「nm C」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The color image forming method uses six color toners and a black toner having a volume-base median diameter (D50) of 3-7 μm and a storage modulus which begins to drop at 10-40°C and becomes a region of 10^3-10^4 Pa at 70-130°C, and containing particles having a primary particle diameter of 40-800 nm.例文帳に追加

体積基準のメディアン径（Ｄ５０）が３〜７μｍ、貯蔵弾性率の降下開始温度が１０〜４０℃、貯蔵弾性率が１０^3〜１０^4Ｐａの領域となる温度が７０〜１３０℃であり、１次粒径が４０〜８００ｎｍの粒子を含有する６種類の有彩色トナー及び黒色トナーを用いたカラー画像形成方法。 - 特許庁

In the case of performing a wavelength conversion by the CLBO crystal and outputting the ultraviolet radiation laser with a short wavelength of 225 nm or less, a decline in the transmittivity in the area below the above wavelength hardly occurs by setting the surface temperature of the CLBO crystal to 130°C or less, preferably to 90°C or less.例文帳に追加

その結果、ＣＬＢＯ結晶により波長変換を行い２２５ｎｍ以下の波長の短い紫外光レーザを出力する場合、ＣＬＢＯ結晶の表面温度を１３０℃以下、好ましくは９０℃以下とすれば、上記波長以下の領域における透過率の低下はほとんど生じないことが分かった。 - 特許庁

The biaxially oriented polyester film has a sea-island structure composed of at least a polyethylene naphthalate (resin A) and a resin B, wherein the average dispersion diameter of the island portion is 30 to 500 nm, and the thermal expansion coefficient (50 to 150°C) at least in one direction of the longitudinal direction and the width direction of the film is 0 to 20 ppm/°C.例文帳に追加

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、少なくともポリエチレンナフタレート（樹脂Ａ）と樹脂Ｂからなる海島構造を有し、島部分の平均分散径が３０〜５００ｎｍであり、フィルムの長手方向または幅方向の少なくとも一方向の熱膨張係数（５０〜１５０℃）が０〜２0ｐｐｍ／℃のフィルムである。 - 特許庁

To provide a new fluorescent material having excellent mechanical properties (high elastic modulus, flexibility and high toughness) and having fluorescence of ≥500 nm in addition to excellent fluorescent characteristics (strength of fluorescent intensity, long-term stability of fluorescent intensity), high heat resistance (glass transition point of ≥200°C, and decomposition initiation temperature of ≥350°C).例文帳に追加

優れた蛍光特性（蛍光強度の強さ、蛍光強度の長期安定性）と高い耐熱性（ガラス転移点：２００℃以上、熱分解開始温度：３５０℃以上）に加え、優れた機械的特性（高い弾性率、可撓性、高靱性）を有し、５００ｎｍ以上の蛍光発光を有する新規の蛍光材料を提供することにある。 - 特許庁

The semiconductor sealing resin composition has a viscosity measured at 80°C of ≤5,000 Pa s and comprises (A) an epoxy resin having at least two epoxy groups in the molecule, (B) a curing agent, and (C) silica particles having an average particle diameter dmax of 3-50 nm and a half width of ≤1.5 times the average particle diameter dmax.例文帳に追加

８０℃で測定される粘度が５０００Ｐａ・ｓ以下であり、（Ａ）１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂、（Ｂ）硬化剤、および（Ｃ）平均粒径ｄｍａｘが３〜５０ｎｍでかつ半値幅が平均粒径ｄｍａｘの１．５倍以下であるシリカ粒子を含有してなる半導体封止用樹脂組成物。 - 特許庁

A porous nanocomposite thin film characterized in that it is a porous material having an average pore diameter of 10 nm or less is obtained by forming a thin film from a composition comprising (A) a precursor of silica, (B) a heat resistant organic polymer, (C) a component that can be removed after the thin film having been formed, and a solvent, and thereafter removing the component (C).例文帳に追加

