p-Inの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 17764件
In addition, the semiconductor laser device is provided with the same double hetero-junction structure, a second p-type clad layer, a p-type contact layer, and a p-side electrode, and the cleavage end face of the double hetero-junction structure has a disordered layer structure.例文帳に追加
または、同様のダブルヘテロ接合構造、第2のp型クラッド層、p型コンタクト層と、p側電極を具備し、ダブルへテロ接合構造のへき開端面が、無秩序化された層構造である。 - 特許庁
Then, since the P-N junctions are formed in the residual sections of the opposed sections of the N+ region 14 and the P+ regions 15 and 16, various functions as the semiconductor device are realized by the P-N junctions.例文帳に追加
一方、N^+領域14とP^+領域15、16との対向部の残部にはPN接合が形成されているので、このPN接合によって半導体装置としての各種の機能が実現されている。 - 特許庁
Also, a p^-well 16 is formed below the STI region 5, and a p^+ diffusion region 17 is formed in the region separated from the region right below the regions 6-8 inside the p^-well 16.例文帳に追加
また、STI領域5の下方にはP^−ウエル16を形成し、P^−ウエル16の内部における領域6乃至8の直下域から離間した領域にはP^+拡散領域17を形成する。 - 特許庁
A p-side contact layer 21, a p-type clad layer 22, an active layer 30, n-type clad layer 41, and n-side contact layer 42 are stacked in this order on a side of one surface of a substrate 10 comprising p-type semiconductor.例文帳に追加
p型半導体よりなる基板10の一面側に、p側コンタクト層21、p型クラッド層22、活性層30、n型クラッド層41およびn側コンタクト層42が順に積層されている。 - 特許庁
Thus, a current path Itr is formed via the recording material P so that the current flows into the photoreceptor drum 1 via the recording material P and unnecessary current doesn't flow in the area where the recording material P doesn't pass through.例文帳に追加
これにより、記録材Pを介して電流経路Itrが形成され、転写時には、記録材Pを介して感光ドラム1に電流が流れるので、非通紙部に不要な電流が流れない。 - 特許庁
In exposing a substrate P by projecting an image of a pattern on a substrate P through a projection optical system PL and fluid 1, liquid repellent is applied to a side face PB and a rear face PC of the substrate P.例文帳に追加
投影光学系PLと液体1とを介してパターンの像を基板P上に投影することによって基板Pを露光する際、基板Pの側面PB、裏面PCを撥液処理する。 - 特許庁
A copper alloy having a composition comprising, by mass, 0.03 to 0.5% Ni and 0.01 to 0.2% P, and in which the mass ratio between Ni and P, Ni/P is 2 to 10, and the balance copper with inevitable impurities is used.例文帳に追加
Ni:0.03〜0.5質量%、P:0.01〜0.2質量%を含有し、NiとPとの質量比であるNi/Pが2〜10であり、残部銅及び不可避不純物からなる銅合金を用いる。 - 特許庁
The voltage-controlled variable capacitance 15 has a P-N junction, and this P-N junction is constituted into superstaged junction, where the concentration of impurities in an N-type region is reduced as one goes away from P-N junction surface.例文帳に追加
電圧制御可変容量15はPN接合を持ち、このPN接合はPN接合面から離れるに従ってN型領域の不純物濃度が低くなる超階段接合に構成される。 - 特許庁
In this case, impurity concentration of the p-type latch-up preventing layer PL is set higher than that of the p-type channel forming layer PCH but lower than the p^+-type contact layer PC.例文帳に追加
このとき、p型ラッチアップ防止層PLの不純物濃度は、p型チャネル形成層PCHの不純物濃度よりも高く、p^+型コンタクト層PCの不純物濃度よりも低くなっている。 - 特許庁
