「pattern on」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

An insulating layer 32 composed of a prepreg member on which a copper foil 35 is stuck is formed on the surface of the pattern 31.例文帳に追加

その表面部に、銅箔３５を貼着したプリプレグ材からなる絶縁層３２を設ける。 - 特許庁

To surely obtain synchronization even on the occurrence of an error of a synchronization pattern on the way of a sector.例文帳に追加

セクタの途中で同期パターンのエラーがあっても確実に同期を得ることができるようにする。 - 特許庁

To provide a pattern forming process that suppresses image distortion on a pattern forming material and that efficiently forms a highly precise pattern such as a wiring pattern with a high aspect ratio.例文帳に追加

パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制することにより、高アスペクト比の配線パターン等のパターンを極めて高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To form a resist pattern having a preferable profile in any resist pattern forming region even when a dense pattern forming region and a sparse pattern forming region are both present on one substrate.例文帳に追加

密なパターン形成領域と疎なパターン形成領域が同一基板上に混在する場合において、いずれのレジストパターン形成領域に対しても、良好な形状のレジストパターンの形成を可能にする。 - 特許庁

A linear first film pattern 40, and a second film pattern 41 narrower than the first film pattern 40 and connected to the first film pattern 40 at the base end, are formed by arranging a functional liquid on a substrate.例文帳に追加

機能液を基板上に配置して線状の第１膜パターン４０と、第１膜パターン４０より幅狭で基端部で第１膜パターン４０に接続される第２膜パターン４１とを形成する。 - 特許庁

A pattern selecting part 104 selects the concentration pattern from the pattern storage part 103 based on the boundary line information, and a dot image generator 105 generates a gradation image by attaching the concentration pattern to each boundary line.例文帳に追加

パターン選択部104では、境界線情報に基づいてパターン記憶部103から濃度パターンを選択し、ドット画像発生器105で境界線毎に濃度パターンを貼り付けてグラデーション画像を生成する。 - 特許庁

To provide a pachinko game machine wherein a character pattern is used as a display pattern for a pattern display device disposed on the surface of a game board and the name of a copyright holder of the character pattern is displayed.例文帳に追加

遊技盤面に設けられる図柄表示装置の表示図柄にキャラクタ図柄を用いると共に、そのキャラクタ図柄の著作権者名が表示されるようにしたパチンコ遊技機を提供すること。 - 特許庁

When the figure pattern assigning command unreceiving information pattern table is set as the lamp control table, a drum lamp turning on/off control is carried out according to data of the figure pattern assigning command unreceiving information pattern table.例文帳に追加

ランプ制御テーブルとして図柄指定コマンド未受信報知パターンテーブルが設定された場合には、図柄指定コマンド未受信報知パターンテーブルのデータに従ってドラムランプ点灯／消灯制御が実行される。 - 特許庁

A pattern matching degree calculation part 19 calculates pattern matching between the inputted pattern and a dictionary pattern based on the selected feature point and outputs the character code of a character kind showing a maximum matching degree.例文帳に追加

パタン整合度計算部１９は、選択された特徴点を基に、入力パタンと辞書パタンとの間のパタン整合を計算し、最大の整合度を示した字種の文字コードを出力する。 - 特許庁

Then the exposed pattern forming film 22 is developed and the substrate 10 on which the pattern forming film 22 is formed is heated so that the film thickness of the pattern forming film 22 is made thicker than that of the pattern forming film 22 after development.例文帳に追加

そして、露光されたパターン形成用膜を現像し、パターン形成用膜２２の膜厚が、現像後よりも厚くなるように、パターン形成用膜２２が形成された基板１０を加熱する。 - 特許庁

A pattern generating section 14 generates an embedded pattern on the basis of a pattern size from a size entry section 11, a pattern attenuation rate from an attenuation rate entry section 12, and the embedding strength from a strength entry section 13.例文帳に追加

サイズ入力部１１からのパターンサイズ、減衰率入力部１２からのパターン減衰率、強度入力部１３からの埋め込み強度に基づき、パターン作成部１４が埋め込みパターンを作成する。 - 特許庁

