「pattern space」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The distribution condition of the measurement data collected by a plurality of sensors installed on a blast furnace facility is arranged on the two-dimensional plane or three-dimensional space reflecting the installation positions of each sensor on the blast furnace facility, the pattern formed by the measurement data using isopleths or the like, and the pattern or the characteristics information of the pattern is operated by the image processing.例文帳に追加

高炉設備上に複数設置される各種センサで収集した計測データの分布状態を、各センサの高炉設備上の設置位置を反映させた２次元平面又は３次元空間上に配置し、計測データによって等値線等で形成される図形を演算し、その図形又は図形の特徴情報を画像処理によって演算する。 - 特許庁

To enable multicolor superimposition printing at least positioned in high accuracy in a case of printing the pattern on the web film base material by forming a pattern by a first transfer on a roll-to-roll continuous film and conducting a second transfer at the pattern formed by the first transfer to the web film base material, and further achieve space saving in an alignment mechanism.例文帳に追加

ロール・ツー・ロールの連続したウェブフィルムに一次転写によりパターンを形成し、更に、一次転写により形成されたパターンをウェブフィルム基材に二次転写することにより、ウェブフィルム基材にパターンを印刷する場合に、少なくとも、高精度に位置決めされた多色重ね合わせ印刷を可能にし、さらには、アライメント機構を省スペースにする。 - 特許庁

A concentration height pattern of a photocarrier near the semiconductor substrate surface generated through the irradiation by the irradiation sections causes the pattern different in the complex refractive index from the electromagnetic waves 02 of the wavelength having the photon energy lower than that of the band gap energy of the semiconductor substrate 01, thereby controlling the space propagation state of the electromagnetic waves 02 with which the surface of the pattern is irradiated.例文帳に追加

照射部による照射で生じた半導体基板表面近傍のフォトキャリアの濃度高低パターンが、半導体基板01のバンドギャップエネルギーより低い光子エネルギーを持つ波長の電磁波02に対して複素屈折率が異なるパターンを生じさせることによって、このパターン上に照射される電磁波02の空間伝搬状態を制御する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition for a chemical amplification type negative type resist applicable to an alkali developing solution of ordinary concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern with respect to an ordinary line-and-space pattern, free of resist pattern defects (bridging and chipping) after development and excellent also in sensitivity, developability, dimensional faithfulness, etc.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、かつ通常のライン・アンド・スペースパターンにおいて、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、現像後にレジストパターン欠陥(橋架け(ブリッジング)、欠け）がなく、感度、現像性、寸法忠実度等にも優れる化学増幅型ネガ型レジストのためのネガ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The formed body for the pattern roller comprising a space part 1a and a coating material contact part 1b and having the pattern for forming the rugged pattern on a coating film comprises at least two or more layers including the outermost layer 1 and an inner layer 2 in contact with the outermost layer 1 and at least one inner layer in the inner layers has a function passing the coating material.例文帳に追加

空間部１ａと塗料接触部１ｂからなり、塗膜の凹凸模様を作製するパターンが形成されたパターンローラ用成形体であって、最外層１およびこれと接する内層２を含む少なくとも２以上の層からなり、該内層の少なくとも１つの内層が塗料を通過させる機能を有することを特徴とする。 - 特許庁

In an independent space heating operation, a combustor is burnt in a combustion pattern according to the required heat energy of a space heating terminal, and in the other operation except for the independent space heating operation, the combustor is burnt in a combustion pattern according to the required heat energy of a hot water supply terminal.例文帳に追加

熱源部６で加熱された湯水を循環させる熱源循環回路３２に、給湯回路２９と暖房回路３５を直接または熱交換器４２を介して接続し、給湯または暖房またはこれら双方を同時に行う加熱装置であって、暖房単独運転時には、燃焼機を暖房端末の要する熱エネルギーに応じた燃焼パターンで燃焼させ、暖房単独運転を除く他の運転時には、燃焼機を給湯端末の要する熱エネルギーに応じた燃焼パターンで燃焼させる。 - 特許庁

The gas containing a solvent delivered to a reflow processing space S forms a unidirectional flow toward the solvent suction port 75 and when the solvent in the atmosphere of the reflow processing space is sucked to a resist on the surface of the substrate G, the resist is softened and fluidized, thus forming a deformation resist pattern.例文帳に追加

