「pattern area」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

On an inner circumferential side area, the SSW controller 22 specifies the RWO from a read value and reference value of a radial pattern written onto a recording surface.例文帳に追加

内周側領域において、ＳＳＷコントローラ２２は、記録面に書き込んだラディアル・パターンの読み取り値と基準値とから、ＲＷＯを特定する。 - 特許庁

This robot cleaner comprises a traveling drive unit, a cleaning area detection unit detecting an area of cleaning surface, and a central processing unit calculating a spiral cleaning traveling pattern corresponding to each shape of cleaning area based on information detected through the cleaning area detection unit, and outputting a cleaning traveling signal corresponding to the calculated cleaning traveling pattern to the traveling drive unit.例文帳に追加

上記の目的を達成するための本発明によるロボット掃除機は、走行駆動ユニットと、掃除面の領域を検出する掃除領域検出ユニット、及び掃除領域検出ユニットを介して検出した情報に基づいて各掃除領域の形状に対応する螺旋形掃除走行パターンを算出し、走行駆動ユニットに算出した掃除走行パターンに対応する掃除走行信号を出力する中央処理ユニットと、を含む。 - 特許庁

The mask pattern 10 is divided into two areas: a center area extended along the center line; and a peripheral area 12 with a constant width W surrounding the center area.例文帳に追加

マスクパターン１０は、その中心線上に伸びる中央領域と、この中央領域の周囲を一定の幅Ｗで取り囲む周辺領域１２との二つの領域に分割され、中央領域は更に、中心線上に互いに隣接して並ぶ正方形の複数の単位領域１１に分割される。 - 特許庁

The display control method includes: an input reception process of receiving the input of the specification of the area in an image displayed at a display part; and a display control process of superimposing the area frame which indicates the area and has a regular first pattern on the image and displaying it at the display part.例文帳に追加

表示制御方法は、表示部に表示された画像における領域の指定の入力を受け付ける入力受付工程と、前記領域を示し、規則的な第一の模様を有する領域枠を、前記画像に重ねて前記表示部に表示させる表示制御工程とを備える。 - 特許庁

The slot machine 100 is configured to display, if a predetermined winning pattern including a plurality of bonus winning patterns is internally won, an image showing a winning expectation value for each of the bonus winning patterns in an upper display area 701, a middle display area 702 and a lower display area 703 of a full-scale liquid display device 700 when a start lever is operated.例文帳に追加

スロットマシン１００は、複数のボーナス役を含む所定の役に内部当選した場合には、スタートレバー操作時に全面液晶表示装置７００の表示領域上７０１、中７０２、下７０３にそれぞれのボーナス役に対する当選の期待値を示す画像を表示する。 - 特許庁

When a colored state of the test area TR is read as a gray value, a similarity between template information TP representing the colored state of the test area TR stored in a pattern storage means 23 and the test area TR read by a reading means 21 is calculated.例文帳に追加

テスト領域ＴＲの呈色状態が濃淡値として読み取られた際、パターン記憶手段２３に記憶したテスト領域ＴＲが呈色した状態を表したテンプレート情報ＴＰと読取手段２１により読み取られたテスト領域ＴＲとの類似度が算出される。 - 特許庁

In the whole color-matching adjustment area (100 dots), a density mean value is detected in a measuring area (nearly 10 dots) corresponding to the pitch of a detection pattern, and then, a value proposed as a correction value for an exposure timing of an adjustment image is obtained from a maximum detection value within the color-matching adjustment area.例文帳に追加

全色合わせ調整範囲（１００ドット）の内、検出用パターンのピッチに応じた測定領域（１０ドット程度）内で濃度平均値の検出を行い、検出値が極大となる値から調整画像の露光タイミングに関する補正値の候補を色合わせ調整範囲内で求める。 - 特許庁

The liquid crystal display device is provided with an active area 120 comprising a plurality of display pixels and, further, is provided with a seal material 110 which is arranged on a seal part 115 surrounding the active area 120 and bonds a pair of substrates to each other and a protrusion pattern 140 arranged between the active area 120 and the seal part 115.例文帳に追加

複数の表示画素によって構成されたアクティブエリア１２０を備え、アクティブエリア１２０を囲むシール部１１５に配置され一対の基板を貼り合わせるシール材１１０と、アクティブエリア１２０とシール部１１５との間に配置された突起パターン１４０と、を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