シリカ（Ａ）の前駆体、耐熱性有機ポリマー（Ｂ）、薄膜形成後に除去可能な成分（Ｃ）及び溶剤を含有する組成物から薄膜を形成し、その後前記成分（Ｃ）を除去することにより、平均孔径が１０ｎｍ以下の多孔質であることを特徴とする多孔質ナノコンポジット薄膜を得る。 - 特許庁

The photosensitive resin composition contains (A) a binder polymer, (B) an ethylenically unsaturated photopolymerizable monomer and (C) a photopolymerization initiator, wherein the maximum absorption wavelength, after irradiation of light on the photopolymerization initiator (C), shifts to a wavelength side shorter than the maximum absorption wavelength prior to exposure to light by ≥30 nm.例文帳に追加

（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）エチレン性不飽和光重合性モノマ及び（Ｃ）光重合開始剤を有する感光性樹脂組成物において、前記（Ｃ）光重合開始剤の光照射後の最大吸収波長が、光照射前の最大吸収波長よりも３０ｎｍ以上低波長側にシフトする感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The radiation image conversion panel is characterized in that the luminous intensity ratio at the peak of a luminescence wavelength of 440 nm in an ultraviolet-ray excitation wavelength of 274 nm of stimulable phosphors in a stimulable phosphor layer before heating at least one stimulable phosphor layer at 400°C, to that after heating it at the same temperature is within ±10% .例文帳に追加

放射線画像変換パネルの少なくとも１層の輝尽性蛍光体層を４００℃で加熱する前と４００℃で加熱した後の輝尽性蛍光体層中の輝尽性蛍光体の紫外線励起波長２７４ｎｍにおける発光波長４４０ｎｍのピークの強度比が±１０％以内であることを特徴とする放射線画像変換パネル。 - 特許庁

The biaxially oriented laminated polyester film comprises at least three-layered laminated constitution of A/B/C and at least the A-layer consists of polyester and polyetherimide and the surface roughness Ra of the A-layer is 0.2-10 nm and the surface roughness Ra of the layer on the side opposite to the A-layer is 1-30 nm.例文帳に追加

本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、Ａ／Ｂ／Ｃの少なくとも３層積層構成からなる二軸配向ポリエステルフィルムであって、少なくともＡ層が、ポリエステルとポリエーテルイミドからなり、Ａ層の表面粗さＲａが０．２〜１０ｎｍ、かつ、該Ａ層と反対側の層の表面粗さＲａが１〜３０ｎｍであることを特徴とするものである。 - 特許庁

The polishing composition is obtained by mixing ion-exchanged water filtered through a 0.5μm cartridge filter with a polishing material comprising colloidal silica 30 nm in mean particle size and polymethyl methacrylate(PMMA) particles 30 nm in mean size and 60° in contact angle with water at 23°C, benzotriazole, hydrogen peroxide and an organic acid, and agitating the mixture with a high-speed homogenizer to effect homogeneous dispersion.例文帳に追加

研磨材として、平均粒径３０ｎｍのコロイダルシリカ、平均粒径３０ｎｍで２３℃の水の接触角が６０度のポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）粒子、ベンゾトリアゾール、過酸化水素、有機酸を０．５μｍのカートリッジフィルターで濾過されたイオン交換水に混合し、高速ホモジナイザーで攪拌して均一に分散させて研磨用組成物を得た。 - 特許庁

The photosensitive resin composition is provided which comprises (a) a photosensitive prepolymer having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group, (b) a photopolymerizable monomer having an ethylenically unsaturated group, (c) a photopolymerization initiator and (d) a sensitizer and has such a spectral sensitivity that a ratio of a sensitivity at 365 nm to a sensitivity at 405 nm is 0.9-1.4.例文帳に追加