リフロー処理空間Ｓへ吐出された溶剤を含む気体は、溶剤吸入口７５へ向かう一方向の流れを形成し、基板Ｇ表面のレジストにリフロー処理空間の雰囲気中の溶剤が吸収されることにより、レジストが軟化して流動化し、変形レジストパターンが形成される。 - 特許庁

In the method for manufacturing a color filter by forming a pattern of a black matrix on a transparent substrate and depositing ink in the space in the black matrix, the critical surface tension of the space in the black matrix is equal to or lower than the surface tension of the ink.例文帳に追加

透明基板上にブラックマトリックスのパターンを形成し、該ブラックマトリックスの間隙部にインクを付着させるカラーフィルターの作製方法において、前記ブラックマトリックスの間隙部の臨界表面張力が前記インクの表面張力以下であることを特徴とするカラーフィルターの作製方法。 - 特許庁

In this finger vein pattern input device, the artificial nail space part 25 is formed with a sufficient gap so that the artificial nail mounted on the nail of the finger is not brought into contact with the peripheral wall of a finger placing table when a finger is set on the finger placing table as a long and thin hole-like shape continued to an internal space part.例文帳に追加

指が指置き台に設置されたときに、当該指の爪に取り付けられた付け爪が周囲壁に接触することない充分な間隙が許容されて配置可能とする付け爪逃がし空間部が内部空間部に連続する形で細長い穴状形状として形成される。 - 特許庁

A ceramic powder is sprayed on the glass substrate made of front plate or rear plate and a discharge space is formed by making pattern cutting, and an ink is applied on the screen block using the block of the screen process printing, and, then, a high pressure gas is sprayed, thereby, an address electrode or the like is formed in the discharge space.例文帳に追加

前面板もしくは背面板のガラス基板にセラミック粉体を吹き付けパターン切削加工することにより放電空間を形成し、スクリーン印刷の版を使用してインクをスクリーン版に塗布後高圧ガスを吹きつけることにより放電空間内にアドレス電極等を形成する。 - 特許庁

Further, an elevating/lowering mechanism 18 to coaxially move the annular body 2 in an annular space of the heating coil 4, an annular space of the cooling jacket 6 and the inside of the outside diameter restraining pattern 8 and rotating means 10, 12 to rotate the annular body 2 moved into the heating coil 4 are provided in the corrective hardening device.例文帳に追加

また、環状体２を加熱コイル４の環状空間、冷却ジャケット６の環状空間及び外径拘束型８の内部に同軸に移動させる昇降機構１８と、加熱コイル４内に移動した環状体２を回転させる回転手段１０，１２とを備えている。 - 特許庁

A space at each of different positions decided beforehand in all space to which position information can be given by dot pattern is assigned in a plurality of entry frames provided in a form, and definition information for every forms is associated with to the relation of assignment of the plurality of entry forms and spaces.例文帳に追加

帳票に設けられた複数の記入枠に、ドットパターンにより位置情報を与え得る全空間の中で予め決められた各々異なる位置の空間を割り当て、複数の記入枠と空間との割り当ての関係に対して帳票ごとの定義情報を対応付けておく。 - 特許庁

The transmitter, having an array antenna first uses a beam- forming network to estimate a transmission line space gain pattern, estimates the number of transmission beams and an angle of each beam, applies the beam space - time block coding processing to an input signal, and transmits the coded signal.例文帳に追加

アレイアンテナを有する送信機において、まずビームフォーミングネットワークを用いて、伝送路空間利得パターンを推定し、そして送信用ビーム数及び各ビームの角度を推定し、入力信号に対してビーム空間−時間ブロック符号化処理を行い、符号化した信号を送信する。 - 特許庁

The annular wiring material unit 32 is disposed in the outer circumferential part of the gradient magnetic field coil 2 to secure a space in the internal circumferential side of the gradient magnetic field coil 2, namely, secure a space where the subject is placed without narrowing it, and to axially expand the pattern area of the gradient magnetic field coil 2.例文帳に追加

円環状の配線材ユニット３２を傾斜磁場コイル２の外周部に配置することで、傾斜磁場コイル２の内周側のスペース、つまり、被検体が配置される空間を狭めること無く確保し、かつ、傾斜磁場コイル２のパターン領域を軸方向に拡張することができる。 - 特許庁

Moreover, a recording method for recording a pattern which includes a long mark or a long space having a length being 10 times the recording channel bit length or more so as to cover the prepits on the recording track with the long mark or the long space on the prepit formation area is used with respect to the medium.例文帳に追加

