「optical simulation」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The movement simulation of the target is controlled in a region of the optical signal as a carrier in a process for optically carrying the radio wave signal for simulating the target to the antenna element.例文帳に追加

つまり、ターゲットを模擬する電波信号をアンテナ素子まで光信号で搬送する過程で、その搬送波となる光信号の領域にてターゲットの移動模擬を制御する。 - 特許庁

If the AV data recorded on the optical disk 32 cannot be reproduced in real time, a compile simulation unit 15 and a compile execution unit 17 select predefined AV data from AV data recorded on the optical disk 32, and relocates the selected AV data in a free area in the optical disk 32.例文帳に追加

そして、光ディスク３２に記録されたAVデータをリアルタイムで再生することができないとき、コンパイルシミュレーション部１５およびコンパイル実行部１７は、光ディスク３２に記録されたAVデータの中から、所定のAVデータを選択し、その選択したAVデータを、光ディスク３２上の空き領域に再配置する。 - 特許庁

Consequently, compared with a case of performing predicting calculation of irradiation fluctuation of image forming performance of the optical system using a predictive calculation formula fixed based on a simulation result etc. carried out concerning a reference pattern like a conventional case, the adjustment data of optical characteristic of the optical system can be calculated more precisely, so that the optical characteristic of the optical system can be adjusted precisely.例文帳に追加

従って、従来のように基準パターンについて行ったシミュレーション結果等に基づいて定められた予測演算式を用いて光学系の結像性能の照射変動の予測演算を行う場合に比べて、より精度の高い光学系の光学特性の調整データの算出、ひいては、光学系の光学特性の高精度な調整が可能になる。 - 特許庁

To provide a jaw oral cavity model using an optical molding technique capable of being used as drafting support simulation of a jaw deformity operation plan in a person whose teeth are covered with metal crowns.例文帳に追加

歯に金属冠を被せた人も顎変形症手術計画の立案支援シミュレーションとして使用できる光造形技術を用いた顎口腔モデルを提供すること。 - 特許庁

A relationship between the optical face tangle error and the tangle error portion comatic aberration of a test lens 1, and a relationship between the surface displacement and the displacement portion comatic aberration of the test lens 1 are determined by computer simulation.例文帳に追加

被検レンズ１の面倒れと面倒れ分コマ収差との関係、および被検レンズ１の面ずれと面ずれ分コマ収差との関係を、コンピュータシミュレーションにより求める。 - 特許庁

An exposure condition is calculated by performing simulation on the basis of an optical image which is observed by using a computer 6 for data processing and parameters describing features of resist like a γ curve.例文帳に追加

データ処理用コンピュータ６を用いて観測された光学像とγ曲線等のレジストの性質を記述するパラメータとに基づいたシミュレーションを行って露光条件を算出する。 - 特許庁

In the method of simulation for designing the aperture of the exposure device containing a light source, a group of optical lenses, the photomask and aperture, the layout information of the photomask is first inputted.例文帳に追加

光源、光学レンズ群、フォトマスク及びアパーチュアを含む露光装置のアパーチュアを設計するためのシミュレーション方法であって、まず、前記フォトマスクのレイアウト情報を入力される。 - 特許庁

The hair optical phenomenon simulation kit for simulating the optical phenomenon occurring in irradiating light on the hair includes one or more columnar hair models formed of either one of light transmissive resin, liquid, gel or glass with a refractive index 1.3-2.7.例文帳に追加

毛髪に対して光を照射した際に生じる光学現象をシミュレートするための毛髪光学現象シミュレーションキットは、屈折率１．３〜２．７の光透過性樹脂、液体、ゲル、またはガラスのいずれかからなる１以上の柱状毛髪モデルを含む。 - 特許庁

To provide an optical component measurement method and an optical component measurement apparatus, for accurately obtaining a measurement result, by accurately calculating the influence to the spectrum of detection light by the concentration of a constituent to be measured by a statistical probability simulation.例文帳に追加