In this fan-out pattern having two fan-out areas, for example, a first fan-out area expands a gap S_I between two adjacent conductive wires on the IC side to an intermediate gap SM, and a second fan-out area further expands this intermediate gap S_M to a gap S_P on the side of a pixel area.例文帳に追加

２つのファンアウト域を有するファンアウトパターンでは、例えば、第１ファンアウト域は、ＩＣ側の２つの隣接する導電線間の間隙Ｓ_Ｉを中間間隙Ｓ_Ｍに拡大し、第２ファンアウト域は、この中間間隙Ｓ_Ｍを画素域側の間隙Ｓ_Ｐに更に拡大する。 - 特許庁

In a 1st conduction pattern 40, the side 303 where a wiring part 41 with narrow pitch is led out of an area divided by the seal area 30 to outside the area and the side 304 are coated entirely with a 2nd sealant 30B containing no conductive material.例文帳に追加

また、第１の電極パターン４０において、シール領域３０で区画された領域から領域外に狭いピッチの配線部分４１が導出される辺３０３、およびその他の辺３０４には、その全体にわたって、導通材を含有しない第２のシール材３０Ｂを塗布する。 - 特許庁

The image of each frame expressed by an input video signal is displayed in a first area in the display screen, and also a radial image pattern obtained by radially extending the image displayed in the first area toward a frame of the display screen is displayed in a second area in the display screen.例文帳に追加

入力映像信号によって表される各フレーム毎の画像を表示画面内の第１領域に表示させると共に、この第１領域内に表示される画像を表示画面枠に向けて放射状に広げた放射状画像パターンを表示画面内の第２領域に表示させる。 - 特許庁

The number of the cooling air apertures, the aperture area, and the aperture pattern are varied in relation to the circumferential temperature profile of the combustion gas 20 with a higher aperture area and/or higher number of apertures in high temperature regions and a lower aperture area and/or lower number of apertures in low temperature regions.例文帳に追加

冷却空気開口の数、領域、及びパターンは、燃焼ガス２０の円周上の温度プロファイルに関連して変化し、高温領域に大きな開口領域及び／又は多い数の開口、低温領域に小さな開口領域及び／又は少ない数の開口を有する。 - 特許庁

When an arbitrary closed area is specified in the pasted image 11, a texture image 12 on which the pattern pasted on the closed area is based is displayed and a polygon 13b in the same shape with the polygon 13a encircling the specified closed area is displayed on the texture image 12.例文帳に追加

この貼込画像１１上で任意の閉領域を指定すると、その閉領域に貼り込まれている絵柄の基となっているテクスチャ画像１２が表示されると共に、指定した閉領域を囲む多角形１３ａと同形状の多角形１３ｂがテクスチャ画像１２上に表示される。 - 特許庁

In a box mark area or an alignment mark area, a range from a trench 2 to an active area is etched to form a dummy pattern 7 around the trench 2 and CMP is applied to an insulating film 3 to form a step 8 within the trench 2 where the insulating film 3 is to be buried.例文帳に追加

ボックスマーク領域あるいはアライメントマーク領域において、トレンチ２からアクティブ領域にかかる範囲をエッチングすることにより、トレンチ２の周囲にダミーパターン７を形成し、絶縁膜３のＣＭＰを行うことにより、絶縁膜３が埋め込まれるトレンチ２内に段差８を形成する。 - 特許庁

A high-quality image block generating part 430 performs a contrast-enhancing process on the image data of the area of interest and surrounding areas and generates an enlarged image block for the area of interest according to the edge pattern, the estimated edge direction and the like of the area of interest.例文帳に追加

高画質画像ブロック生成部４３０は、注目領域及びその周辺領域の画像データに対して、コントラスト強調処理を施し、注目領域のエッジパターン及び注目領域の推定エッジ方向等に基づいて、注目領域に対する拡大画像ブロックを生成する。 - 特許庁

If the system setting information differs from current system setting information stored in the system setting information storage area 390, the printing system regenerates printing data on the basis of the number of printers and a mask pattern specified in a mask pattern data storage area 365 on the basis of the current system setting information to original image data in an original image storage area 380.例文帳に追加

このシステム設定情報がシステム設定情報記憶領域３９０に格納されている現在のシステム設定情報と異なる場合に、元画像記憶領域３８０内の元画像データに対して当該現在のシステム設定情報に基づき、マスクパターンデータ記憶領域３６５内の指定された台数およびマスクパターンに基づいて当該印刷データを再生成する。 - 特許庁