また、その媒体に対して、前記プリピット形成領域上では、記録トラック上の前記プリピットを長マークあるいは長スペースで覆うように、記録チャネルビット長の１０倍以上の長さをもつ長マークあるいは長スペースを含むパターンを記録する記録方法を用いる。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition suitable for use as a chemical amplification type negative type resist developable with an alkali developing solution having the conventional concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern in an ordinary line-and- space pattern (1L1S) and excellent also in focus latitude.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、通常のライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）において、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、かつフォーカス余裕度にも優れた化学増幅型ネガ型レジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that is satisfactory with respect to high sensitivity, high resolution of a dense pattern and an isolated line, sufficient exposure latitude, proper line width roughness, proper bridge margin and high resolution of isolated space, and to provide a method for forming a pattern using the composition.例文帳に追加

高感度、密集パターンおよび孤立ラインの高解像性、十分な露光余裕度、良好なラインウィズスラフネス、良好なブリッジマージン、孤立スペースの高解像性を同時に満足する感活性光線または感放射線樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask and a method for manufacturing a photomask, which achieve patterning without requiring an additional investment even when a line-and-space pattern having a fine pitch width is to be formed on a process object, and to provide a method for manufacturing a liquid crystal display device and a method for transferring a pattern.例文帳に追加

被加工体に微細なピッチ幅のライン・アンド・スペース・パターンを形成する場合であっても、追加投資を殆ど必要とせずにパターニングを行うことができるフォトマスク、フォトマスクの製造方法、液晶表示装置の作製方法及びパターン転写方法を提供することを目的の一とする。 - 特許庁

A soldered domain extraction means 14 extracts a soldered domain by comparing the RGB color image with the HSV color space image, and a land domain extraction means 15 performs pattern matching of the RGB color image with model data generated by a model data generation means 11 for pattern matching to specify a land domain.例文帳に追加

半田領域抽出手段１４はＲＧＢカラー画像をＨＳＶ色空間画像と比較して半田領域を抽出し、ランド領域抽出手段１５はパターンマッチング用モデルデータ作成手段１１の作成したモデルデータでＲＧＢカラー画像をパターンマッチングしてランド領域を特定する。 - 特許庁

Counterfeit prevention property is enhanced by disposing an electroluminescence element having a hologram relief pattern and is configured in such a manner that only when a prescribed voltage is applied to the electroluminescence element, a hologram pattern at a prescribed visible light wavelength appears in a space, and thereby, authenticity of the hologram can be visually checked.例文帳に追加

ホログラムレリーフの形状を有するエレクトロルミネッセンス素子を設け、そのエレクトロルミネッセンス素子が、所定の電圧を印加したときのみ、空間にその所定の可視光波長のホログラムが浮き上がり、そのことによって、そのホログラムが真正品であると、目視にて判定可能とし、偽造防止性を高めた。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a microchip that easily disposes vents for preventing non-junction without any arrangement and space limitations and can be disposed easily to a channel pattern in a miniaturized and integrated microchip having a complex channel pattern.例文帳に追加

複雑な流路パターンを有し、小型化、集積化したマイクロチップにおいて、未接合を防止する脱気孔を配置制限やスペース制限を受けることなく簡易に配置することができ、また流路パターンに適合するように簡易に配置することができるマイクロチップの製造方法を提供すること。 - 特許庁

A inspecting pattern, which is etched through the intermediary of the checking resist patterns 31a and 31b, is observed visually through an optical microscope, it is determined whether or not space between the checking patterns is within an proper range, and it is inspected as to whether the wiring pattern 20 of a product is properly etched.例文帳に追加

検査用レジストパターン３１ａ，３１ｂを介してエッチングされる検査パターンを光学顕微鏡を通して目視し、この検査パターン間の間隔が所定の適正範囲内になっているか否かを判定することにより、製品の配線パターン２０が適正にエッチングされているか否かを検査する。 - 特許庁

To suppress an influence of noise in the case of deciding true or false of the medium by acquiring a pattern of a fiber formed on a surface of a medium from an image expressed by a device color space, and by comparing an image indicating the pattern with an image registered in advance.例文帳に追加

デバイス色空間で表現された画像から、媒体の表面に形成された繊維の紋様を取得し、当該紋様を示す画像を予め登録された画像と比較することで当該媒体の真贋を判定する場合、におけるノイズの影響を抑制させること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, roughness property, and resolution of isolated space patterns, and allows formation of a pattern having a good profile, as well as an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

