| 意味 | 例文 |
nm Cの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 796件
To provide a dispersion shift optical fiber which can have a zero-dispersion wavelength below 1400 nm and very small dispersion in the whole wavelength band of 1460 to 1625 nm covering the S-band, C-band, and L-band and is suitable to WDM transmission and an optical communication system using the same.例文帳に追加
ゼロ分散波長を1400nm以下にすることができ、S−バンド,C−バンドおよびL−バンドに亘る1460〜1625nmの全波長帯域において分散が格段に小さく、WDM伝送に適した分散シフト光ファイバおよびこれを用いた光通信システムを提供すること。 - 特許庁
Acetylene black, and at least either one of low graphitized graphite, in which a spacing d_002 of the 002 inter-planar distance of carbon lattice is 0.337 nm or larger, and its length in the direction of the C axis is 12 nm or smaller, or amorphous carbon crushed to a prescribed particle size and classified are used for the conductive material.例文帳に追加
導電材には、アセチレンブラックと、炭素結晶格子の002面間距離d_002が0.337nm以上、C軸方向の長さLcが12nm以下の黒鉛化の低い黒鉛及び所定の粒径に粉砕、分級した非晶質炭素のすくなくともいずれか一方とを用いた。 - 特許庁
The optical polyamideimide film, having a glass transition temperature of 150°C or higher, an average light transmittance, in terms of a thickness of 100 μm in a wavelength range of 400-500 nm, of 80% or higher, and a retardation of 160 nm or lower, is obtained by using e.g. an alcohol solution of polyamideimide.例文帳に追加
例えば、ポリアミドイミドのアルコール系溶液を用いることで、ガラス転移温度が150℃以上であり、波長領域400から500nmにおける100μm厚み換算平均光線透過率が80%以上、かつレタデーションが160nm以下である光学用ポリアミドイミドフイルムを得る。 - 特許庁
The glass substrate is needed to have acid resistance represented by an etching rate of at most 45 nm/min upon contact with a 0.1 wt.% hydrofluoric acid aqueous solution at 50°C for the purpose of maintaining the smoothness (an average surface roughness) Ra of the substrate smaller than 0.3 nm in alkali cleaning after acid treatment.例文帳に追加
酸処理後のアルカリ洗浄において基板の平滑性(表面平均粗さ)をRa<0.3nmに保つためには、耐酸性の指標として、基板用ガラスの温度50℃における0.1重量%フッ酸水溶液によるエッチングレートが45nm/min以下であることが必要である。 - 特許庁
The resin composition contains a resin (A) having ethylenically unsaturated groups in the molecule, a compound (B) capable of absorbing a light in the near infrared region from 650 nm to 1,000 nm, and a compound (C) represented by general formula (1) or (2), as a light resistance improver.例文帳に追加
分子内にエチレン性不飽和基を有する樹脂(A)、650nmから1000nmの近赤外領域を吸収する化合物(B)、耐光性向上剤として一般式(1)または(2)で表される化合物(C)を含有することを特徴とするエネルギー線硬化型樹脂組成物。 - 特許庁
This method for preserving the green tea beverage packed in a transparent container comprises irradiating green tea beverage colored light or white light which contains wavelength component of 495-505 nm at an irradiance of ≥2 μW/mL in cold preservation and ≥15 μW/mL in a heating condition of ≥50°C at an integrated value of radiant flux of 495-505 nm.例文帳に追加
495〜505nmの放射束の積算値で常温保存の場合2μW/mL以上、50℃以上の加温下での保存の場合15μW/mL以上の放射照度で495〜505nmの波長成分を含む有色光または白色光を緑茶飲料に照射する。 - 特許庁