This image-forming device, makes an adding machine 302 to add the density value of a pattern being present in the specific pattern position 305 on the color pattern, and the density value of a pattern position 305, which is preserved by a read-out density RAM 304.例文帳に追加

カラーパターン上の所定のパターン位置３０５に存在するパターンの濃度値と、読み取り濃度ＲＡＭ３０４に保存された、パターン位置３０５の濃度値を加算器３０２が加算する。 - 特許庁

A pattern extraction part 30 prepares an action pattern data expressing the action pattern serving as a reference, based on a history data stored in a history storage means 25, and stores it into a pattern storage means 35.例文帳に追加

パタン抽出手段３０が、履歴記憶手段２５に記憶されている履歴データに基づいて、基準とする行動パタンを表す行動パタンデータを作成してパタン記憶手段３５に記憶させる。 - 特許庁

The game member body is a pattern visual confirmation window, which is a through hole allowing the game player to visually confirm the pattern displayed on the special pattern display part 51 and the ordinary pattern display part 52.例文帳に追加

また、遊技部材本体には、遊技者が特別図柄表示部５１及び普通図柄表示部５２に表示される図柄を視認するための貫通孔である図柄視認窓が形成されている。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern in a way that a fine pattern on an HSQ film is maintained even at a high temperature and a pattern formation object having the fine pattern fabricated in a way that it is maintained event at a high temperature.例文帳に追加

ＨＳＱ膜上の微細パターンが高温度でも維持されるようにするパターン形成方法、および高温度でも維持されるように微細パターンが形成されたパターン形成体を提供する。 - 特許庁

Based on the data replacement information, a receiving device 3-1 replaces the bit pattern at the predetermined position of the data slot with a bit pattern computed by using the same spread code to restore the pattern to the initial bit pattern.例文帳に追加

受信装置３−１は、データ置き換え情報により、データスロットの所定位置のビットパターンを、同じ拡散符号を用いて演算したビットパターンに置き換えて、元のビットパターンに復元する。 - 特許庁

An operation pattern detecting part 33 detects an operation pattern of an operation object person on the basis of the vector area, and a determining part 34 compares and determines whether an operation pattern approximates to a reference pattern.例文帳に追加

動作パターン検出部３３は、ベクトル領域に基づいて操作対象者の動作パターンを検出し、判定部３４は、動作パターンと基準パターンが近似するか否の比較、判定を行う。 - 特許庁

A pattern belt 29 is freely rotatably stretched on respective belt units 21 to 23 of a belt type pattern display device, and the peripheral surfaces of each pattern belt 29 is made into a white pattern display part 29a.例文帳に追加

ベルト式図柄表示装置の各ベルトユニット２１〜２３には図柄ベルト２９が回転自在に展張掛装され、各図柄ベルト２９の周面は白地の図柄表記部２９ａとされている。 - 特許庁

To provide a pattern forming method that may form a permanent pattern such as a wiring pattern with high fineness and preciseness, and sufficient efficiency due to suppressing deformation of an image formed on a pattern forming material.例文帳に追加

前記パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制することにより、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The pattern data extract section 104 extracts particular pattern data among a plurality of pattern data received by the pattern data reception section 103 on the basis of terminal information with respect to the mobile phone 100.例文帳に追加

パターンデータ抽出部１０４は、携帯電話１００に関する端末情報に基づいて、パターンデータ受信部１０３によって受信された複数のパターンデータの中から特定のパターンデータを抽出する。 - 特許庁

A servo controller 140 copies a reference servo pattern and a reference clock pattern onto a surface 1B of a disk 1 by using a reference servo pattern and a reference clock pattern previously recorded on the other surface 1A.例文帳に追加

サーボコントローラ１４０は、ディスク１の一方面１Ａ上に予め記録された基準サーボパターン及び基準クロックパターンを利用して、他方面１Ｂ上に基準サーボパターン及び基準クロックパターンをコピーする。 - 特許庁