感度、ラフネス特性、孤立スペースパターンの解像性に優れ、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及び、パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

By moving two opposite sides of a rectangle of a first IC 10 in parallel in a slant direction to the direction of arrangement pattern formation, it is possible to widely replace a second IC 20 with a different input/output pattern within the mounting space of the wiring board 1.例文帳に追加

第一ＩＣ１０の長方形状の対向２辺を配列パターンの形成方向に対して斜め方向に平行移動することによって、入出力パターンの異なる第二ＩＣ２０であっても、配線基板１の実装スペース内で広範に取り替え実装することができる。 - 特許庁

Since the grid pattern of each division is subjected to boundary treatment, pattern elements are connected on both sides of a splitting line, thereby, when mutually complementary masks are switched in the exposure, even if a relative displacement occurs, a poor exposure hardly occurs due to the spreading of the width of space.例文帳に追加

各分割領域の格子パターンに対し境界処理が行われているので、分割線の両側でパターン要素が接続され、これにより、露光において互いにコンプリメンタリーなマスクを切り替えた場合、相対的な位置ずれが生じても、スペース幅が広がることによる露光不足が生じ難い。 - 特許庁

In the method for forming the fine pattern using a composition for a photoresist coating, by coating the already formed photoresist pattern with the composition for the photoresist coating containing a water soluble polymer and an aqueous solvent, sizes of a photoresist contact hole and a space are effectively reduced.例文帳に追加

フォトレジストコーティング用組成物を用いた微細パターン形成方法において、水溶性重合体と水性溶媒を含むフォトレジストコーティング用組成物を既に形成されたフォトレジストパターン上にコーティングさせることにより、フォトレジストコンタクトホールや余白の大きさを効果的に低減する。 - 特許庁

An image processing apparatus detects a pattern comprising the specific marks arranged at a space along at least one side of an original from received image data, and applies processing to the image data when the pattern is detected in a different way from the processing applied to the image data when not detected.例文帳に追加

画像処理装置において、入力された画像データから、原稿の少なくとも１つの辺にそった余白に配置されている複数の特定マークからなるパターンを検出し、検出された場合に、画像データに対して、検出されない場合とは異なる処理を行う。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition developable with an alkali developing solution having a normal concentration, capable of forming a resist pattern having high resolution and a rectangular cross-sectional shape as an ordinary line-and-space pattern and excellent also in sensitivity, developability, dimensional faithfulness, etc.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液を適用でき、かつ通常のライン・アンド・スペースパターンにおいて、高解像度で断面形状が矩形であるレジストパターンを形成することができ、感度、現像性、寸法忠実度等にも優れるネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner which prevents the mixing of atmosphere from outside into a substitution space upon exchanging and adjusting a component in the optical system of the exposure device for transferring the mask pattern of a mask with a transferring pattern, onto a photoreceptor by illumination light for exposure.例文帳に追加

転写用パターンが形成されたマスクのマスクパターンを露光用の照明光により感光体上に転写する露光装置の光学系において、部品交換及び調整を行う際に、置換空間に外部から大気の混入を防止する露光装置を提供する。 - 特許庁

There is formed a space part surrounded by the first and second antenna patterns 19, 20 is formed and a third pattern composed of an extension part 23a and a top part 23b is formed there.例文帳に追加

第１アンテナパターン１９と第２アンテナパターン２０とで囲まれた空間部が形成されており、この空間部に延伸部２３ａとトップ部２３ｂからなる矢印状の第３パターンが形成されている。 - 特許庁

To provide a light source device capable of suppressing the occurrence of a spot pattern, without causing the utilization efficiency of the light emitted from a diffraction optical element to reduce, and achieving the downsizing and space-saving thereof, and to provide a projector.例文帳に追加

回折光学素子から射出された光の利用効率の低下させることなく斑模様を抑え、装置の小型化，省スペース化が可能な光源装置及びプロジェクタを提供すること。 - 特許庁

To reduce packing and transportation costs by shortening the depth of a casing without damaging a basic installation pattern where a storage device is arranged with a space in the backside of an electronic device.例文帳に追加

電子機器の背部に間隔を隔てて記憶装置を配備するという基本的な設置パターンを損なうことなく、筐体の奥行寸法をさらに短くして梱包費用や搬送費用を削減する。 - 特許庁

When a control part 113 designates a calibration pattern in DMD 106, LED light from a LED light source 116 is space-modulated by the DMD 106 and is irradiated on a workpiece 102.例文帳に追加