The crystal grain consisting mainly of barium titanate is characterized in that the average particle diameter is ≤150 nm and the volume V per unit cell which is expressed by the product of lattice constants (a, b, c) determined by an X-ray diffraction pattern of the crystal grain, is ≤0.0643 nm^3.例文帳に追加
チタン酸バリウムを主成分とする結晶粒子の平均径が150nm以下であり、かつ前記結晶粒子のX線回折パターンから求められる格子定数(a、b、c)の積で表されるユニットセル当りの体積Vが0.0643nm^3以下であることを特徴とする。 - 特許庁
The epoxy resin composition essentially comprises (A) an epoxy resin, (B) an epoxy resin curing agent, (C) globular nanoparticles having a particle size of 1,000 nm or less, and at least one block copolymer (D) selected from the group consisting of S-B-M, B-M, and M-B-M.例文帳に追加
下記[A]〜[D]を必須とするエポキシ樹脂組成物、それを繊維基材に含浸して得られるプリプレグ、およびそのプリプレグを硬化してなる繊維強化複合材料。 - 特許庁
The oxide-film-forming method includes immersing the aluminum surface into nitric acid with the concentration of 70% under a condition of room temperature lower than 40°C for ten minutes or longer to form the aluminum oxide film with a thickness of 4 nm or more.例文帳に追加
アルミニウム表面を濃度70%の硝酸に40℃未満の室温、10分以上浸漬する条件下で、厚さ4nm以上の酸化アルミニウムの被膜を形成した。 - 特許庁
The surface of a substrate 41 is oxidized at a temperature which is 1,050°C or higher, or oxidized at an oxidizing rate which is 7.5 mm/ minute or higher so that an oxide film 43 which is 1,500 nm or larger in thickness can be formed.例文帳に追加
基板表面を1050℃以上の温度で酸化するか、又は7.5nm/分以上の酸化速度で酸化して1500nm以上の厚さの酸化膜を形成する。 - 特許庁
As a result of this, film formation liquid containing iron(II) ion, formic acid and hydrazine of pH7.0 and 75°C and ferrite particles whose particle size is equal to or less than 70 nm is supplied to the recirculation system pipe.例文帳に追加
この結果、pH7.0及び75℃の、鉄(II)イオン、ギ酸、ヒドラジン及び粒径が70nm以下のフェライト粒子を含む皮膜形成液が、再循環系配管に供給される。 - 特許庁
Next, the wafer W is irradiated with an electron beam having a charge density ≤6.7×10^-3 C/nm^2, and secondary electrons emitted by irradiation of the electron beam are detected.例文帳に追加
次いで前記ウエハWに対して電荷密度が6.7×10^-3C/nm^2以下の電子線を照射し、前記電子線の照射により放出された2次電子を検出する。 - 特許庁
The photocatalytic coating liquid includes (A) a photocatalytic material, (B) amorphous Zr-O particles, (C) matting particles having a particle diameter of 100 nm to 1 μm, and (D) a dispersion medium.例文帳に追加
(A)光触媒体と(B)非晶質Zr−O系粒子と(C)粒径が100nm〜1μmの艶消し用粒子と(D)分散媒を含む光触媒コーティング液を用いる。 - 特許庁
The method for raising seedling of flowering plants includes irradiating young seedlings after all of true leaves come out after germination with light having a peak wavelength of 400-550 nm at a low temperature of not more than 15°C for 100-600 hours.例文帳に追加
発芽後本葉が出揃った後の幼苗に、温度15℃以下の低温下で、ピーク波長400〜550nmの光を100時間以上、600時間以下の期間照射する。 - 特許庁
The peak shift of the peak top of interfering light, before and after the selective holding layer is treated at 32°C for 3 hr using a 1.5 μM avidin aqueous solution, is preferably 2 nm or below.例文帳に追加
選択的保持層を1.5μMのアビジン水溶液を用いて32℃にて3時間処理した前後における、干渉光のピークトップのピークシフトが、2nm以下である態様が好ましい。 - 特許庁