If pattern is specified, help gives detailed help on all commands matching pattern ; otherwise help for all the builtins and shell control structures is printed. 例文帳に追加

patternが指定された場合には、helpはこのpatternにマッチする全てのコマンドに関する詳しいヘルプを出力します。 それ以外の場合には、全ての組み込みコマンドと制御構造についての説明が出力されます。 - JM

To provide a circuit pattern detector and circuit pattern inspection method for accurately detecting voltage distribution of a circuit pattern formed on a circuit board optically and inspecting the short or disconnection of the circuit pattern.例文帳に追加

本発明は回路基板上に形成された回路パターンの電圧分布を光学的に精度良く検出し、回路パターンの短絡／断線を検査する回路パターン検出装置および回路パターン検査方法。 - 特許庁

On the conductive layer pattern and the insulating film pattern, a nitride film liner is formed in a thickness wherein a trench restricted by the conducting layer pattern and the insulating film pattern is not buried perfectly.例文帳に追加

導電層パターン及び絶縁膜パターン上には導電層パターン及び絶縁膜パターンによって限定されるトレンチを完全に埋め込まないほどの厚みに窒化膜ライナーが形成されている。 - 特許庁

The measuring unit 3 measures the distance between a dummy pattern and the other pattern based on the layout design data including an element pattern constituting the circuit element of a semiconductor device and a dummy pattern not constituting the circuit element.例文帳に追加

測定部３は、半導体装置の回路素子を構成する素子パターンと、回路素子を構成しないダミーパターンと、を含むレイアウト設計データに基づいて、ダミーパターンと他のパターンとの間隔を測定する。 - 特許庁

To provide a method for correcting a mask pattern for accurately transferring a circuit pattern based on circuit design data, and to provide a mask pattern correction device, a circuit design device and a program for correcting the mask pattern.例文帳に追加

回路設計データに基づいた回路パターンを正確に転写するマスクパターンの補正方法、マスクパターンの補正装置、回路設計装置及びマスクパターンを補正するプログラムマスクパターンを提供する。 - 特許庁

To provide a material for forming a resist pattern coating film, capable of forming the organic coating film on a resist pattern surface, and a method of forming the resist pattern coating film using the material for forming the resist pattern coating film.例文帳に追加

レジストパターン表面に有機の被覆膜を形成できるレジストパターン被覆膜形成用材料、該レジストパターン被覆膜形成用材料を用いたレジストパターン被覆膜形成方法を提供する。 - 特許庁

A woven pattern generator generates a woven pattern image using a selected image and back ground image, and a controller displays the generated woven pattern as a preview picture on a woven pattern image setting picture.例文帳に追加

地紋生成部は選択されたイメージ画像と背景画像を用いて地紋画像を生成し、制御部は生成された地紋画像を地紋画像設定画面上のプレビュー画面に表示させる。 - 特許庁

An uneven pattern 4 is formed on a surface of an inorganic plate 1, and the granular substance 8 for decoration with a color tone that is different from the protruding pattern part 3 is fixed to the recessed pattern part 2 of the uneven pattern 4.例文帳に追加

無機質板１の表面に凹凸模様４が形成され、その凹凸模様４の凹模様部２には凸模様部３とは異なる色調の装飾用粉粒状物８が固着している。 - 特許庁

Preferably, an angle for extracting a pattern in a diameter direction is further set on the basis of the determined rotation quantity, a bit pattern is extracted in the diameter direction and a pattern matching is performed concerning the extracted bit pattern.例文帳に追加

好ましくは、さらに、決定された回転量に基いて径方向のパターンを抽出する角度を設定し、径方向にビットパターンを抽出し、抽出したビットパターンについてパターンマッチングを行う。 - 特許庁

A pattern forming material layer 49 is formed by coating a pattern forming material 48 on a substrate 41 by a coating mechanism 47, and a laser optical system 45 irradiates laser beam LB on the pattern forming material layer 49 formed on the substrate 41 and by sintering the pattern forming material 48, a pattern is formed.例文帳に追加