制御部１１３がＤＭＤ１０６にキャリブレーションパターンを指定すると、ＬＥＤ光源１１６からのＬＥＤ光は、ＤＭＤ１０６により空間変調されて被加工物１０２上に照射される。 - 特許庁

In this method, the surface to be pressed to a product is made same face as that of the thermally conductive plate, thereby the white space pattern and the oven-baked part become a same face.例文帳に追加

前記嵌込型部材の押圧面を前記熱伝導板の押圧面と同一平面とすることにより、前記白抜き模様と天焼き部分とを同一平面とする白抜き天焼き製品の製造方法。 - 特許庁

An exposure apparatus fills a liquid in at least one part of a space between a projection optical system and a substrate, projects the image of a pattern via the projection optical system and the liquid onto the substrate, and exposes the substrate.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系と基板との間の少なくとも一部を液体で満たし、投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影し、基板を露光する。 - 特許庁

In this exposure apparatus, at least a portion of a space between a projection optical system and a substrate is filled with a liquid, the image of the pattern is projected on the substrate via the projection optical system and the liquid to expose the substrate.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系と基板との間の少なくとも一部を液体で満たし、投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影し、基板を露光する。 - 特許庁

At this time, the inclination and height of the micro pipe is adjusted in advance to expose so that the exposure beam spot is applied by a constant shape and size all the time, and a spiral space pattern with uniform line width is formed.例文帳に追加

その際、露光ビームのスポットが常に一定の形状、大きさで当たるように、予めマイクロパイプの傾斜・高さを調整してから露光し、均一な線幅の螺線スペースパターンを形成する。 - 特許庁

Then, a P-type impurity is injected selectively into the P-type transistor formed region in which the P-type gate pattern 110b and the first space have been formed and thus a CMOS transistor is formed.例文帳に追加

そして、前記Ｐ型ゲートパターン１１０ｂ及び第１スペーサが形成された前記Ｐ型トランジスタ形成領域に選択的にＰ型不純物を注入してＣＭＯＳトランジスタを形成する。 - 特許庁

To provide a display device capable of reducing a space occupied by a wiring pattern group as compared with the conventional product without depending on positions of a driving part and a terminal and in which there is no fear of increase in wiring resistance and disconnection.例文帳に追加

駆動部や端子の位置によらず、配線パターン群の占めるスペースを従来よりも減少させることができ、かつ配線抵抗の増大や断線の恐れがない表示装置を提供する。 - 特許庁

The pattern sleeve 26 having a plurality of groove parts 27 arranged at the predetermined space in the circumferential direction on the inner circumference face is installed on the outside of the belt sleeve 11, and its circumference is covered with a jacket 28 and vulcanized.例文帳に追加

そして、内周面に周方向に所定の間隔で配置された複数の溝部２７が形成されたパターンスリーブ２６をベルトスリーブ１１の外側に設置し、その周囲をジャケット２８で覆い、加硫する。 - 特許庁

In an optical position detector, a light receiving section 13 receives detection light which is reflected by a target object located in a detection target space in which detection light is emitted in a radial pattern.例文帳に追加

光学式位置検出装置において、受光部１３は、検出光が放射状に出射された検出対象空間に位置する対象物体で反射した検出光を受光する。 - 特許庁

Cut lines b_n parallel to a main scanning direction are formed in each block pattern, and the cut lines b_n are shifted by a prescribed space to the paper feeding direction between the adjacent block patterns.例文帳に追加

それぞれのブロックパターンには主走査方向に平行なカット用ラインｂ_ｎが形成され、且つ、隣接するブロックパターンとの間においては、カット用ラインｂ_ｎは紙送り方向に所定の間隔だけずれている。 - 特許庁

A mark is formed or a space is formed by using a recording waveform having an erase-pattern including a predetermined pulse whose high level is higher than an erase-power level and whose low level is lower than the erase-power level.例文帳に追加

上位レベルは消去パワーレベルより高くて下位レベルは消去パワーレベルより低い所定のパルスを含む消去パターンを有した記録波形を用いてマークを形成するか、スペースを形成する。 - 特許庁

To provide sensitivity information with respect to hundreds to thousands of sensitivity expressions by extracting a predetermined co-occurrence pattern of a sensitivity expression and a pole expression on a sensitivity space from a text.例文帳に追加

テキストから感性表現と感性空間上の極表現との特定の共起パタンを抽出することにより、数百〜数千の感性表現に対する感性情報の付与を可能とすること。 - 特許庁