A P 14 picture being a next P picture is decoded and re-encoded by using the quantization matrix Q2 similarly, and the information of the quantization matrix Q2 is described in a sequence header of I14 picture re-encoded and generated.例文帳に追加
その次のPピクチャであるP14ピクチャも、同様に、量子化マトリクスQ2を用いてデコードおよび再エンコードされ、再エンコードされて生成されたI14ピクチャのシーケンスヘッダに量子化マトリクスQ2の情報が記載される。 - 特許庁
Then, a P-type impurity is injected selectively into the P-type transistor formed region in which the P-type gate pattern 110b and the first space have been formed and thus a CMOS transistor is formed.例文帳に追加
そして、前記P型ゲートパターン110b及び第1スペーサが形成された前記P型トランジスタ形成領域に選択的にP型不純物を注入してCMOSトランジスタを形成する。 - 特許庁
In the element forming part 2, a p-type epitaxial layer PEpi1 and an interlayer insulating film 3 are formed, and on the surface of the p-type epitaxial layer PEpi1, an n-well NW and a p-well PW are formed.例文帳に追加
素子形成部2には、P型エピタキシャル層PEpi1及び層間絶縁膜3を設け、P型エピタキシャル層PEpi1の表面にはNウエルNW及びPウエルPWを形成する。 - 特許庁
When the first sensor 91 and the second sensor 92 detect floating of the paper sheet P (in the case wherein the paper sheet P is curled), suction by the fan 77 is increased to easily suck the paper sheet P.例文帳に追加
また、第1のセンサ91、第2のセンサ92によって用紙Pの浮きが検出された場合(用紙Pがカールしている場合)には、ファン77による吸引量を増加させ、吸着させやすくする。 - 特許庁
An n-type clad layer 2, an active layer 3, a p-type first clad layer 4, a p-type second clad layer 5 and a p-type contact layer 6 are laminated in this order on a principal plane of a GaAs substrate 1.例文帳に追加
GaAs基板1の主面上には、n型クラッド層2、活性層3、p型第1クラッド層4、p型第2クラッド層5およびp型コンタクト層6がこの順に積層されている。 - 特許庁
The comfort effectiveness evaluation device 8 calculates a comfort index P with P=1.0-|PMV|/3 and the comfort index is weighted according to the in-room human numbers N at the time of acquiring the comfort index P.例文帳に追加
快適実効性評価装置8は、P=1.0−|PMV|/3として快適指標Pを求め、この快適指標Pにその快適指標Pの取得時の在室者数Nに応じた重み付けを施す。 - 特許庁
Accordingly, the concentration profile PF1_MG of the p-type dopant becomes steep in the p-type Al_XGa_1-XN layer 15 close to the interface between the p-type Al_XGa_1-XN layer 15 and the active layer 17.例文帳に追加
故に、p型Al_XGa_1−XN層15と活性層17との界面近傍のp型Al_XGa_1−XN層15でp型ドーパントの濃度プロファイルPF1_Mgが急峻になる。 - 特許庁
A roll 72 is abutted on the highest sheet P to raise a rear end side of the sheet P is raised on the upstream side in the sheet conveying direction of a pickup roll 52 for feeding the sheet P from a paper feed tray 44.例文帳に追加
給紙トレイ44からシートPを送り出すピックアップロール52のシート搬送方向上流側で、ロール72が最上部のシートPと当接し、このシートPの後端側を盛り上げる。 - 特許庁
(3) The concentration Ti (ppm) of titanium metal element of a titanium compound soluble in a polyester and the concentration P (ppm) of phosphorus element of the phosphorus compound satisfy 0.65≤P/Ti≤5 and 10≤Ti+P≤200.例文帳に追加
](3)その際、ポリエステルに可溶なチタン化合物のチタン金属元素濃度Ti(ppm)とリン化合物のリン元素濃度P(ppm)とが、0.65≦P/Ti≦5,10≦Ti+P≦200を満足する。 - 特許庁
