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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > pattern onに関連した英語例文

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pattern onの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 29426



例文

Subsequently, the compound film 17 is stripped from the rib pattern 12 to leave the metal foil 14 only on the rib pattern 12 thus forming a conductive pattern 18.例文帳に追加

その後、複合フィルム17をリブパターン17から引き剥がし、リブパターン12上にのみ金属箔14を残留させ、導電性パターン18を形成する。 - 特許庁

In an electron beam lithographic device, the primary pattern is drawn on beam conditions under which a normal pattern is formed, and the secondary pattern is drawn by defocusing the beam to a prescribed amount.例文帳に追加

電子線描画装置では、一次パターンを通常のパターン形成時のビーム条件で描画し、二次パターンを所定量デフォーカスさせて描画する。 - 特許庁

The photomask 11 includes, in a prescribed region, a mask pattern evaluating pattern 13 as well as a mask pattern 12 which takes part in the formation of an element on a semiconductor wafer.例文帳に追加

フォトマスク11は、半導体ウェハ上への素子形成に関するマスクパターン12と共にその評価パターン13を所定領域に含んでいる。 - 特許庁

A magnetic substance for efficiently receiving electromagnetic energy is located outside a circuit pattern or a circuit pattern having a coil pattern on a substrate.例文帳に追加

電磁エネルギーを効率よく受信するための磁性体を、基板上であって、回路パターン、又はコイルパターンを有する回路パターンの外側に配置した。 - 特許庁

例文

To diminish toner dust at the periphery of a circuit pattern and to sharply form a circuit pattern, when a circuit pattern is formed on a board by electrophotographic system.例文帳に追加

電子写真方式により基板の上に回路パターンを形成する際、回路パターン周辺へのトナー塵が少なく、かつ鮮明に回路パターンを形成する。 - 特許庁


例文

A moire pattern reflecting the shape of the nail appears by the optical interference of the grating pattern on the nail and the grating pattern of the mask in the video images of the image pickup device.例文帳に追加

撮像装置の映像には爪の上の格子パターンとマスクの格子パターンの光学的な干渉により爪の形状を反映したモアレパターンが現われる。 - 特許庁

The electrodeposition resist pattern 171 is so formed to cover a metallic pattern region formed while facing the metallic pattern 141 on the back face side of the mirror part 131.例文帳に追加

電着レジストパターン171は、ミラー部131の裏面側の金属パターン141に対向して形成する金属パターンの領域を被覆するように形成する。 - 特許庁

It matches the PCRE pattern "/R/" against the STAT column of ps and executes the specified string on the shell if any running processes have been found.-- watch name="running" pattern match="stat"/R//pattern condition type="presence" 例文帳に追加

ps の STAT カラムに対して正規表現 "/R/" でマッチングを行い、実行中のプロセスが見つかった場合に、指定した文字列がシェルで実行されます。 - PEAR

As a result, it is possible to set a background pattern optimum for each kind of paper on which the printing of the background pattern is to be carried out, thereby improving the representing accuracy of the background pattern.例文帳に追加

よって、地紋印刷を実施する紙種に最適な地紋パターンを設定することが可能となり、地紋の再現精度を向上することができる。 - 特許庁

例文

To enable starting drawing in a short time with stable execution, in regard to pattern drawing on a drawing object while making a drawing pattern coincident with an underlying pattern.例文帳に追加

描画パターンを下地パターンに一致させながら描画対象物に描画するパターン描画を短時間で開始することができ、しかも安定して実行する。 - 特許庁

例文

To improve dimensional stability of a picture pattern by forming an uneven pattern on the surface of a transparent substrate sheet and the picture pattern of the underside with good registration accuracy.例文帳に追加

透明基材シートの表面の凹凸模様と裏面の絵柄模様とを、見当精度良く形成し、絵柄模様の寸法安定性を良くする。 - 特許庁

To provide a technology for performing tuning with a capacity pattern by forming the relevant capacity pattern on a non-contact data carrier device composed of a surface pattern only.例文帳に追加

表面パターンのみからなる非接触式データキャリア装置に容量パターンを形成して、当該容量パターンによりチューニングを行う技術を提供する。 - 特許庁

At the time of performing complementary division on a device pattern, the total extensions of the X- and Y-direction pattern edges of the whole pattern are calculated first.例文帳に追加