確率統計的なシミュレーションにより測定対象成分の濃度による検出光のスペクトルへの影響を正確に計算することができ、正確な測定結果を得ることのできる光学的成分測定方法および装置を提供する。 - 特許庁

As a result, since the system can evaluate the optical recording medium and/or the drive by simulation without using an actual optical recording medium and/or an actual drive, it becomes possible to reduce sharply a developing time and developing cost.例文帳に追加

これにより、実際の光記録媒体及び／又はドライブを用いることなく、シミュレーションによってこれら光記録媒体及び／又はそのドライブの評価を行うことができるので、開発時間及び開発コストを大幅に削減することが可能となる。 - 特許庁

To provide an ocular optical property measuring apparatus capable of operating the simulation image of an eye to be tested as an accurate image taking the aberration of axial asymmetry into consideration, even though the ocular optical property of the eye to be tested has the aberration component of the axial asymmetry.例文帳に追加

被検眼の眼光学特性が軸非対称の収差成分を有していても、そのシミュレーション画像はその軸非対称の収差をも考慮した正確な画像として演算できる眼光学特性測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a system and a method for analyzing layout patterns via simulation using a lithography model to characterize the patterns and generate rules to be used in rule-based optical proximity correction (OPC).例文帳に追加

パターンを特徴付け、ルールベース光学近接効果補正（ＯＰＣ）に用いるルールを生成するために、リソグラフィ・モデルを用いたシミュレーションによってレイアウト・パターンを分析するシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁

A sample point displacement calculation unit 103 finds a sample point displacement 107 for maximizing light condensing rate through optical simulation by a light beam tracking method among sample points of the CRA characteristic values 101 obtained by the CRA sample point acquisition unit 102.例文帳に追加

１０３は、１０２が取得したＣＲＡ特性値１０１の各サンプル点について、光線追跡法などによる光学シミュレーションによって、集光率が最大となるサンプル点ずらし量１０７を求める。 - 特許庁

To provide a stimulation input unit for keeping a simulation flow in one direction by adjusting a stimulation amount in response to the request or excitement degree of a disabled person (child) when inputting a touch stimulation and an optical stimulation to the person.例文帳に追加

障害（児）者に、触覚刺激、光刺激を入力するとき、当人の要求や興奮度に応じて刺激量を調整でき、刺激の流れを一方向に保つことが可能な、刺激入力器を提供する。 - 特許庁

The dimensional variation of the mask pattern by a bias amount of the mask pattern and the dimensional variation of the resist pattern are calculated on a computer by an expansion processing of the pattern or an optical intensity simulation so that the generation of the MEF is confirmed.例文帳に追加

マスクパターンのバイアス量によるマスクパターンの寸法変動およびレジストパターンの寸法変動をパターンの拡大処理、或いは光強度シミュレーションにより計算機上で算出しＭＥＦの発生を確認する。 - 特許庁

A light intensity pattern is formed by optical simulation using the pattern data (S13), and a model for specifying the quantity of corrections correlated with the difference in size between the light intensity pattern and the test pattern is developed (S14, S15).例文帳に追加

パターンデータを用いた光学シミュレーションにより光強度パターンを形成し（Ｓ１３）、テストパターンに対する光強度パターンの寸法相違に相関する補正量を規定するモデルを生成する（Ｓ１４，Ｓ１５）。 - 特許庁

In the method, a simulation press molding is carried out using a glass base material (simulation glass base material) worked into a nearly the same shape and composed of a glass different from the regular glass base material under a condition equal to the press molding condition before the regular glass base material is press molded to obtain the desired optical element and after that the regular glass base material is molded.例文帳に追加

所望の光学素子を得るためのガラス素材（本ガラス素材）の押圧成形に先立ち、本ガラス素材とほぼ等しい形状に加工され、本ガラス素材とは異なるガラスからなるガラス素材（模擬ガラス素材）を用いて本ガラス素材の押圧成形と等しい成形条件にて模擬押圧成形を行い、その後、本ガラス素材の押圧成形を行う。 - 特許庁