In the imprint mold structure and the like, a dummy pattern is formed radially extending from at least any of an inner circumferential edge and an outer circumferential edge of a pattern forming area on a magnetic recording medium substrate, at least at any of an inner circumferential edge and an outer circumferential edge of the concavo-convex patterns in a data area and a servo area based on the center.例文帳に追加

中心を基準としたデータ領域の凹凸部及びサーボ領域の凹凸部の内周端、及び外周端の少なくともいずれかには、前記磁気記録媒体の基板におけるパターン形成予定領域の内周端、及び外周端の少なくともいずれかに対して延長されたダミーパターンが形成されたことを特徴とするインプリント用モールド構造体等である。 - 特許庁

A cap film is formed on the main surface of a semiconductor substrate 1 of a semiconductor wafer including a chip, and then exposure, development and etching for forming a cap pattern 15a in a memory area M in the chip and those for forming a cap pattern 15b1 in a spare area E apart from the memory area in the chip are conducted separately and respectively.例文帳に追加

チップを含む半導体ウエハの半導体基板１の主面上にキャップ膜を形成した後、チップ内のメモリ領域Ｍにキャップパターン１５ａを形成するための露光、現像およびエッチング処理と、チップ内においてメモリ領域Ｍから離れた空き領域Ｅにキャップパターン１５ｂ１を形成するための露光、現像およびエッチング処理とをそれぞれ別々に行う。 - 特許庁

The pattern forming method includes: a step for dividing a pattern area which is an area to draw the electron beams into drawing areas; a step for specifying a drawing order to the divided drawing areas; a step for drawing the drawing area according to the drawing order; and a step for drawing the drawing areas in the reverse order of the drawing order.例文帳に追加

電子線描画を行う領域であるパターン領域を描画領域に分割する工程と、分割された描画領域に描画順序を指定する工程と、描画順序に従って描画領域を描画する工程と、描画順序とは逆順に描画領域を描画する工程と、を備えることを特徴とするパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

When the request message is received during transmitting the answer message, the part 313 compares the header of the request message with the reception abnormality header pattern, recorded in the reception abnormality header pattern area in the area 311.例文帳に追加

応答伝文の送信中に要求伝文が受信すると、伝送インターフェース部３１３は、要求伝文のヘッダと伝送作業領域３１１の受信異常ヘッダパターン領域に記録されている受信異常ヘッダパターンとを比較し、両者が一致した場合、受信異常の情報を伝送作業領域３１１のログ領域に記録する。 - 特許庁

On the periphery of a large pattern 1 existing on a substrate and having a level difference and an area large enough to cause uneven coating 3, a small pattern 2 having an area small enough to cause no uneven coating is arranged and coated with liquid by spin coating to form a thin film having a uniform film thickness.例文帳に追加

基板上に存在する塗布ムラ３を生じさせる程度の大きな高低差と大きな面積を有する大きなパターン１の周囲に、塗布ムラを生じさせない程度の小さな面積を有する小さなパターン２を配置し、回転塗布法により液体を塗布し、均一な膜厚の薄膜を形成する。 - 特許庁

To control, for example, a droplet shape by integrating a cooling means for forming a droplet by use of an MEMs (Micro Electro Mechanical System) that controls the temperature of a minute area, or a cooling pattern layer in a predetermined minute area, thereby controlling the cooling means or cooling pattern layer minutely.例文帳に追加

本発明は、微小な領域を温度制御するＭＥＭｓ（Micro Electro Mechanical System）を用いて液滴を形成する冷却手段又は冷却パターン層を所定の微小な箇所に集積化することにより、冷却手段又は冷却パターン層を微小に制御して液滴の形状などを制御することができる。 - 特許庁

A corrected area specifying unit 12 determines, among pixels constituting the document image, whether the brightness of the pixel distributed in a predetermined pattern is higher than the brightness of the background portion to specify the corrected area, based on the position of the pixel having the brightness higher than the brightness of the background portion among the pixels distributed in the predetermined pattern.例文帳に追加

修正域特定部１２は、原稿画像を構成する画素のうち、所定のパターンで点在する画素の明度が地肌部分より明度が高いか否かを判定し、所定のパターンで点在する画素のうち、その明度が地肌部分より明度が高い画素の位置に基づいて修正域を特定する。 - 特許庁