The component inside the enclosure is subjected to a reactive fluid pressure higher than 10 bars during a predetermined period and also subjected to thermal activation (T>100°C) or optical activation (λ<500 nm).例文帳に追加
容器内の構成部材は、所定の期間、10バールよりも高い反応性流体圧力を受け、かつ熱的活性化(T>100℃)または光学的活性化(λ<500ナノメートル)を受ける。 - 特許庁
A second organic EL display element color filter (c) comprises a blue pixel area 4B, the blue pixel area 4B having a light transmittance of 30% or less over 500-550 nm.例文帳に追加
第2の有機EL表示素子用カラーフィルターcは、青色画素領域4Bを備え、青色画素領域4Bの光透過率が500nm〜550にわたって30%以下である。 - 特許庁
When the applied pressure is 500 MPa, a highly-transparent alumina having a real in-line transmittance (wavelength of 645 nm) higher than 60% is obtained at a low temperature of 950-1,000°C.例文帳に追加
印加圧力が500MPaの場合、950℃〜1000℃という低温で、60%よりも高い実直線透過率(波長645nm)を持つ高度に透明なアルミナが得られた。 - 特許庁
An SiOC film deposited for the film thickness of about 200 nm while making a temperature on the surface of a substrate ≤400°C is deposited on a low dielectric constant organic film in a reducing atmosphere.例文帳に追加
低誘電率の有機膜上に、基板温度表面の温度を400℃以下にして堆積した膜厚200nm程度のSiOC膜を還元性雰囲気中で堆積する。 - 特許庁
The organic fine particle B is an organic fine particle of ≥70°C in Tg and ≤100 nm in average particle size, having a polymer containing the repeating unit given in general formula (1) of ≥5 mass%.例文帳に追加
有機微粒子B:下記一般式(1)の繰り返し単位を5質量%以上含有するポリマーを有し、Tgが70℃以上、平均粒子径が100nm以下の有機微粒子。 - 特許庁
This method comprises adding a fine silica gel powder having a mean particle diameter of 5-100 nm to a powdery or particulate normally solid aromatic compound having a melting point of 250°C or below in order to prevent its solidification.例文帳に追加
常温固体で、250℃以下の融点を有する芳香族化合物の粉末又は粒子の固結を防止するため、平均粒径が5〜100nmのシリカゲル微粉末を添加混合する。 - 特許庁
The white vaseline is hydrogenated in the presence of a group VIII metal catalyst under conditions of 170-250°C and 6-30 MPa to have ≤0.25 ultraviolet absorbance (value of 1 w/v% isooctane solution and 1 cm optical path length) at 275 nm.例文帳に追加
白色ワセリンを第VIII族金属触媒の存在下、170〜250℃、6〜30MPaの条件下で水素化して、275nmの紫外部吸光度(1w/v%イソオクタン溶液の値、光路長1cm)を0.25以下にする。 - 特許庁
With the active layer 5 includes a quantum well layer of 10 nm or less, the contact layer 9 is growth through the temperature difference LPE with a substrate temperature of 700°C or less.例文帳に追加
さらに、活性層5が厚さ10nm以下の量子井戸層を含む場合には、p型GaAsコンタクト層9を基板温度700℃以下の温度差LPE法により成長させる。 - 特許庁
The optical fiber 300 has a zero-dispersion wavelength that is not less than 1,555 nm and positioned in a wavelength range which does not exceed L-band, and has negative dispersion values in C-band and positive dispersion values in L-band.例文帳に追加
光ファイバー300は、ゼロ分散波長が1555nm以上で且つL−バンド以下の波長範囲に位置し、C−バンドで負の分散値を有し、L−バンドで正の分散値を有する。 - 特許庁
A first organic EL display element color filter (c) comprises a green pixel area 4G, the green pixel area 4G having a light transmittance of 15% or less over 600-650 nm.例文帳に追加
第1の有機EL表示素子用カラーフィルターcは、緑色画素領域4Gを備え、緑色画素領域4Gの光透過率が600〜650nmにわたって15%以下である。 - 特許庁