デバイスパターンのコンプリメンタリー分割を行う際には、まず全てのパターンについてX方向とY方向のパターンエッジの総延長を算出する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection apparatus and pattern inspection method for detecting with high sensitivity line width defect that generates error of line width in pattern transferred on a wafer.例文帳に追加

ウエハに転写されたパターンに線幅の誤差が発生する線幅欠陥を高感度に検出するパターン検査装置及びパターン検査方法を提供する。 - 特許庁

An evaluating pattern 11 for evaluating the insulation reliability between through holes is formed on the wiring board 10 and part 14 of the pattern of the real circuit is formed around the pattern 11.例文帳に追加

配線板10にスルーホール間絶縁信頼性評価パターン11と、該評価パターン11の周りに実回路のパターンの一部14とを形成する。 - 特許庁

A picture pattern drawn on the picture pattern sheet is displayed with emphasis by means of the half-mirror formed on the holding part only when the back lamp 60 is turned on and when the back lamp 60 is turned off, the picture pattern drawn on the picture pattern sheet is made to be hardly visible from the front face side of the playing machine.例文帳に追加

保持部に形成したハーフミラーにより、バックランプ60が点灯した場合にのみ、図柄シートに描かれた図柄を強調表示するとともに、バックランプ60が消灯した場合には、遊技機の前面側から図柄シートに描かれた図柄を視認し難くする。 - 特許庁

A first display control part 111 displays a complete pattern or an incomplete pattern in pattern display areas 41-49 on a variable display means 30 based on the establishment of a starting condition.例文帳に追加

第1表示制御部111は、始動条件の成立に基づき、完成図柄または未完成図柄を可変表示手段30上の図柄表示領域41〜49に表示する。 - 特許庁

Then, a conductor pattern 6 is formed as a wiring circuit pattern on the base insulating layer 5, and a cover insulating layer 7 is formed on the base insulating layer 5 so as to cover the conductor pattern 6.例文帳に追加

次いで、ベース絶縁層5の上に導体パターン6を配線回路パターンとして形成し、ベース絶縁層5の上に導体パターン6を被覆するようにカバー絶縁層7を形成する。 - 特許庁

The light-emitting element includes an active pattern arranged on the substrate, an upper mirror provided on the active pattern, and a lower mirror provided under the active pattern and can emit a light which is perpendicular to the substrate.例文帳に追加

前記発光部は、前記基板上に配置されたアクティブパターンと、前記アクティブパターンの上部に備えられた上部鏡と、前記アクティブパターンの下部に備えられた下部鏡とを含む。 - 特許庁

The forming roll is provided with a principal pattern body 20, which forms a principal pattern on the central part of the metal band, and with end-part pattern forming bodies 22, which form end-part patterns on both sides of the metal band.例文帳に追加

成形ロールは、金属帯の中央部に本柄を形成する本柄形成体20と、金属帯の両側に端部柄を形成する端部柄形成体22とを備える。 - 特許庁

The spherical spacers 15 are disposed on the pixel pattern and are disposed using an ink jet method or a print method on one kind of the dummy pattern part among the two or more kinds of the dummy pattern parts.例文帳に追加

球状スペーサ15は、画素パターン上に配置され、かつ、複数種類のダミーパターン部の1種類のダミーパターン部上にインクジェット工法又は印刷法を用いて配置されている。 - 特許庁

The end pattern is previously selected by the main controller based on the result in the determination in the shortened time and the figure controller sets a display pattern based on the end pattern.例文帳に追加

この終了パターンはメイン制御装置が時間短縮の判定結果に基づいて選択したものであり、図柄制御装置は終了パターンに基づいて表示パターンを設定する。 - 特許庁

To provide a means for easily obviating a defect of the lift-off method being one of the forming methods of an electrode pattern, that is, a residual substance formed on a side face of a resist pattern without giving effect on the electrode pattern.例文帳に追加

電極パターンの形成法の1であるリフトオフ法の欠点、即ちレジストパターンの側面に形成される残渣を電極パターンに影響を及ばさず容易に取り去る手段を得る。 - 特許庁

An L-pattern 20 is formed on a photomask 17, and pattern matching is performed using the L-pattern 20 and a straight line or a nearly straight line (side) around a pseudo monocrystal region 11 on a substrate.例文帳に追加