A slot machine has a special performance pattern displaying the performance by images in the area including the display window of the reels 31 by an image display unit 23, and a reel control means 64 controls such that the background area stops in the display window within the range of the stop control of the reels 31 in the game selecting the special performance pattern.例文帳に追加

画像表示装置２３によりリール３１の表示窓を含む領域に演出を画像表示する特定演出パターンを有し、リール制御手段６４は、特定演出パターンが選択された遊技では、リール３１の停止制御の範囲内において表示窓内に背景領域が停止するように制御する。 - 特許庁

The third glass ceramic layer 14 is formed in a partial area including a formation area of the conductor pattern 13 between the first glass ceramic layer 11 and the second glass ceramic layer 12, and has a thermal expansion coefficient included in a range between the thermal expansion coefficient of the conductor pattern 13 and that of the second glass ceramic layer 12.例文帳に追加

第３ガラスセラミック層１４は、第１ガラスセラミック層１１と第２ガラスセラミック層１２との間において導体パターン１３の形成領域を含む部分的領域に形成されており、導体パターン１３の熱膨張率と第２ガラスセラミック層１２の熱膨張率との間の範囲に含まれる熱膨張率を有している。 - 特許庁

In the nonwoven fabric, a line 2 of an area having high basis weight and high fiber content and a line 3 of an area having low basis weight and low fiber content are arranged adjacent to each other and each line is linked to form a closed pattern (form a polygonal cyclic closed pattern in which a plurality of rhombic patterns different in average diameter are concentrically arranged).例文帳に追加

不織布は、坪量の高い高繊維量領域の列２と坪量の低い低繊維量領域の列３とが隣接しているとともに、それぞれの列が繋がって閉じパターン（平均径の異なる複数の菱形状パターンが同心円状に配列した多角環状の閉じパターン）を形成している。 - 特許庁

The pattern created by the embossed projections 6 is such a pattern in which the embossed projections 6 are aligned at small intervals in approximately length directions of the napkin 1 in the central area of the napkin 1 and the embossed projections 6 are aligned at small intervals, approximately in width directions of the napkin 1 in a back-and-forth area of the napkin 1.例文帳に追加

前記エンボス突部６，６…による模様は、例えばナプキン中央部領域において前記エンボス突部６，６…が小間隔で並ぶ列方向がナプキン１の略長手方向とされ、かつナプキン前後部領域において前記エンボス突部６，６…が小間隔で並ぶ列方向がナプキン１の略幅方向とされる。 - 特許庁

In a step ST4, a first parameter (contour data) is extracted from the data in the pattern design, the first parameter is converted to a second parameter (the parameter obtained by dividing a plane area by an effective gate area after resizing +Xr) which is added in the electrification in response to the pattern density, and the degree of easiness in electrification is evaluated.例文帳に追加

ステップＳＴ４において、第１パラメータ（輪郭データ）をパターン設計上のデータから抽出し、第１パラメータを、パターンの密集度に応じた帯電のしやすさを加味した第２パラメータ（＋Ｘｒリサイズ後の平面積を実効ゲート面積で割ったもの）に変換し、帯電の受けやすさを評価する。 - 特許庁

The mounting substrate 20 is provided with a ground pattern 22 formed around an antenna mounting area 21, first and second lands 23, 24 provided in the antenna mounting area 21 corresponding to positions of first and second pad electrodes 13, 14 and a connection conductor pattern 25 for connecting the second land 24 to a feed line 26.例文帳に追加

実装基板２０は、アンテナ実装領域２１の周囲に形成されたグランドパターン２２と、第１及び第２のパッド電極１３、１４の位置に対応してアンテナ実装領域２１内に設けられた第１及び第２のランド２３、２４と、第２のランド２４と給電ライン２６とを接続する接続導体パターン２５とを備えている。 - 特許庁

In this hologram diffraction grating 30 in which a relief diffraction grating 2" is provided in a detailed pattern area in a plane where interference fringes 9" of relief hologram are formed, the diameter of a dot and line width in the detailed pattern area with the relief diffraction grating 2" provided are ≤0. 1 mm and cannot be seen at a normal observation position.例文帳に追加

レリーフホログラムのレリーフ干渉縞９”が形成されている面中の微細パターン領域にレリーフ回折格子２”が設けられてなるホログラム回折格子複合体３０であって、レリーフ回折格子２”が設けられている微細パターン領域のドット径及びライン幅が０．１ｍｍ以下であり、通常の観察位置では見えない。 - 特許庁