In the high strength steel wire having excellent ductility, the average width of planar ferrite is ≤15 nm, and also, the average C concentration in the central part of the ferrite is ≤0.2 mass%.例文帳に追加
板状のフェライトの平均幅が15nm以下であり、かつフェライト中心部の平均C濃度が0.2質量%以下であることを特徴とする延性に優れた高強度鋼線。 - 特許庁
This dielectric ceramic is obtained by firing a powder of barium titanate having an average particle diameter of 10-90 nm and a mass change rate of 0.1-0.5% at 600-900°C.例文帳に追加
平均粒子径が10〜90nmであり、600〜900℃における質量変化率が0.1〜0.5%であるチタン酸バリウム系粉末を焼成して得られる誘電体セラミックスを得る。 - 特許庁
The expressions are: (I) 20≤Re≤500; (II) 70≤Rth≤200 and (III) 1.0≤Rth/Re≤3.0, wherein Re and Rth are values at 25°C and 60% RH respectively and the unit is nm.例文帳に追加
ここに、式(I):20≦Re≦500、式(II):70≦Rth≦200、式(III):1.0≦Rth/Re≦3.0であり、Re及びRthは、25℃,60%RHにおける値であり、単位は、nmである。 - 特許庁
In the post-printing processing liquid containing at least polymer fine particles, the polymer fine particles having a glass transfer temperature of 50°C or higher and an average particle diameter of 200 nm or more are used.例文帳に追加
少なくともポリマー微粒子を含有する印刷後処理液において、該ポリマー微粒子として、ガラス転移温度50℃以上且つ平均粒子径200nm以上のものを使用する。 - 特許庁
A negative active material contains easily graphitizable carbon having a crystallite size in the direction of c axis Lc of 72.5 nm or less as a single component or the main component.例文帳に追加
負極活物質として、c軸方向の結晶子の大きさLcが72.5nm以下である易黒鉛化性炭素を単一成分または主成分として含むものを用いる。 - 特許庁
This carbon nano-tube having less than 200 nm outside diameter is obtained by using a carbon precursor resin as a raw material and holding the carbon precursor resin at 500-3,000°C for 0.5-24 hours to carbonize it.例文帳に追加
炭素前駆体樹脂を原料とし且つ500〜3000℃にて0.5〜24時間保持することにより炭素化され、外径が200nm未満であることを特徴とするカーボンナノチューブ。 - 特許庁
This transparent aqueous elastomer has the light permeability of ≥90%T measured by means of a spectrophotometer with the light of 655 nm wavelength and 10 mm optical path at 25°C.例文帳に追加
この透明水性弾性体は分光光度計により測定した透過率が温度25℃、測定波長655nm、光路10mmの条件下で90%T以上である。 - 特許庁
A polyester resin having ≥120°C glass transition temperature, ≥1.6 refractive index, ≤30 nm retardation value and a fluorene structure is used as the transparent resin substrate 21 of the optical filter.例文帳に追加
光学フィルタの透明樹脂基板21として、ガラス転位温度が120℃以上、屈折率が1.6以上、リタデーション値が30nm以下のフルオレン構造を有するポリエステル樹脂を用いる。 - 特許庁
The component (C) has 20-100 nm primary particle diameter, and is preferably aluminum-doped zinc oxide, zinc antimonate, antimony-doped tin oxide, indium-doped tin oxide, phosphorus-doped tin oxide and/or antimony oxide.例文帳に追加
(C)が、20〜100nmの一次粒径を持ち、アルミニウムドープ酸化亜鉛、アンチモン酸亜鉛、アンチモンドープ酸化錫、インジウムドープ酸化錫、リンドープ酸化錫及び/又は酸化アンチモンが好ましい。 - 特許庁
This rubber composition for mounting an engine comprises a chloroprene-based rubber, carbon black having ≥2 nm average piled height Lc in C-axis of layer plane in a crystallite and zinc powder.例文帳に追加
クロロプレン系ゴム、結晶子内の層平面のC軸方向の平均積み重なり高さLcが2nm以上のカーボンブラック及び亜鉛粉を含有するエンジンマウント用ゴム組成物。 - 特許庁