P-type collector layers 7 extending from the surface of N-type layers 5b to the inside thereof are formed in each of the N-type layers 5b composed of the N-type epitaxial layer 5 surrounded by the P-type drain isolation layer 6 and a P-type element isolation layer 3.例文帳に追加
P型ドレイン分離層6とP型素子分離層3に囲まれたN型エピタキシャル層5からなるN型層5bにその表面から内部に延在するP型コレクタ層7を形成する。 - 特許庁
Since the deformation of the elastic protrusion 31 and a contact area with a transfer material P are reduced in the case that the transfer material P is thin paper, feeding force imparted from the elastic protrusion 31 to the transfer material P is made small.例文帳に追加
転写材Pが薄紙の場合、弾性突起31の変形、転写材Pとの接触面積が少ないので、弾性突起31から転写材Pに付与される搬送力は小さい。 - 特許庁
Since the position relationship between the terminal fitting 20 and the circuit board P is kept generally constant even if there are fluctuations in the thickness of the circuit board P, the reliability of contact between the terminal fitting 20 and the circuit board P is secured.例文帳に追加
回路基板Pの板厚にバラツキがあっても、端子金具20と回路基板Pとの位置関係を概ね一定に保つので、端子金具20と回路基板Pとの接触信頼性が確保される。 - 特許庁
An N+ type layer 5 is a diffusion layer formed adjacently to the P+ type layer 4 just below the P+ type layer 4, and it is formed by ion-implanting N-type impurities in a way similar to the P+ type layer 4.例文帳に追加
N+型層5は、P+型層4直下に、P+型層4と隣接して形成された拡散層であり、P+型層4と同様にN型の不純物をイオン注入して形成される。 - 特許庁
The triac is formed by selectively forming n-layers 41 and 43 within a p-layer of a semiconductor substrate in which an n-layer is held by the p-layers and also selectively forming an n-layer 42 within the p-layer.例文帳に追加
p層がn層を挟み込む半導体基板のp層内にn層41及び43が選択的に形成され、p層内にn層42が選択的に形成され、トライアックが形成される。 - 特許庁
In the step for manufacturing a nitride compound semiconductor laser, a p-type AlGaN etching marker layer 200 is placed under a p-type GaN cap layer 108 and a p-type AlGaN clad layer 107.例文帳に追加
窒化物系化合物半導体レーザの製造工程において、p型GaNキャップ層108およびp型AlGaNクラッド層107下にp型AlGaNエッチングマーカー層200を敷く。 - 特許庁
To selectively form a p^+ region on a p-well and to reduce contact resistance of a metal electrode and the p^+ region without using a hard mask in manufacturing a silicon-carbide junction barrier Schottky diode.例文帳に追加
炭化珪素ジャンクションバリアショットキーダイオードの製造において、ハードマスクを使用せずに、pウェル上に選択的にp^+領域を形成し、また金属電極とp^+領域とコンタクト抵抗を低減する。 - 特許庁
When the edge part of the plate P is pushed in between the upper clamping part 3 and the lower clamping part 4, the nonskid member 7 is abutted to the surface of the plate P and the leaf spring 11 is brought into the press contact with the lower surface of the plate P.例文帳に追加
皿Pの縁部を上方挟持部3と下方挟持部4の間に押し込むと、滑り止め部材7が皿Pの表面に当接し、板ばね11が皿Pの下面に圧接する。 - 特許庁
The second p-type cladding layer 19, the p-type interlayer 20, and the p-type cap layer 21 have laser structure wherein a belt-shaped ridge 23 and a belt-shaped dummy ridge 25 are arranged alternately in the upper part.例文帳に追加
第2p型クラッド層19,p型中間層20およびp型キャップ層21は、その上部に、帯状のリッジ部23と、帯状のダミーリッジ部25とを交互に配列してなるレーザ構造を有する。 - 特許庁