To provide a nonreciprocal circuit element employing a novel lower case capable of increasing a forming area of a lamination substrate itself, also increasing a forming area of an electrode pattern formed to the lamination substrate, and preventing a short circuit caused between the electrode pattern formed to the lamination substrate and a wall comprising metallic conductors of the lower case.例文帳に追加

積層基板自体の形成面積を増加させることが可能であり、積層基板に形成した電極パターンの形成面積も増加させ、積層基板に形成した電極パターンと下ケースの金属導体からなる壁部との短絡を防ぐことが可能な新規な下ケースを用いた非可逆回路素子を提供する。 - 特許庁

Since the electron beam shielding area 12 is stuck close to the pattern formation layer 2 by the slight adhesive effect of the slight adhesive layers 15 stuck close to the pattern formation layer 2, the incidence of electron beams on the area for shielding electron beams from oblique directions can be prevented even if a general and inexpensive electron beam irradiation apparatus is used.例文帳に追加

パターン形成層２に密着する微粘着層１５の微粘着効果により、パターン形成層２に電子線遮蔽領域１２が密着するので、汎用型の安価な電子線照射装置を使用しても、電子線を遮蔽する領域に電子線が斜め方向から入射することがない。 - 特許庁

A line screen frequency is set so as to satisfy a relational expression relating to the line screen frequency between a width of a second area in a pattern corresponding to the largest gradation value in the first screen group and a width of the first area in a pattern corresponding to the smallest gradation value in the second screen group.例文帳に追加

スクリーン線数は、第１スクリーン群のうち最も高い階調値に対応するパターンにおける第２領域の幅と、第２スクリーン群のうち最も低い階調値に対応するパターンにおける第１領域の幅との間のスクリーン線数に関連する関係式を満足するように設定されている。 - 特許庁

A CCD sensor 2 reads out an image of a medium as a genuine bill by utilizing the transmitted light, and a watermark area extracting process unit 9 extracts a pattern of a watermark area from the image data, and a NN processing unit 10 eliminates the influence of the non-linear fade of the extracted pattern data, and a genuineness discrimination unit 12 discriminates the genuineness.例文帳に追加

真券である媒体の画像を透過光を利用してＣＣＤセンサ２で読み取り、その画像データから透かし領域のパターンを透かし領域抽出処理部９で抽出し、その抽出したパターンデータの非線的なぼけの影響をＮＮ処理部１０で取り除きた後、真偽鑑別部１２で真偽鑑別を行う。 - 特許庁

These monitor patterns 13a-13d are formed on both of the STI surface 11 and the active area surface 12 as a line and space pattern and an isolated pattern, and are also arrayed and formed with the edges in the width direction shifted with respect to the borderline between the STI surface 11 and the active area surface 12.例文帳に追加

これらのモニタパターン１３ａ〜１３ｄは、ＳＴＩ表面１１上と活性領域表面１２上とにそれぞれ、ラインアンドスペースパターン及び孤立パターンとして形成され、また、ＳＴＩ表面１１と活性領域表面１２との境界線に対して幅方向のエッジをずらした状態で配列形成される。 - 特許庁

When printing data is input from a printing data input device 10, an area which has a high density of printing data is detected by a dot counter 13, and only the dot same as the examination pattern memorized in an examination pattern storage memory 14 from the printing data in the area is extracted and printed in the printing medium.例文帳に追加

印刷データが印刷データ入力装置１０から入力された場合に、ドットカウンター１３で印刷データの濃度の高い領域を検出し、その領域内の印刷データから検査パターン記憶メモリ１４に記憶された検査パターンと同じドットのみを抽出して印刷媒体に印刷を行う。 - 特許庁

The zero-cross detection means detects the zero-cross point of the rising or falling edge of a specific pattern included in a preamble area, makes a period counter of a prescribed period from the detected zero-cross point operate, predicts the zero-cross point predicted from a specific pattern in the preamble area, and outputs a phase error for acquisition.例文帳に追加

ゼロクロス検出手段は、プリアンブル領域に含まれる特定パターンの立上り又は立下りエッジのゼロクロス点を検出し、検出されたゼロクロス点から所定周期の周期カウンタを動作させ、プリアンブル領域の特定パターンから予測されるゼロクロス点を予測し、アクイジション用位相誤差を出力する。 - 特許庁