塗布機構４７が基板４１上にパターン形成材料４８を塗布してパターン形成材料層４９を形成し、レーザ光学系４５が基板４１上に形成されたパターン形成材料層４９にレーザ光ＬＢを照射してパターン形成材料４８を焼結させてパターンを形成する。 - 特許庁

In the pattern inspection of a semiconductor device, a basic pattern used for correcting the mounting position of a sample substrate on a supporting base is recorded previously, the positional shift of mounting is corrected using the basic pattern, the image of a pattern formed on the sample substrate mounted on the supporting base is acquired, and then the defect of the pattern is detected from the image thus acquired.例文帳に追加

半導体装置のパターン検査において、試料基板の支持台に載置する際の載置位置の補正に用いる基本パターンを予め記録し、基本パターンを用いて載置位置のずれを補正して、支持台に載置された試料基板に形成されたパターンの画像を取得し、取得された画像から、パターンの欠陥を検出する。 - 特許庁

The surface of a substrate has a photosensitive material applied thereto and is subjected to exposure and development for forming a resist pattern, a DLC coating film is formed on the surfaces of the substrate and the resist pattern, the DLC coating film formed on the resist pattern is peeled off together with the resist pattern, so as to form a DLC pattern on the surface of the substrate.例文帳に追加

基材の表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成し、該基材及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成し、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、基材の表面にＤＬＣパターンを形成してなるようにした。 - 特許庁

Since the connection conductor pattern 25 is not formed as a conductor on the side of the antenna block 10 but formed as a conductor on the mounting substrate 20, the connection conductor pattern 25 is not influenced by printing precision of a conductor pattern on a base 11 and position accuracy between the connection conductor pattern 25 and the ground pattern 22 is sufficiently secured.例文帳に追加

接続導体パターン２５がアンテナブロック１０側の導体ではなく、実装基板２０上の導体として形成されているため、基体１１上の導体パターンの印刷精度の影響を受けることがなく、接続導体パターン２５とグランドパターン２２との間の位置精度を十分に確保することができる。 - 特許庁

Further, a fourth insulating film 10 is deposited on the first insulating film pattern 9, a resist pattern is formed again, and spacer processing and anisotropic etching processing are performed to form a spacer part with the width F/2 on a line part of the first insulating film pattern 9 and form a line and spacer pattern with a pattern pitch F.例文帳に追加

更に、第１の絶縁膜パターン９上に第４の絶縁膜１０を堆積させ、再びレジストパターン形成、スペーサ加工、及び異方性エッチング処理を施すことで、第１の絶縁膜パターン９のライン部にＦ／２の幅のスペース部を形成してパターンピッチＦのラインアンドスペースパターンを形成する。 - 特許庁

The kind and the quantity of the aromatic substance to be applied to the pattern are set based either on pattern sewing data to sew the pattern or the intrinsic data indicating the attributes or characteristics of the pattern to be sewn based on the pattern sewing data (S105 and S115).例文帳に追加

そして、模様を縫製するための模様縫製データ及び、その模様縫製データに基づき縫製される模様の属性又は特徴を示す固有データの少なくともいずれかに基づき、模様に付与する芳香剤の種類とその付与量とを設定する（Ｓ１０５，Ｓ１１５）。 - 特許庁

The mask for forming a prescribed pattern on a substrate is provided with, the pattern forming member 10 provided with the opening parts 16 corresponding to the prescribed pattern, and the pattern-holding member 12 laminated on the pattern-forming member 10.例文帳に追加

本発明のマスクは、基板上に所定パターンを形成するためのマスクであって、所定パターンに対応する開口部１６が設けられたパターン形成部材１０と、前記パターン形成部材１０の一面に重ねて設けられたパターン保持部材１２と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

Visible light and infrared light after entering a first alignment pattern and a second alignment pattern are focused on a detector by a focusing device and an object is aligned for the following feature pattern based on the detected first alignment pattern and second alignment pattern.例文帳に追加