（ａ）カルボキシル基及びエチレン性不飽和基を有する感光性プレポリマーと、（ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性モノマーと、（ｃ）光重合開始剤と、（ｄ）増感剤と、を含有し、３６５ｎｍにおける感度の４０５ｎｍにおける感度に対する比が０．９〜１．４であるような分光感度を有する、感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The semi-cured epoxy resin includes a light transmittance of at most 1% within the wavelength region of 700 nm or shorter and a light transmittance of at least 85% within the wavelength region of 940 nm or longer, a spiral flow length of 25-80 inch and a moisture absorption of a cured resin of at most 0.45% after immersed in water at 97°C for 1 hr.例文帳に追加

半硬化エポキシ樹脂は７００ｎｍ以下の波長領域で光透過率が１％以下であり、９４０ｎｍ以上で光透過率が８５％以上であり、Ｓｐｉｒａｌ Ｆｌｏｗ Ｌｅｎｇｔｈは２５〜８０インチ、９７℃の水に浸漬して１時間経過後、硬化樹脂の吸湿量が０.４５％以下である。 - 特許庁

The slurry composition for forming PDP electrode contains (a) a 0.5 to 8 parts by mass of black pigment with 10 to 1,000 nm particle size, (b) a 0.5 to 8 part by mass of glass frit with 1 to 500 nm vitrified average particle size on calcination, and (c) a 84 to 98 parts by mass of photosensitive organic component.例文帳に追加

本発明によるＰＤＰ電極形成用スラリー組成物は、（ａ）粒子の大きさが１０〜１０００ｎｍである黒色顔料０．５〜８質量部；（ｂ）焼成時ガラス化される平均粒子の大きさが１〜５００ｎｍであるガラスフリット原料物質０．５〜８質量部；及び（ｃ）感光性有機成分８４〜９８質量部を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The optical film, whose transmittance at wavelength 380 nm is ≤10% and the transmittance at wavelength 900 nm is ≤40%, has transmittances after the elapse of 200 hrs in the environment of temperature 80°C and humidity 90%RH exhibiting variation widths ≥80% and ≤120% respectively with respect to the transmittances at the wavelengths.例文帳に追加

光学フィルムは、波長３８０ｎｍでの透過率が１０％以下、波長９００ｎｍでの透過率が４０％以下である光学フィルムを、温度８０℃、湿度９０％ＲＨの環境下にて２００時間経過した後の透過率が、前記波長での透過率に対して、その変動幅がそれぞれ８０％以上１２０％以下である。 - 特許庁

The curable composition includes: silicon oxides (A) with an average primary particle size of 5-100 nm; metal oxides (B) (excluding silicon oxides) with an average primary particle size of 5-100 nm; an amino-containing photo-curable compound (C) prepared by reacting primary or secondary amine with an acrylate or methacrylate compound; and an organosilicon compound (D).例文帳に追加

平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの酸化ケイ素（Ａ）と、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの金属酸化物（Ｂ）（酸化ケイ素を除く）と、アクリレート化合物またはメタクリレート化合物に第一級アミンまたは第二級アミンを反応させてなるアミノ基含有光硬化性化合物（Ｃ）と、有機ケイ素化合物（Ｄ）とを含む硬化性組成物。 - 特許庁

Laser beam at 499 nm wavelength is made to enter the wavelength converting device and converted into beam of continuous waves at 244 nm wavelength by determining the relation between the direction of the crystal axis and the incident direction of the laser beam so as not to cause the beam wake-off of the laser beam propagating the wavelength converting device and by keeping the wavelength converting device to the range of 13.5±10°C.例文帳に追加

波長変換素子の中を伝搬するレーザ光がビームウオークオフを生じないようにその結晶軸の向きとレーザ光の入射方向の関係を定め、波長変換素子を１３．５±１０℃の温度範囲に維持し、波長が４８８ｎｍのレーザ光を波長変換素子に入射して連続波の２４４ｎｍの光に波長変換する。 - 特許庁

The white film 100 includes: a layer (A) 20 including a thermoplastic resin; and a layer (B) 30 including silicone resin including inorganic filler, wherein the average reflecting ratio in wavelength of 400-800 nm is 70% or more and the reducing rate of the reflecting ratio in wavelength of 470 nm after heating at 200°C for 4 hours is 10% or less.例文帳に追加