The titanium oxide coating film is formed by adhering the titanium oxide sol, volatilizing the solvent, heating at a temperature of ≥200°C and then irradiating an electromagnetic wave with a wavelength of <650 nm.例文帳に追加
この酸化チタンゾルを付着させ溶媒を揮発させた後、200℃以上での加熱焼成処理、波長650nm未満の電磁波照射処理により酸化チタン塗膜を形成する。 - 特許庁
Here, the deposition rate of the CeO_2 thin film in the deposition step is ≥30 nm/min, and the temperature of the oriented metal substrate in the deposition step is 750-1,100°C.例文帳に追加
そして、成膜工程におけるCeO_2膜の成膜速度は30nm/分以上であり、成膜工程における、配向性金属基板の温度は750℃以上1100℃以下である。 - 特許庁
The material comprises fluorinated apatite obtained by preparing a neutral aqueous solution at 30 to 100°C in which P and Ca are mixed and then F is supplied thereto, and precipitating crystals having a grain size of not more than 100 nm.例文帳に追加
PとCaを混合し、その後、Fを投下した30〜100℃の中性水溶液から粒度100nm以下の結晶として析出させたフッ化アパタイトで構成される。 - 特許庁
The conductive plastic laminate is produced by forming a transparent conductive layer on a transparent plastic substrate which is characterized in that a glass transition temperature is 260°C or higher, a light transmittance at an optical wavelength of 400 nm is 60% or more, a light transmittance is 80% or more at all optical wavelengths ranging from 450 nm to 700 nm, and a pencil hardness is H or higher.例文帳に追加
ガラス転移温度が260℃以上であり、かつ、光波長400nmにおける光線透過率が60%以上であり、かつ、450nm〜700nmにおける全ての光波長の光線透過率が80%以上であり、かつ、鉛筆硬度がH以上である透明プラスチック基板の上に透明導電層を形成し導電性プラスチック積層体とする。 - 特許庁
A film having 90 to 350 nm retardation at 550 nm wavelength is manufactured by preparing a sheet by molding a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer resin and having ≤50 nm retardation at 550 wavelength and stretching the above sheet in at least one direction by 1 to 4 times of elongation magnitude in the temperature range of Tg±50°C with respect to the glass transition temperature (Tg) of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer resin.例文帳に追加
ビニル脂環式炭化水素重合体樹脂を成形してなる、波長550nmのレターデーションが50nm以下であるシートを、該ビニル脂環式炭化水素重合体樹脂のガラス転移温度(Tg)に対してTg±50℃の温度範囲で、少なくとも一方向に1〜4倍の延伸倍率で延伸して、波長550nmにおけるレターデーションが90〜350nmのフィルムを製造する - 特許庁
The liquid preparation for the mucosal application is characterized by comprising (a) the ketotifen fumarate, (b) polyethylene glycol 4000, and (c) at least one kind of α-cyclodextrin and β-cyclodextrin, and having a pH of 5.8-7, and ≤0.03 extinction coefficient at 400 nm wavelength.例文帳に追加
(a)フマル酸ケトチフェン、(b)ポリエチレングリコール4000、並びに(c)α−シクロデキストリン及びβ−シクロデキストリンの少なくとも1種を含有し、pHが5.8〜7の範囲にあり、波長400nmにおける吸光度が0.03以下であることを特徴とする粘膜適用液剤。 - 特許庁
The adhesive composition comprises (a) a curable adhesive curable by photo-irradiation at 150-750 nm, or heating at 80-200°C, or a combination of photo-irradiation and heating, (b) electroconductive particles and (c) a compound bearing at least one benzotriazole structure in the molecule.例文帳に追加
(a)150〜750nmの光照射または80〜200℃の加熱または光照射と加熱を併用することで硬化する硬化性接着剤、(b)導電粒子、(c)ベンゾトリアゾール構造を分子中に一つ以上有する化合物とを含有する接着剤組成物。 - 特許庁