To provide a working simulation system of a grinding device and its simulation method for grinding a work such as a glass of optical components or a semiconductor silicon wafer with the super-precision, wherein an optimum working condition of the work does not depend on a skilled level of an operator and the number of works to be ground is reduced to easily obtain in a short time.例文帳に追加

本発明は、光学部品のガラスや半導体シリコンウエハのようなワークを超精密に研削加工する研削装置の加工シミュレーションシステム及びそのシミュレーション方法に関し、ワークの最適な加工条件を作業者の熟練度に依存することなく、研削加工するワークの枚数を低減して、短時間で容易に求めることを目的とする。 - 特許庁

This device is configured such that when a defect is detected in an optical disk, a signal input to a pickup drive part is a difference signal between the output signal of a pickup simulation circuit equivalent to a tracking error signal before the defect is detected and the output signal of the pickup simulation circuit during defect detection.例文帳に追加

本実施形態に記載のサーボ制御装置は、光ディスクにおいて欠陥が検出された場合に、ピックアップドライブ部に入力される信号が、欠陥が検出される前のトラッキングエラー信号に相当するピックアップ摸擬回路の出力信号と、欠陥検出中におけるピックアップ模擬回路の出力信号の差分信号となるような構成を有することとした。 - 特許庁

The simulation of a releasing amount in addition to a design value is performed during the manufacture of a specular piece, shape data practically manufactured based on reference data on an analogous optical element are carried out, and processing is done based on this value.例文帳に追加

そのために、本発明では、鏡面駒作成時には設計値に加え離型量のシュミレーションや、類似の光学素子の参照データを基に実際に製作する形状データを作成し、この値に基づいて加工する構成をとる。 - 特許庁

By optimizing the optical film thickness of each layer within a prescribed range, the reflectance by a simulation is made to 0.1% or less, and the reflectance in real characteristics including a manufacturing error is made to 0.2% or less in the whole visible region.例文帳に追加

各層の光学的膜厚を所定の範囲内で最適化することで、可視域全域においてシミュレーションによる反射率０．１％以下、製造誤差を含む実特性における反射率０．２％以下を達成できる。 - 特許庁

An optical reflection plate simulation part 122 has a configuration wherein a specular reflection component and a diffuse reflection component are separated and simulated, and has a specular/diffuse reflection component calculation means 122a for calculating each reflection component.例文帳に追加

光反射板模擬部１２２では、鏡面反射成分と拡散反射成分とを分離して模擬する構成としており、それぞれの反射成分を算出するための鏡面／拡散反射成分算出手段１２２ａを備えている。 - 特許庁

A phase shift mask is inspected by a mask inspecting apparatus and the size relating to the detected phase defect is measured by using this inspecting apparatus or a measuring instrument for defect review and further the phase and transmittance are calculated by using an optical simulation.例文帳に追加

位相シフトマスクをマスク検査装置を用いて検査し、検出した位相欠陥についてこの検査装置もしくは欠陥レビュー用測定装置を用いてサイズを測定し、さらに光学シミュレーションを用いて、位相、透過率を算出する。 - 特許庁

When the player moves the ball 1, an optical encoder detects the movement of the ball to simulate the movement of the simulation ball displayed on the picture of a display like a true one based on this movement parameter.例文帳に追加

プレーヤが入力ボール１を動かすと、光学式エンコーダ２１によって、入力ボール１の動きを検出し、この運動パラメータに基づいて、表示装置３１の画面に表示されたシミュレーションボールの動きを本物らしくシミュレートする。 - 特許庁

The wavefront aberration is obtained by simulation on the basis of the Zernike polynomials of surface shapes of first faces of the lenses, the parallel plane plate, and the glass plate, and a rotation angle of each optical element which minimizes the wavefront aberration is obtained.例文帳に追加