The arrangement intervals of a plurality of LEDs constituting lamp units 203 and 210 are arranged densely and coarsely, and the area of a wiring pattern connected to the light-emitting elements at a part where the arrangement intervals of the LEDs are dense is larger than the area of a wiring pattern connected to the light-emitting elements, at a part where the arrangement intervals of the LEDs are coarse.例文帳に追加

ランプユニット２０３，２１０を構成する複数のＬＥＤの配置間隔は疎密に配置され、ＬＥＤの配置間隔が密となっている箇所の発光素子に接続される配線パターンの面積は、ＬＥＤの配置間隔が疎となっている箇所の発光素子に接続される配線パターンの面積よりも大きい。 - 特許庁

The method of manufacturing a solid-state imaging device includes: a step for forming an imaging area and a peripheral circuit area on a substrate; a step for forming a plurality of wiring patterns so that the wiring pattern density of the peripheral circuit area may be higher than that of the imaging area; and a step for forming an insulation film to embed among the wiring patterns.例文帳に追加

本発明の固体撮像装置の製造方法は、基板上に撮像領域と周辺回路領域を形成する工程と、撮像領域よりも周辺回路領域の配線パターン密度が高くなるように複数の配線パターンを形成する工程と、配線パターンの間を埋め込む絶縁膜を形成する工程を有する。 - 特許庁

By making small an area of a resist pattern (an area occupation rate of the resist: a ratio of the area of the resist to the entire area of a substrate) depending on the doping conditions including an acceleration voltage and a current density, degassing which occurs from the resist at the time of doping is reduced to realize the stable doping of impurity ions.例文帳に追加

ドーピング時における加速電圧または、電流密度といった条件に応じて用いるレジストパターンの面積（レジストの面積占有率：基板全体の面積に対するレジストの面積比）を小さくすることによりドーピング時にレジストから発生する脱ガスを減少させ、不純物イオンの注入安定性を図ることができる。 - 特許庁

A system 20 for detecting the motion area in the video image has a video input part 21 which inputs the video image, a motion area detection part 22 which generates a motion pattern image from among three images in the video image and a motion area output 23 which outputs the motion area to a frame image.例文帳に追加

映像中の動き領域を検出するシステム２０であって、映像を入力する映像入力部２１、映像中の３枚の画像から動きパターン画像を生成する動き領域検出部２２、及びフレーム画像に対して動き領域を出力する動き領域出力部２３を有する動き領域検出システム２０。 - 特許庁

A reference area constituting one period of a tracing dot pattern is divided in accordance with the contents of the trace information, dots of a large size are added to an area indicating the most important start mark or maker ID, dots of a medium size are added to an area indicating individual ID such as a serial number important next and dots of a small size are added to the other information area.例文帳に追加

追跡用ドットパターンの１周期を構成する基準領域を、その追跡情報の内容に応じて分割し、最も重要なスタートマークやメーカIDを示すエリアでは大サイズのドットを付加し、次に重要なシリアル番号等の個別IDを示すエリアでは中サイズのドットを付加し、その他の情報エリアでは小サイズのドットを付加する。 - 特許庁

To provide a mask for near field exposure, a near field exposure method, and a near field exposure apparatus capable of forming a resist pattern over a large area in the case of using a cylindrical member to form the resist pattern.例文帳に追加

円柱状部材を用いてレジストパターンを形成するに際して、大面積に亙ってレジストパターンを形成することが可能となる近接場露光用マスク、近接場露光方法、及び近接場露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a seal pattern of a liquid crystal display for improving the productivity and for reducing the tack time (tact time) relating to a large-area substrate by using a split mask to efficiently form a seal pattern.例文帳に追加

本発明は、分割マスクを使って效率的にシールパターンを形成することで大面積基板における生産性向上及びタックタイム(tact time)を短縮するようにした液晶表示装置のシールパターン形成方法に関する。 - 特許庁

A linear fastening pad 11, extending from a position overlapping one boring pattern of the TCP 2 to a position overlapping the adjacent boring pattern 21 of the TCP 2, is provided on the PCB 1 corresponding to each area 13 between pad groups.例文帳に追加

ＰＣＢ１上には、各パッド群間領域１３に対応して、一のＴＣＰ２の穴あきパターン２１と重なる個所から、その隣のＴＣＰ２の穴あきパターン２１に重なる個所まで延びる、線状の締結パッド１１が設けられる。 - 特許庁