熱可塑性樹脂を含有してなる層（Ａ）２０及びシリコーン樹脂に無機充填材を含有してなる層（Ｂ）３０を備えてなり、波長４００〜８００ｎｍにおける平均反射率が７０％以上であり、かつ２００℃で４時間熱処理した後の波長４７０ｎｍにおける反射率の低下率が１０％以下である白色フィルム１００。 - 特許庁

In the dielectric ceramic, (a) a rectangular void type crystal defect exists in a dielectric particle, (b) the maximum diameter of the rectangular void type crystal defect is ≤3 nm, (c) the proportion occupied by dielectric particle having a perovskite type crystal structure of ABO_3 is ≥99 mass% and (d) the average particle diameter is ≤200 nm.例文帳に追加

（ａ）誘電体粒子内に四角空隙型の結晶欠陥を有するとともに、（ｂ）該四角空隙型の結晶欠陥の最大径が３ｎｍ以下であり、（ｃ）ＡＢＯ_３のペロブスカイト型結晶構造を有する誘電体粒子の占める割合が９９質量％以上であり、（ｄ）平均粒径が２００ｎｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing apparatus which is characterized in that one wavelength in exposure is 140 to 310 nm and the other is 360 to 440 nm and different and is for manufacturing different kinds of resist liquids containing the mutually different solvent components is equipped with a manufacture line PL formed by connecting the following (a) to (c) and a reverse washing line RL comprising the following (d) to (e).例文帳に追加

露光時の波長が一方は１４０〜３１０ｎｍの範囲、他方が３６０〜４４０ｎｍの範囲である点で異なり、且つ溶剤成分が互いに異なるレジスト液を製造するための装置であって、下記のａ）〜ｃ）をこの順に接続した製造ラインＰＬと下記のｄ）〜ｅ）からなる逆洗浄ラインＲＬとを備えた製造装置。 - 特許庁

This is because of the following reasons: In an ultraviolet region with a wavelength of 400 nm or less, the difference in reflectivity between a white ground and printed portions of the C, M, and Y colors becomes large, and concentration difference occurs among a plurality of patterns included in the test pattern.例文帳に追加

これは、波長４００ｎｍ以下の紫外域では、ＣＭＹ各色において白下地と印字部分との反射率差が大きくなり、テストパターンに含まれる複数のパターン間で濃度差が発生するためである。 - 特許庁

The ink-jet ink includes colored particles having 10-100 nm average particle size obtained by physically bonding pigments on the surface of silica particles by a mechanochemical method, a solvent having high boiling temperature and a dispersant, and the ink has 1.5-35 mPa.s of viscosity at 25°C.例文帳に追加

シリカ粒子表面にメカノケミカル法により顔料を物理的に結合させた平均粒径10〜100nm の着色粒子、高沸点溶剤および分散剤を含み、２５℃での粘度が1.5〜35mPa・sであることを特徴とするインクジェットインキ。 - 特許庁

The Shore hardness (ASTM D 2240) is 2-80 at 10-40±3°C, the width or diameter of the convex or concave structure is from 100 nm to 5,000 μm and the aspect ratio of the convex or concave structure is 0.2-10.0.例文帳に追加

温度１０℃〜４０℃±３におけるショア硬度（ＡＳＴＭ Ｄ ２２４０）が、２〜８０の範囲であり、凸、又は凹構造の幅または直径が１００ｎｍ〜５０００μｍであり、前記凸、又は凹のアスペクト比が０．２〜１０．０の範囲である。 - 特許庁

In a second step, the thin film 10A comprising the amorphous oxide semiconductor is put into an electric furnace and is sintered at such a temperature range of 660 to 840°C that the thin film is polycrystallized while maintaining a surface roughness Ra of ≤1.5 nm.例文帳に追加

第２工程として、非晶質酸化物半導体からなる薄膜１０Ａを、電気炉へ投入し、その表面粗さＲａ値を１．５ｎｍ以下として維持しつつ多結晶化する温度領域６６０℃〜８４０℃で焼成する。 - 特許庁