このようにして求まった、各レンズや平行平板、ガラスの第１面の面形状のZernike多項式を基に、波面収差をシミュレーションによって求め、この波面収差を最小にする各光学素子の回転角を求める。 - 特許庁

The amount ΔMD of change of the detected values of the relative positions due to a coma is found from the difference between the relative positions MD1 and the relative positions MD2 and the coma of the imaging optical system is found from the relation between the amount ΔMD of change of the detected values of the relative positions previously found by a simulation and the amount of the coma of the imaging optical system.例文帳に追加

相対位置ＭＤ１と相対位置ＭＤ２との差からコマ収差による相対位置の検出値の変化量ΔＭＤを求め、シミュレーションにより予め求めておいた相対位置の変化量ΔＭＤと結像光学系のコマ収差量との関係から、その結像光学系のコマ収差を求める。 - 特許庁

To provide an OPC(optical proximity correction) mask producing method by which the dispersion of line width of a pattern practically formed on a wafer is suppressed by performing simulation faithfully reflecting the influence of space dependency, an OPC mask and a chip.例文帳に追加

スペース依存性の影響を忠実に反映したシュミレーションを行なうことにより、実際にウェハ上に形成されるパターンの線幅のばらつきを抑制することができるＯＰＣマスクの製作方法およびＯＰＣマスクならびにチップを提供する。 - 特許庁

A first correction component (an amount of OPC correction) of the optical proximity effect is determined from an amount of deviation ΔP from the ideal (design) pattern of the prediction pattern and the amount of the correction is calculated by adding a second correction component (ΔF/MEEF) meeting the simulation error to the first correction component.例文帳に追加

予測パターンの理想（設計）パターンからのずれ量ΔＰから光近接効果の第１補正成分（ＯＰＣ補正量）を求め、当該第１補正成分にシミュレーション誤差に応じた第２補正成分（ΔＦ／ＭＥＥＦ）を付加して補正量を算出する。 - 特許庁

The simulation method includes step S2 of applying bias processing to a mask pattern to be simulated with reference to a reference table wherein relations between pattern sizes and pattern bias amounts are regulated and step S3 of obtaining an optical image of the mask pattern subjected to the bias processing.例文帳に追加

リソグラフィシミュレーションの対象となるマスクパターンに対して、パターン寸法とパターンバイアス量との関係が規定された参照テーブルを参照してバイアス処理を施す工程Ｓ２と、バイアス処理が施されたマスクパターンの光学像を求める工程Ｓ３とを備える。 - 特許庁

To provide a polymer gel composition and a method of manufacturing the composition having such durability of simulation response that suppresses decrease in the responsiveness to stimulation even when the composition is used for a long time, and to provide an optical element which uses the above polymer gel composition.例文帳に追加

長期間使用しても刺激に対する応答性が低下することを抑制するような、刺激応答の耐久性を有する高分子ゲル組成物及びその製造方法、並びに、前記高分子ゲル組成物を用いた光学素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method and device for inspecting a mask pattern dimension capable of matching a lithography simulation result and a wafer exposure result at the same degree as a case using pattern contour data directly acquired by an optical method without receiving influence of sidewall shape of a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンの側壁形状の影響を受けずに、リソグラフィシミュレーション結果とウエハ露光結果を直接に光学的手法により取得されたパターン輪郭データを用いる場合と同程度に一致させることができる、マスクパターン寸法検査方法およびマスクパターン寸法検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a laser current meter type portable tube instantaneous flow meter in a sandwich structure for easily mounting an optical system for laser current meters for measuring tube center velocity by the laser current meter, obtaining a sectional flow rate from simulation calculation, and obtaining an instantaneous value in real time without disturbing the flow without any contact compactly on piping.例文帳に追加