フォトマスク17にL字パターン20を設け、このL字パターン20と基板上の擬似単結晶領域11の周囲の直線あるいは略直線(辺)でパターンマッチングを行う。 - 特許庁

A gold wiring pattern is formed on a substrate, the wiring pattern is covered with a copper metal layer, an aperture is then provided on the metal layer by photolithography, and a wiring pattern surface is exposed.例文帳に追加

基板上に金の配線パターンを形成し、配線パターン上を銅の金属層で覆った後、フォトリソグラフィにより金属層に開口穴を設けて配線パターン表面を露出させる。 - 特許庁

A watermark pattern generation means 104 generates a digital watermark pattern based on digital watermark information and adjusts the digital watermark pattern on the basis of the information obtained from the content information calculation means.例文帳に追加

透かしパターン生成手段104は電子透かし情報を元に電子透かしパターンを生成し、コンテンツ情報算出手段から得られる情報を元に調整を行う。 - 特許庁

The silicon film 100 is formed on the metal pattern by applying a voltage on the metal pattern of the microheater to heat the metal pattern and exposing the microheater in a source gas including silicon.例文帳に追加

マイクロヒーターの金属パターンに電圧を印加して金属パターンを加熱し、シリコンを含むソース気体にマイクロヒーターを露出させて金属パターン上にシリコン膜100を形成することができる。 - 特許庁

Pattern recognition and a retrieval structure, based on the Web, permit online pattern retrieval and a selection using various pattern renderings and similarity techniques, including a system based on the edge properties mentioned above.例文帳に追加

ウェブに基づくパターン認識と検索構造は、上述のエッジ特性に基づくシステムを含む、種々のパターン表現と類似性技術を利用して、オンラインパターン検索と選択を可能とする。 - 特許庁

A carrier pattern generating section 103 outputs a carrier pattern by changing the carrier pattern based on the information on the characteristics of a watermark burying picture printing section 104 inputted from the section 104.例文帳に追加

搬送波パターン発生部103は、透かし埋込画像印刷部104から入力された印刷部の特性情報に基づいて搬送波パターンを変化させて出力する。 - 特許庁

To provide an inspection device capable of simply discriminating the flaw on a transmission pattern or the flaw on a shading pattern, and to provide an inspection method and a manufacturing method of a pattern substrate.例文帳に追加

透過パターン上の欠陥か、遮光パターン上の欠陥かを簡便に判別することができる検査装置及び検査方法ならびにパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The designed pattern image is put on the prescribed line pattern including the cutting lines (the heavy lines in Figure 3), the folding lines (dotted lines) and the parts to be stuck (the shaded parts) and they are printed on a flat face material (which is called a pattern model).例文帳に追加

切取線(図3の太線)、折曲線(点線)及び貼合部(斜線部)を含む所定の線パターン上に絵柄イメージを配置し、平面素材に印刷する(これを雛形と呼ぶ)。 - 特許庁

The pattern forming method on the surface of the resin film is characterized by forming a pattern on the surface of the resin film by using an ultrasonic horn and a pattern roller.例文帳に追加

樹脂フィルム表面へのパターン形成方法であって、超音波ホ−ンとパターンローラを用いて樹脂フィルムの表面にパターンを形成するパターン形成方法により、上記課題を解決する。 - 特許庁

The substrate having the projecting parts and recessed parts of a circuit pattern on the surface is transferred first to a surface observing apparatus where pattern information corresponding to the position and the density of the pattern on the substrate is grasped.例文帳に追加

表面に回路パターンの凹凸を有する基板を、先ず表面観察装置に搬送し、ここで基板上における位置とパターンの密度とを対応させたパターン情報を把握する。 - 特許庁

A metal electrode pattern 3 with an intended pattern is formed on a heat resistant insulation board 2, and a high dielectric thick film layer 4 as an insulation layer is formed on the metal electrode pattern by using high dielectric material.例文帳に追加

