ以下であるシートを、該ビニル脂環式炭化水素重合体樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）に対してＴｇ±５０℃の温度範囲で、少なくとも一方向に１〜４倍の延伸倍率で延伸して、波長５５０ｎｍにおけるレターデーションが９０〜３５０ｎｍのフィルムを製造する - 特許庁

The conductive plastic laminate is produced by forming a transparent conductive layer on a transparent plastic substrate which is characterized in that a glass transition temperature is 260°C or higher, a light transmittance at an optical wavelength of 400 nm is 60% or more, a light transmittance is 80% or more at all optical wavelengths ranging from 450 nm to 700 nm, and a pencil hardness is H or higher.例文帳に追加

ガラス転移温度が２６０℃以上であり、かつ、光波長４００ｎｍにおける光線透過率が６０％以上であり、かつ、４５０ｎｍ〜７００ｎｍにおける全ての光波長の光線透過率が８０％以上であり、かつ、鉛筆硬度がＨ以上である透明プラスチック基板の上に透明導電層を形成し導電性プラスチック積層体とする。 - 特許庁

The adhesive composition comprises (a) a curable adhesive curable by photo-irradiation at 150-750 nm, or heating at 80-200°C, or a combination of photo-irradiation and heating, (b) electroconductive particles and (c) a compound bearing at least one benzotriazole structure in the molecule.例文帳に追加

（ａ）１５０〜７５０nmの光照射または８０〜２００℃の加熱または光照射と加熱を併用することで硬化する硬化性接着剤、（ｂ）導電粒子、（ｃ）ベンゾトリアゾール構造を分子中に一つ以上有する化合物とを含有する接着剤組成物。 - 特許庁

The liquid preparation for the mucosal application is characterized by comprising (a) the ketotifen fumarate, (b) polyethylene glycol 4000, and (c) at least one kind of α-cyclodextrin and β-cyclodextrin, and having a pH of 5.8-7, and ≤0.03 extinction coefficient at 400 nm wavelength.例文帳に追加

（a）フマル酸ケトチフェン、（b）ポリエチレングリコール４０００、並びに（c）α−シクロデキストリン及びβ−シクロデキストリンの少なくとも１種を含有し、ｐＨが５．８〜７の範囲にあり、波長４００ｎｍにおける吸光度が０．０３以下であることを特徴とする粘膜適用液剤。 - 特許庁

This glass ceramic has 95×10-7 to 140×10-7/°C coefficient of thermal expansion at-20 to 70°C, preferably ≥85 GPa Young's modulus, ≥10 kg/mm2 flexural strength in a board material of 10 mm thickness, ≥60% light transmittance at 95-1,600 nm wavelength.例文帳に追加

−２０〜＋７０℃における熱膨張係数が９５×１０^-7〜１４０×１０^-7／℃であり、好ましくはヤング率が８５ＧＰａ以上，曲げ強度が１０ｋｇ／ｍｍ^2以上，９５０〜１６００ｎｍの波長の光線透過率が６０％以上のガラスセラミックス。 - 特許庁

The inkjet composition contains (c) a fatty acid ester condensate obtained from a hydrocarbon and a polycarboxylic acid, wherein (b) nickel particles having an average primary particle diameter of 10-20 nm are dispersed in (a) a solvent having a boiling point of ≥190°C.例文帳に追加

（ａ）沸点１９０℃以上の溶媒に（ｂ）平均一次粒子径が１０〜２０ｎｍのニッケル粒子が分散されたインクジェット組成物であり、（ｃ）炭化水素とポリカルボン酸から得られる脂肪酸エステル縮合体を含有することを特徴とするインクジェット用組成物である。 - 特許庁

The hollow fine particles have an average particle diameter of ≥50 nm and ≤100 μm and have hollow shells having liquid-permeable fine through-holes and a water-insoluble low-boiling compound that is enclosed in the hollow shell and has a boiling point of ≥40°C and ≤100°C.例文帳に追加

中空微粒子が、平均粒径が５０ｎｍ以上１００μｍ以下で液体の通過可能な微小な貫通孔を持つ中空の殻と、この中空の殻に内包された沸点が４０℃以上１００℃以下で水に不溶性の低沸点化合物とを備える。 - 特許庁

The substrate for display device has a plastic film having ≥70% average light transmittance in the wavelength region of 400-700 nm and ≥100°C glass transition temperature and a gas barrier layer of a mono or multicomponent metal oxide glass formed by a sol-gel method and its retardation (Re) value at wavelength of 632.8 nm is in the range of 250-450 nm or 500-700 nm.例文帳に追加

波長４００〜７００ｎｍにおける平均光透過率が７０％以上、ガラス転移点が１００℃以上のプラスチックフィルムと、ゾルゲル法による単一又は多成分系金属酸化物ガラスのガスバリヤ層と、を有し、波長６３２．８ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）の値が、２５０〜４５０ｎｍ又は５００〜７００ｎｍであるか、又は波長６３２．８ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）の値が、２５０〜４５０ｎｍ又は５００〜７００ｎｍである表示装置用基板を提供する。 - 特許庁

The capacitor is manufactured by a method wherein the deposit of a dielectric material is effected with a speed less than 0.1 nm/s, and the substrate 4 is heated at a temperature lower than 500°C in a dielectric film forming process.例文帳に追加

誘電体膜形成工程において、誘電体材料の蒸着を０．１ｎｍ／ｓ以下の速度で行い、基板４を５００℃以下の温度で加熱するコンデンサの製造方法である。 - 特許庁

Because the metallizing temperature is lowered to about 400°C in the reduction atmosphere, thermal oscillation is decreased to suppress the aggregation and an effect to make the average particle diameter of the catalyst equal to or below 100 nm is attained.例文帳に追加

還元雰囲気とすると、金属化温度が４００℃程度に低くなるので、熱振動を小さくして凝集を抑制し、触媒の平均粒径を約１００ｎｍ以下とする効果が得られる。 - 特許庁

The resultant substrate glass has a property that when heat-treatment is carried out at the annealing point of glass+30°C for 10 hr, the transmittance in a wavelength region of 250-350 nm is increased compared to that before the heat treatment.例文帳に追加

得られた基板ガラスは、ガラスの徐冷点＋３０℃の温度で１０時間熱処理すると、２５０ｎｍ〜３５０ｎｍの波長域における透過率が熱処理前と比べて高くなる性質を有している。 - 特許庁

The curable resin composition comprises a curable resin (A), a filler (B) and a curing accelerator (C), where the filler has a volume-average particle size of 1-100 nm.例文帳に追加

硬化性樹脂（Ａ）、フィラー（Ｂ）、硬化促進剤（Ｃ）からなる硬化性樹脂組成物において、フィラーの体積平均粒子径が１〜１００ｎｍであることを特徴とする硬化性樹脂組成物を用いる。 - 特許庁