The diamond field effect transistor has a P-type nitride layer containing at least one of Al, Ga, B and In on P-type diamond, and also includes: a source electrode and a drain electrode coming in electric ohmic contact with a heterojunction between the P-type diamond and P-type nitride layer; and a gate electrode on the P-type nitride layer between the source electrode and the drain electrode.例文帳に追加
P型ダイヤモンド上に、少なくともAl、Ga、B、Inの1つを含むP型窒化物層を有し、P型ダイヤモンドとP型窒化物層との間のヘテロ接合に電気的にオーミック接触するソース電極およびドレイン電極と、ソース電極とドレイン電極との間のP型窒化物層上にゲート電極を有することを特徴とする。 - 特許庁
Tension of the continuous paper sheet P lowered by moving the continuous paper sheet P in a direction B is thereby restored before a control section 16 starts to control the conveyance amount of the continuous paper sheet P to prevent fluctuation of the tension of the continuous paper sheet P to be caused when starting to convey the continuous paper sheet P in the paper sheet conveying direction F.例文帳に追加
これにより、連続用紙PをB方向へ後退させることで低下する連続用紙Pの張力を、制御部16が連続用紙Pの搬送量の制御を開始する前に回復させ、再び、連続用紙Pが用紙搬送方向Fへ搬送開始されるときに起きる連続用紙Pの張力の変動を防止する。 - 特許庁
In a decoder 153, a signal is changed in accordance with a value of a parameter (p) through a decoding process, thereby obtaining a student signal corresponding to the value of the parameter (p).例文帳に追加
復号化器153では、復号化の過程で、パラメータpの値に応じて信号が変化するようにされ、当該パラメータpの値に対応した生徒信号が得られる。 - 特許庁
To provide an organic p-type material usable in an electronic device.例文帳に追加
電子デバイスにおいて利用することができる有機p型材料を提供すること。 - 特許庁
Particularly, it is preferable that the average pore size (r) of the porous supporter is in the range of 0.1 μm < r < 20 μm and the porocity (p) is in the range of 5% ≤ p ≤ 60%.例文帳に追加
特に前記多孔質支持体は、平均細孔径rが0.1μm<r<20μmの範囲であり、気孔率pが5%≦p≦60%の範囲であることが好ましい。 - 特許庁
The device is provided with a transfer device 70 which is opposed to the substrate P, and is moved in a direction with which the mounting surface 34A intersects in response to the pressure of the liquid 1 applied to the substrate P.例文帳に追加
基板Pと対向し、基板Pに供給される液体1の圧力に応じて載置面34Aと交差する方向に移動する移動装置70を備える。 - 特許庁
In the workpiece conveying apparatus 1, the parts P are placed on the side corresponding to the faces of the workpiece W to which the parts P are assembled in the part placing means 9.例文帳に追加
該ワーク搬送装置1にあっては該部品載置手段9には該部品Pが該ワークWに組付けられるべき該ワークWの面に対応する側に該部品Pを載置する。 - 特許庁
In one embodiment, in the p^+-type layer (4c) and the n^+-type layer (5a) forming the hetero-interface, the band gap for the p^+-type layer (4c) is larger than that for the n^+-type layer (5a).例文帳に追加
一実施形態では、ヘテロ界面をなすp^+型層(4c)とn^+型層(5a)とにおいて、p^+型層(4c)のバンドギャップがn^+型層(5a)のバンドギャップよりも大きい。 - 特許庁
A rotary guide 37 brought into contact with the inside of the sheets P bent in a recessed shape and rotatable by the force of contact with the sheets P is installed in a register conveying guide 33.例文帳に追加
レジスト搬送ガイド33内に、凹状に湾曲される用紙Pの内側に接触し、用紙Pとの接触力に応じて回動可能な回転ガイド37を設ける。 - 特許庁
In a process for press-fitting the lamination, the lamination is press-fitted in a pressure area ≥ pressure P (kgf/cm^2), satisfying ΔB/ΔA≤0.005 (%/(kgf/cm^2)) and ≤ (P+200) (kgf/cm^2).例文帳に追加