The inkjet composition contains (c) a fatty acid ester condensate obtained from a hydrocarbon and a polycarboxylic acid, wherein (b) nickel particles having an average primary particle diameter of 10-20 nm are dispersed in (a) a solvent having a boiling point of ≥190°C.例文帳に追加
(a)沸点190℃以上の溶媒に(b)平均一次粒子径が10〜20nmのニッケル粒子が分散されたインクジェット組成物であり、(c)炭化水素とポリカルボン酸から得られる脂肪酸エステル縮合体を含有することを特徴とするインクジェット用組成物である。 - 特許庁
This glass ceramic has 95×10-7 to 140×10-7/°C coefficient of thermal expansion at-20 to 70°C, preferably ≥85 GPa Young's modulus, ≥10 kg/mm2 flexural strength in a board material of 10 mm thickness, ≥60% light transmittance at 95-1,600 nm wavelength.例文帳に追加
−20〜+70℃における熱膨張係数が95×10^-7〜140×10^-7/℃であり、好ましくはヤング率が85GPa以上,曲げ強度が10kg/mm^2以上,950〜1600nmの波長の光線透過率が60%以上のガラスセラミックス。 - 特許庁
The hollow fine particles have an average particle diameter of ≥50 nm and ≤100 μm and have hollow shells having liquid-permeable fine through-holes and a water-insoluble low-boiling compound that is enclosed in the hollow shell and has a boiling point of ≥40°C and ≤100°C.例文帳に追加
中空微粒子が、平均粒径が50nm以上100μm以下で液体の通過可能な微小な貫通孔を持つ中空の殻と、この中空の殻に内包された沸点が40℃以上100℃以下で水に不溶性の低沸点化合物とを備える。 - 特許庁
The substrate for display device has a plastic film having ≥70% average light transmittance in the wavelength region of 400-700 nm and ≥100°C glass transition temperature and a gas barrier layer of a mono or multicomponent metal oxide glass formed by a sol-gel method and its retardation (Re) value at wavelength of 632.8 nm is in the range of 250-450 nm or 500-700 nm.例文帳に追加
波長400〜700nmにおける平均光透過率が70%以上、ガラス転移点が100℃以上のプラスチックフィルムと、ゾルゲル法による単一又は多成分系金属酸化物ガラスのガスバリヤ層と、を有し、波長632.8nmにおけるレターデーション(Re)の値が、250〜450nm又は500〜700nmであるか、又は波長632.8nmにおけるレターデーション(Re)の値が、250〜450nm又は500〜700nmである表示装置用基板を提供する。 - 特許庁
The capacitor is manufactured by a method wherein the deposit of a dielectric material is effected with a speed less than 0.1 nm/s, and the substrate 4 is heated at a temperature lower than 500°C in a dielectric film forming process.例文帳に追加
誘電体膜形成工程において、誘電体材料の蒸着を0.1nm/s以下の速度で行い、基板4を500℃以下の温度で加熱するコンデンサの製造方法である。 - 特許庁
A method for producing the polymer composite comprises drying absorbed water contained in the alumina particles having the major axis of 10-500 nm, so as to attain a loss on heating to 150°C from room temperature of not more than 2 wt%, and then mixing the dried alumina particles with the organic polymer, so as to form them into the composite.例文帳に追加
長径10〜500nmのアルミナ粒子に含まれる吸着水を、室温から150℃までの加熱減量として2wt%以下になるまで乾燥した後、有機ポリマーに混合してコンポジット化する。 - 特許庁
The resultant substrate glass has a property that when heat-treatment is carried out at the annealing point of glass+30°C for 10 hr, the transmittance in a wavelength region of 250-350 nm is increased compared to that before the heat treatment.例文帳に追加
得られた基板ガラスは、ガラスの徐冷点+30℃の温度で10時間熱処理すると、250nm〜350nmの波長域における透過率が熱処理前と比べて高くなる性質を有している。 - 特許庁
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