The glass film has a thickness of 0.0001 to 0.3 mm, has a thermal expansion coefficient of 50×10^-7/°C or less and has a spectral transmittance, in thickness of 0.1 mm at 355 nm, of 85% or less.例文帳に追加

本発明のガラスフィルムは、厚み０．０００１〜０．３ｍｍのガラスフィルムであって、熱膨張係数が５０×１０^−７／℃以下であり、且つ３５５ｎｍにおける厚み０．１ｍｍの分光透過率が８５％以下であることを特徴とする。 - 特許庁

In this waveguide grating element composed of a quartz-based glass material, a member 10 consisting of a material whose linear expansion coefficient is larger than 15×10-6 nm/°C is joined to the rear face of a quartz base-plate 1 on which a grating 9 is formed.例文帳に追加

石英系ガラス材料からなる導波路グレーティング素子において、グレーティング９が形成された石英ガラス基板１の裏面側に、線膨張係数が１５×１０^-6nm／℃より大きい材質からなる部材１０が接合されている。 - 特許庁

The ink composition contains a dispersion obtained by making a pigment dispersible into water and having an average particle diameter of 50-300 nm, and polymer fine particles having a glass transition temperature of -10°C or lower, and an acid value of 100 mgKOH/g or less.例文帳に追加

顔料を水に分散可能とした平均粒径が５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の分散体と、ガラス転位温度が−１０℃以下であり、且つ酸価が１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である高分子微粒子とを含むインク組成物。 - 特許庁

The modified sulfur-containing material of the invention is characterised in that it contains a modified sulfur, an aggregate and a porous material, and the porous raw material has heat resistance even at a temperature of 150°C or higher and an average pore diameter of 0.4 nm or larger.例文帳に追加

本発明の変性硫黄含有材料は、変性硫黄、骨材及び多孔質材料を含み、該多孔質材料が、１５０℃以上の耐熱性を有し、且つ平均細孔直径が０．４ｎｍ以上であることを特徴とする。 - 特許庁

The resin composition for an optical material has a refractive index nD at 589 nm wavelength of ≥1.37, an Abbe's number νD satisfying νD≥63 and νD≥430-250×nD, and a glass transition temperature of ≥100°C.例文帳に追加

波長５８９ｎｍにおける屈折率ｎＤが１．３７以上であり、アッベ数νＤがνＤ≧６３およびνＤ≧４３０−２５０×ｎＤを満たし、ガラス転移温度が１００℃以上である光学材料用樹脂組成物。 - 特許庁

The polyester film for the release film of the polarizing plate has a surface roughness (Ra) of the film of 18-33 nm, an image clarity value of ≥89%, and a haze of the film of ≤8% after heat treatment at 180°C for 5 min.例文帳に追加

フィルムの表面粗さ（Ｒａ）が１８〜３３ｎｍであり、写像性値が８９％以上であり、１８０℃で５分間熱処理後のフィルムのヘーズが８％以下であることを特徴とする偏光板離型フィルム用ポリエステルフィルム。 - 特許庁

This catalyst is capable of absorbing oxygen and is produced by dispersedly depositing a particle capable of absorbing oxygen on a support, and has 10 nm or smaller particle diameter of the particle after heated at 900°C.例文帳に追加

酸素吸蔵能のある粒子を担体上に分散させて担持させた酸素吸蔵能のある触媒であって、９００℃に加熱した後の前記粒子の粒径が１０ｎｍ以下であることを特徴とする酸素吸蔵能のある触媒。 - 特許庁

In the gas barrier film, an inorganic amorphous film with a softening temperature of 150-800°C is formed on at least one side of a film substrate, and a minimum transmission coefficient in a wavelength range of 400-700 nm is 70% or more.例文帳に追加