耐熱性絶縁基板2上に、所望のパターンの金属電極パターン3を形成し、その上に絶縁層として高誘電材料で厚膜高誘電体層4を形成する。 - 特許庁

A lower insulation film pattern 112 thicker than the tunnel insulation film pattern 116 is arranged on the semiconductor substrate on the side face of the tunnel insulation film pattern 116 while being covered with the charge storage film.例文帳に追加

トンネル絶縁膜パターン116の側面の半導体基板上には、電荷貯蔵膜により覆われ、トンネル絶縁膜パターン116よりも厚い下部絶縁膜パターン112が配置される。 - 特許庁

The change pattern when change display constitutes the ready-for-winning state is the pattern which is decided on the basis of the stop pattern and comprises a pattern exchange for temporarily stopping the temporary stop pattern which does not constitute the ready-for- winning state and displaying the stop pattern by conversion.例文帳に追加

当該変動表示がリーチを構成する場合の変動パターンは、当該停止図柄に基づいて決定される図柄であって、リーチを構成しない仮停止図柄の仮停止から、当該停止図柄へ変換表示する図柄入替変動を含む。 - 特許庁

In a module for a working machine, no pattern region 60 is provided in a ground pattern 7, wherein the no-pattern region separates a ground pattern region 7b for a sensor circuit corresponding to the sensor circuit of the ground pattern 7 on a substrate 2 from a ground pattern region 7c for a CAN communication circuit corresponding to the CAN communication circuit.例文帳に追加

基板2におけるグランドパターン7のセンサ回路に対応するセンサ回路用グランドパターン域7bとCAN通信回路に対応するCAN通信回路用グランドパターン域7cとを分離させる無パターン域60を、グランドパターン7に設けてある。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern of a semiconductor device, in which a photoresist pattern of a line pattern is formed, and by using a resist flow process, a further finer line pattern can be formed, wherein the photoresist pattern of the line pattern is formed by overlapping a plurality of contact hole patterns on a line.例文帳に追加

本発明は、複数のコンタクトホールパターンが重なりながら一列に形成されたラインパターンのフォトレジストパターンを形成することにより、レジストフロー工程時にさらに微細なラインパターンを形成することができる半導体素子のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In a method for preparing a layered structural pattern constituted of at least two layers including a pattern upper layer part and a lower layer part on a base material, the pattern upper layer part is larger than the pattern layer on the lower side thereof and a pattern surface part made of the image pattern upper layer part is protruded in a horizontal direction in a pattern sectional shape.例文帳に追加

パターン上層部、下層部を含んだ、少なくとも二つの層により構成される積層構造パターンを基材上に作製する方法であって、パターン上層部が、その下方のパターン層よりも大きく、パターン断面形状で画像パターン上層部からなるパターン表面部分が水平方向に突き出した形状とした事を特徴とする。 - 特許庁

A gate electrode pattern 13a is formed, a CVD oxide film pattern is deposited, then a thermal oxide film pattern 11a and a CVD oxide pattern 17c are formed on the resistor pattern 7 by etching, and a spacer 17a is formed at the same time.例文帳に追加

ゲート電極パターン13aを形成し、CVD酸化膜を堆積した後、エッチングにより、抵抗体パターン7上に熱酸化膜パターン11a及びCVD酸化膜パターン17cを形成し、同時にスペーサ17aを形成する。 - 特許庁

The image light including a test pattern of nipping a pattern image of a striped pattern between a white pattern and a black pattern, is made incident on the lens of a test object, and a resolution numeric value is determined by detecting a luminance value of the emitting light from the lens.例文帳に追加

白パターンと黒パターンとの間に縞模様のパターン画像を挟み込んだテストパターンを含む画像光をテスト対象のレンズに入射し、レンズからの射出光の輝度値を検出して解像度数値の判定を行う。 - 特許庁

The semiconductor element by an embodiment form should contain: a main pattern formed on a substrate; a second dummy pattern formed at one side of the main pattern; and a first dummy pattern formed while surrounding the second dummy pattern.例文帳に追加

実施の形態による半導体素子は、基板上に形成されたメインパターンと、メインパターンの一側に形成された第2ダミーパターンと、第2ダミーパターンを取り囲むように形成された第1ダミーパターンと、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