積層体を圧着する工程において、ΔB/ΔA≦0.005(%/(kgf/cm^2))となるプレス圧P(kgf/cm^2)以上、(P+200)(kgf/cm^2)以下のプレス圧領域で圧着を行う。 - 特許庁
The cleaning pig 1, which has a wheel 3 in a pig body 5 equipped with a shock plate 2 noncontactable with an inside wall of the pipe P, is moved by air current flowing in the pipe P.例文帳に追加
管P内壁と非接触の受圧板2を備えたピグ本体5に車輪3を設けた清掃ピグ1を、管P内を流れる気流によって走行させる。 - 特許庁
To provide a semiconductor device in which a threshold voltage of a P-HEMT having an embedded P-type gate structure becomes uniform at any position in the surface of a wafer.例文帳に追加
埋め込みP型ゲート構造をもったP−HEMTの閾値電圧が、ウエハ面内のいずれの箇所においても均一となるような半導体装置を提供する。 - 特許庁
The CU (Card Unit) stores the number of game balls usable in the P machines for games.例文帳に追加
CU(カードユニット)は、P台で遊技に使用可能とされる遊技玉数を記憶する。 - 特許庁
Using N regions 16, 18 formed in the P well and a P region 20 formed in the N well, a pixel is reset and read out after a charge integration time.例文帳に追加
Pウェルに形成されたN領域16、18およびNウェルに形成されたP領域20を使用して、画素をリセットし、電荷集積時間後の画素を読み取る。 - 特許庁
In the correction mode, the movement of the camera is reduced with respect to the movement of the pointer P.例文帳に追加
補正モードでは、カメラ10の動きに対するポインタPの動きを小さくする。 - 特許庁
These pixels are set in a range exceeding the outer circumferential end of the print sheet P.例文帳に追加
これらの画素は、印刷用紙Pの外周の端を越える範囲に設定される。 - 特許庁
During the conveyance, the component of the gas, which is allowed to pass through the stacked sintered ores P during the conveyance, in the direction of passing through the stacked sintered ores P during conveyance is made in reverse direction.例文帳に追加
搬送途中で、積層して搬送中の焼結鉱Pに通気される気体の、積層して搬送中の焼結鉱Pを貫通する方向の成分を、逆にする。 - 特許庁
Furthermore, a p-type well 42d, and the like, are formed in an n^--type layer 42a, and the like, composed of the active layer 2c, and a semiconductor element is formed in the p-type well 42d.例文帳に追加
また、活性層2cにて構成されるn^-型層42a等の中にp型ウェル42d等を形成し、このp型ウェル42d内に半導体素子を形成する。 - 特許庁
Since carbon which functions with respect to the isoelectronics is diffused in the P-N junction, in addition, the luminous efficacy of the P-N junction is improved.例文帳に追加
また、少なくとも上記PN接合部には、アイソエレクトロニクス中心として機能する炭素が拡散されており、これにより、PN接合部での発光効率が高められている。 - 特許庁
A p type well 4 is then formed in the lightly doped n type epitaxial layer 3 and a photoelectric converting part 5 and a charge transfer part 7 are formed in the p type well 4.例文帳に追加
前記低濃度n型エピタキシャル層3内にp型ウェル4を形成し、前記p型ウェル4内に光電変換部5および電荷転送部7を形成した。 - 特許庁
In the inventive printer 10, the housing 20 has an opening 21 for throwing in a roll sheet P on the upper surface side and a section 22 for containing the roll sheet P is provided therein.例文帳に追加
本発明のプリンタ10においては、筐体20は、上面側にロール紙Pの投入開口21を形成し、その内部にロール紙Pの収納部22を備える。 - 特許庁
Further, in the p^- body region 13, an n^+ source region 11 is formed.例文帳に追加
さらに,P^- ボディ領域13中には,N^+ ソース領域11が形成されている。 - 特許庁
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