フィルム基体の少なくとも片面に、軟化温度が１５０〜８００℃である無機質非結晶質膜を形成されてなり、かつ４００〜７００ｎｍの波長域における最低透過率が７０％以上であるガスバリア性フィルム。 - 特許庁

Then, after the base is dried at room temperatures for one hour, the base is baked at 200°C for 30 minutes, whereby a water-repellent thin film 8 of a thickness of 10-1000 nm including molecules with fluoloalkyl chains bound to the silicon oxide is formed.例文帳に追加

その後、当該基材を室温で１時間乾燥させた後、２００℃の温度で３０分間焼成し、珪素酸化物にフルオロアルキル鎖が結合した分子を含む厚さ１０ｎｍ〜１０００ｎｍの撥水性薄膜８を形成する。 - 特許庁

In removing the defective layer 15, a fluorine element containing gas and oxygen gas are ionized at a substrate temperature of 200°C or less, and the inner surface 14a of the trench 14 is etched at about 5 nm by an isotropic etching by a generated radical.例文帳に追加

欠陥層１５の除去は、２００℃以下の基板温度でフッ素元素含有ガスおよび酸素ガスを電離させて発生したラジカルによる等方性エッチングにより溝１４の内表面１４ａを５ｎｍ程度エッチングする。 - 特許庁

The silica porous film having fine pore diameters of 10 to 40 nm is obtained by coating a mixed liquid composed of a polysilazane, a resin such as an acrylic resin and a solvent such as xylene on a ceramic substrate and then subjecting the coated substrate to heat treatment at a temperature of ≤450°C.例文帳に追加

セラミック基板上にポリシラザン、アクリルなどの樹脂及びキシレン等を溶媒とする混合液を塗布し、４５０℃以下の熱処理をすることにより、１０〜４０ｎｍの大きさの細孔径を有するシリカ多孔膜を作る。 - 特許庁

Especially, the optical waveguide is provided by using a polyimide having (a) ≤1 dB/cm transmission loss, (b) ≥1.55 refractive indices of both in TE mode and TM mode and (c) ≤0.02 birefringence index, at 830 nm wavelength as the core material.例文帳に追加

特に波長８３０ｎｍにおける（ａ）伝送損失が１ｄＢ／ｃｍ以下、（ｂ）屈折率がＴＥモード、ＴＭモードともに１．５５以上、（ｃ）複屈折率が０．０２以下であるポリイミドをコア材料に用いた光導波路。 - 特許庁

The bleaching agent composition includes: a nano-cellulose fiber (a) having an average fiber diameter of 1 to 1,000 nm; at least one kind compound (b) selected from among hydrogen peroxide and compounds releasing hydrogen peroxide in water; and a surfactant (c).例文帳に追加

（ａ）平均繊維径１〜１，０００ｎｍのナノセルロースファイバー、（ｂ）過酸化水素及び水中で過酸化水素を放出する化合物から選ばれる１種以上の化合物、並びに（ｃ）界面活性剤を含有する漂白剤組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) an alkali- soluble resin in which part of all phenolic hydroxyl groups have been protected with acid dissociable groups, (B) a quinonediazido-ester compound and (C) a compound which generates an acid under light of 365 nm wavelength.例文帳に追加

（Ａ）全フェノール性水酸基の一部が酸解離性基で保護されているアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）キノンジアジドエステル化物、および（Ｃ）３６５ｎｍの波長の光に対して酸を発生する化合物を含有してなるポジ型ホトレジスト組成物。 - 特許庁

The negative type image recording material capable of recording by irradiation with IR contains (A) an IR absorbent having the absorption maximum in the wavelength range of 900-1,200 nm, (B) a radical generating agent and (C) a radical polymerizable compound.例文帳に追加

赤外線の照射により記録可能であり、（Ａ）吸収極大波長が９００〜１２００ｎｍの範囲にある赤外線吸収剤と、（Ｂ）ラジカル発生剤と、（Ｃ）ラジカル重合性化合物とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