A connection electrode pattern 50 electrically connects the second electrode pattern 28 to the one end side of the second electrode pattern sheet 30 beyond the second electrode pattern 28 on the one end side of the second electrode pattern 28.例文帳に追加

第2の電極パターン28を、これら第2の電極パターンより前記一端側の第2の電極パターンを跨いで第2の電極パターンシート30の一端側へと電気的に接続させる接続電極パターン50を備える。 - 特許庁

In the method for coating the foaming pattern, with which the coating agent is applied on the foaming pattern used for the lost foam pattern casting method, the foaming pattern is vibrated in a state the foaming pattern immersed into the liquid state coating agent in a coating vessel.例文帳に追加

消失模型鋳造法に使用される発泡模型に塗型剤を塗布する発泡模型の塗型方法であって、前記発泡模型を塗型槽内の液状の塗型剤に浸した状態で、該発泡模型を振動させる。 - 特許庁

Correction quantities, needed for the mask pattern, which are found by comparing the mask pattern with patterns on the wafer actually obtained through the photolithography process using the mask pattern are prepared by mask pattern density as correction data by the mask pattern density.例文帳に追加

マスクパターン密度ごとに、マスクパターンとこれを用いたフォトリソグラフィプロセスにより実際に得られるウエハ上のパターンとの比較より求めた、マスクパターンに必要な補正量を、マスクパターン密度ごとの補正データとして予め準備する。 - 特許庁

A variation pattern table 1 shown in Fig.7 is stored in the ROM of a main control device 50, and the variation pattern table 1, a variation pattern table 2, and a variation pattern table 3 are stored in a RAM based on the variation pattern table 1.例文帳に追加

図7に示す変動パターンテーブル1が主制御装置50のROMに記憶され、この変動パターンテーブル1に基づき変動パターンテーブル1、変動パターンテーブル2及び変動パターンテーブル3がRAMに記憶されている。 - 特許庁

To provide a forming method for a minute pattern with a narrowed pattern interval of a resist pattern, which can form a minute pattern formation material surely on a surface of the resist pattern.例文帳に追加

本発明は、レジストパターンのパターン間隔を狭小化させた微細パターンの形成方法に関し、微細パターン形成材料を確実にレジストパターン表面に形成できる微細パターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The present invention relates to the positioning pattern which is provided on the top surface 2 and reverse surface 3 of the photomask substrate 1 and formed on the same normal of the photomask 1, the positioning pattern comprising a transmission pattern 4 formed on the reverse surface and a light shield pattern 5 formed on the top surface such that the transmission pattern 4 is larger in area than the light shield pattern 5.例文帳に追加

本発明は、フォトマスク基板1のフォトマスク基板表面2とフォトマスク基板裏面3に設けられ、フォトマスク基板1の同一法線上に略形成される位置あわせパターンであって、裏面に形成される透過パターン4と、表面に形成される遮光パターン5とからなり、透過パターン4の面積が遮光パターン5の面積より大きいことを特徴とする。 - 特許庁

After a conductive pattern is formed on a substrate and a first ramp is formed on an edge of the conductive pattern by forming a first insulating film at a sidewall of the conductive pattern, the edge of the conductive pattern has an improved sharpness by forming a second ramp on the edge of the conductive pattern by forming a second insulating film on the upper face of the conductive pattern.例文帳に追加

基板上に導電性パターンを形成し、導電性パターンの側壁に第1絶縁膜を形成して導電性パターンのエッジに第1傾斜を形成した後、導電性パターンの上面に第2絶縁膜を形成して導電性パターンのエッジに第2傾斜を形成することで、導電性パターンのエッジが向上されたシャープネスを有するようにすることができる。 - 特許庁

例文

The pattern forming method comprises steps of forming one mask pattern with low wettability on the film, then forming a second mask pattern by applying or discharging a highly wettable material on the film via the first mask pattern, removing the first mask pattern and then removing a part of the first film using the second mask pattern as a mask.例文帳に追加

本発明の一は、膜上にぬれ性の低い1のマスクパターンを形成した後、第1のマスクパターンを介して、膜上にぬれ性の高い材料を塗布又は吐出して第2のマスクパターンを形成し、第1のマスクパターンを除去して、第2のマスクパターンをマスクとして第1の膜の一部を除去する。 - 特許庁




  
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