レーザー流速計で管中心速度を測定し、シミュレーション計算から断面流量を求め、非接触で流れを乱さずに、瞬間値がリアルタイムに得られるレーザー流速計用光学系を、小型で、配管上に容易に取り付けられるようにした挟み込み構造のレーザー流速計式ポータブル型管内瞬間流量計を提供する。 - 特許庁

After a processing objective pattern MP1 is subjected to rule-based correction so as to obtain an etching pattern EP corresponding to the processing objective pattern MP1 by referring an etching pattern EP, the rule-base corrected processing objective pattern MP3 is subjected to simulation-based correction to generate an optical proximity effect corrected mask pattern MP4 by considering the etching process.例文帳に追加

エッチングパターンＥＰを参照し、処理対象パターンＭＰ１に対応したエッチングパターンＥＰが得られるように、処理対象パターンＭＰ１をルールべースで補正した後、ルールべースで補正された処理対象パターンＭＰ３をシミュレーションベースで補正することにより、エッチングプロセスを考慮して光近接効果補正されたマスクパターンＭＰ４を生成する。 - 特許庁

The improvement in effective aperture efficiency by an increase in quantity of light transmitting through a pixel aperture portion by effectively converging illumination light incident on a region other than the pixel aperture portion by a lens, is taken into consideration and its effect is evaluated through a simulation analysis to obtain an effective optical constant, based upon which a flat lens array is fabricated.例文帳に追加

画素開口部以外の領域に入射する照明光を、レンズによって開口部に有効に集光させて開口部を透過する光量を増加させ実効的な開口効率を上げることを考え、この効果をシミュレーション解析により評価し有効な光学定数を求め、それに基づく平板レンズアレイを製作する。 - 特許庁

Further, while reducing the photomask verification time by reducing the number of times of executing the optical intensity simulation, those having no effect on the manufacture of a semiconductor or on the operation or the characteristics of a semiconductor element are excluded from the photomask verification result so that only the fatal defect is detected, thereby reducing the time and the number of processes related to the correction of layout pattern CAD data.例文帳に追加

加えて、光強度シミュレーションの実施回数を削減することにより、フォトマスク検証時間の削減を図りつつ、さらに半導体製造上、あるいは半導体素子の動作、特性に影響を与えないものをフォトマスク検証結果から除外し致命的な欠陥のみを検出し、レイアウトパターンＣＡＤデータの修正に関わる時間、工数を削減する。 - 特許庁

To provide a wave motion graph display controller and a storage medium, which can execute simulation display corresponding to various phenomena of wave motions, can be easily used for learning the interference of wave, the property of wave or graph of wave and can sensitively experience the character of sonic wave or optical wave by providing a function for wave motion function operation and graph display suitable for learning the wave motion.例文帳に追加

本発明の課題は、波動を学習するのに好適な波動関数の演算、及びグラフ表示機能を提供するため、（１）波動の各種現象に応じたシミュレーション表示を実行し、（２）波の干渉、波の性質、または波のグラフについての学習に使用しやすく、（３）音波や光波の性質について感覚的に体験することが可能な、波動グラフ表示制御装置、及び記憶媒体を提供することである。 - 特許庁

The method and device integrates between theory, characterization methodology and integrated production methodologies that allow for the control of fabrication and the generation of structures that has not been fabricated or whose fabrication cannot be controlled before the realization of such integrated and interconnected methodologies of simulation, production and characterization that has not been applied to guide the fabrication techniques of micro and/or nano optical components before the inventive step.例文帳に追加

本方法及び装置は、理論と特性決定方法と統合された生成方法とを統合し、このことにより、本発明に係る進歩の以前にはマイクロ及び／又はナノ光学的構成要素の加工技術をガイドするために適用されたことのなかったシミュレーション、生成及び特性決定の統合されかつ相互に関連されたこのような方法を実現するまでは加工が不可能であった、又はその加工の制御が不可能であった構造物の加工及び生成の制御を可能にする。 - 特許庁