This composition for the optical semiconductor encapsulation contains (A) an alicyclic epoxy compound, (B) a carboxylic acid anhydride-based curing agent, (C) a curing promotor and (D) an inorganic oxide particle with a primary average particle size of ≤100 nm.例文帳に追加

（Ａ）脂環式エポキシ化合物、（Ｂ）カルボン酸無水物系硬化剤、（Ｃ）硬化促進剤および（Ｄ）一次平均粒径が１００ｎｍ以下の無機酸化物粒子を含有することを特徴とする光半導体封止用組成物。 - 特許庁

The composition for abrasive comprises (A) a grinding agent comprising an organic polymer with 5-500 nm of average particle size, (B) benzotriazole or its derivative, (C) an organic acid, (D) hydrogen peroxide, (E) polyvinyl alcohol and (F) water.例文帳に追加

（Ａ）研磨材、（Ｂ）ベンゾトリアゾールまたはその誘導体、（Ｃ）有機酸、（Ｄ）過酸化水素、（Ｅ）ポリビニルアルコール及び（Ｆ）水からなり、研磨材が、平均粒径５〜５００ｎｍの範囲にある有機高分子化合物からなる研磨用組成物である。 - 特許庁

This active energy ray curing composition contains a compound (A) containing at least a -CF_2- unit and a (meth)acryloyl group in a molecule, a silica sol (B) having a particle diameter of not larger than 60 nm, and a polymerization initiator (C).例文帳に追加

活性エネルギー線硬化性組成物は、以下の成分（Ａ）〜（Ｃ）： （Ａ）１分子中に１つ以上の−ＣＦ_2−ユニット及び（メタ）アクリロイル基を有するフッ素含有化合物； （Ｂ）粒径６０ｎｍ以下のシリカゾル； 及び （Ｃ）重合開始剤を含む。 - 特許庁

By simultaneously performing annealing using a carbon dioxide laser and the irradiation of ultraviolet light to the amorphous silicon film 104, a crystallized silicon film can be obtained whose ratio of crystallization is 90% or higher and a surface concavo-convex difference is 10 nm or smaller (Fig. 1(c)).例文帳に追加

この非晶質Ｓｉ膜１０４に炭酸ガスレーザーによるアニールと同時にＵＶ光を照射することで結晶化率が９０％以上、表面の凹凸差が１０ｎｍ以下の結晶化Ｓｉ膜が得られる（図１の（ｃ)）。 - 特許庁

A user possesses a portable telephone K having a key panel, a liquid crystal display, a means for performing a communication with a content server S through a portable telephone network Nm and a means for transmitting an IrDA signal (request signal) toward a karaoke play terminal C.例文帳に追加

キーパネル１５、液晶ディスプレイ１７、携帯電話網Ｎｍを介して目次サーバＳと通信する手段、カラオケ演奏端末Ｃに向けてＩｒＤＡ信号を送出する手段を備えた携帯電話機Ｋを利用者が所持する。 - 特許庁

The optical sheet is obtained by laminating at least one or more organic coat layers (c) onto at least one surface of a sheet (A) consisting of a transparent resin (a) and a glass fiber fabric (b) so as to have surface unevenness less than 150 nm of the at least one surface of it.例文帳に追加

透明樹脂(ａ)及びガラス繊維布(ｂ)からなるシート（Ａ）上の少なくとも片面に、１層以上の有機コート層（ｃ）を積層し、少なくとも片面の表面凹凸が１５０ｎｍ以下である光学シート。 - 特許庁

By setting the ratio of the liquid to the gas in this second gas-liquid contact column 2 at 0.6-1.2 L/Nm^3 and the inlet temperature therein at 25-40°C, the absorption reaction for hydrogen sulfide and hydrogen cyanide is allowed to proceed in the second gas-liquid contact column 2 as well.例文帳に追加

この第２気液接触塔２における液／ガス比を０．６〜１．２Ｌ／Ｎｍ^３、入口ガス温度を２５〜４０℃とすることにより、第２気液接触塔２においても硫化水素とシアン化水素との吸収反応を進行させる。 - 特許庁