フォーカシング装置により第１のアライメントパターンおよび第２のアライメントパターンへ入射した後の可視光および赤外光が検出器へフォーカシングされ、検出された第１のアライメントパターンおよび第２のアライメントパターンに基づき後続のフィーチャパターンに対してオブジェクトがアライメントされる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a permanent pattern can be efficiently formed with high definition by using a pattern forming material which suppresses distortion of an image formed on the pattern forming material and excels in conformability to the unevenness of a substrate on which the permanent pattern is formed.例文帳に追加

パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制し、かつ、永久パターンが形成される基体に対して凹凸追従性に優れたパターン形成材料を用いることにより、前記永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁

Dummy patterns 4 are arranged on a membrane film 1 except an exposure region 7, and the pattern rule and pattern density of the dummy patterns 4 is practically made equal to the pattern rule and pattern density of an X-ray absorber pattern 3 which is provided on the membrane film 1 in the exposure region 7.例文帳に追加

露光領域７以外のメンブレン膜１上にダミーパターン４を配置するととも、このダミーパターン４のパターンルール及びパターン密度を露光領域７のメンブレン膜１上に設けたＸ線吸収体パターン３のパターンルール及びパターン密度と実効的に等しくする。 - 特許庁

A circuit board covers the mounted circuit element 5 with the resin mold 7 after mounting the circuit element 5 on a substrate 1, flattens the circuit pattern formation face of the resin mold 7, and forms the circuit pattern 8 such as a wiring pattern and a passive element pattern of an ink jet printing device on the circuit pattern formation face.例文帳に追加

基板１上に回路素子５を実装した後に、実装した回路素子５を樹脂モールド７で覆い、この樹脂モールド７の回路パターン形成面を平坦面として、この回路パターン形成面にインクジェット印刷装置で配線パターン、受動素子パターン等の回路パターン８を形成する。 - 特許庁

To provide a pattern drawing device for drawing a pattern on a substrate which is continuously moved relative to a projection optical system while increasing the moving speed of the substrate to improve the drawing speed of the pattern on the substrate, resulting in the improved pattern drawing efficiency of the pattern drawing device.例文帳に追加

投影光学系に対して相対的に連続移動する基板に対してパターンを描画するパターン描画装置において、基板の移動速度を増大させて基板に対するパターンの描画速度を向上し、パターン描画装置におけるパターンの描画効率を向上する。 - 特許庁

By a pattern forming step, there are formed, on a dielectric substrate 110, a waveguide pattern 120a having a loopback part 123a, a conductor pattern 312 situated on the outer circumference of the loopback part 123a, and a dummy pattern 130a for connecting the loopback part 123a and the conductor pattern 312.例文帳に追加

パターン形成工程によって、折り返し部１２３ａを有する導波路パターン１２０ａと、折り返し部１２３ａの外周側に位置する導体パターン３１２と、折り返し部１２３ａと導体パターン３１２を接続するダミーパターン１３０ａと、を誘電体基板１１０上に形成する。 - 特許庁

A text pattern generating device 11 acquires a test pattern with pattern length based on an index value by automatic test pattern generation (ATPG) based on a net list 21 of an LSI, and extracts only a part related with a circuit function operation, and outputs it as a test pattern 18 for power analysis.例文帳に追加

ＬＳＩのネットリスト２１をもとに、テストパターン生成装置１１は、自動テストパターン生成（ＡＴＰＧ）により指標値に基づくパターン長のテストパターンを得、そのうち回路機能動作に関する部分のみを抽出して電力解析用テストパターン１８として出力する。 - 特許庁

Based on the displacement quantity of both patterns to be obtained by measuring an alignment mark for a light shielding pattern and an alignment mark for the phase shift pattern, displacement quantity of pieces of design data of both patterns is compensated and pattern defect inspection of a pattern to be inspected is performed on the basis of a reference pattern obtained by compensation of the displacement quantity.例文帳に追加

遮光パターン用のアライメントマークと位相シフトパターン用のアライメントマークを計測して得られる両パターンの位置ずれ量に基づき、両パターンの設計データの位置ずれ量を補正し、それにより得られた参照パターンを基準として披検査パターンのパターン欠陥検査を行う。 - 特許庁