「pattern support」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

A flexible circuit board 30 having a switch pattern 33 is mounted on a board-support holder 50 made of synthetic resin by insert-molding.例文帳に追加

スイッチパターン３３を設けたフレキシブル回路基板３０を合成樹脂製の基板保持台５０上にインサート成形によって取り付ける。 - 特許庁

To provide a transfer film capable of preventing the generation of a pattern flaw due to bad photosensitivity by preventing adhesion of dust to a support film.例文帳に追加

支持フィルムへの塵の付着を防止して感光不良によるパターン欠陥の発生を防ぐことができる転写フィルムを提供する。 - 特許庁

A cloth 6A is arranged at the adjusting area Aa of a support surface 21 of a cutting table 2, after the adjustment of the position of the cutting pattern 7 is carried out, and arrangement data for presenting the cutting pattern 7 is generated.例文帳に追加

裁断テーブル２の支持面２１の調整領域Ａａに布地６Ａを配置し、裁断パターン７の位置の調整が行われた後、裁断パターン７を表す配置データを作成する。 - 特許庁

The wiring pattern 133 and the periphery pattern 134 are directly jointed to the first electrically insulating layer 144 to stick the first semiconductor substrate 120 to the support substrate 140 to each other.例文帳に追加

そして、配線部パターン１３３および周辺部パターン１３４を第１絶縁層１４４に直接接合することにより、第１半導体基板１２０と支持基板１４０とを貼り合わせる。 - 特許庁

After the substrate is activated by laser beams to form a metalized pattern thereon, the pattern is connected to a part which is not covered by the first support substrate 3, then an electrical conductor device 5 is manufactured.例文帳に追加

レーザーによる活性化により、その上に金属化パターンを形成し、こうしたパターンは、第１支持基板3の覆われていない部分に接続され、その後、電気的コンダクタ装置5が製造される。 - 特許庁

The screen mask including a mask pattern disposed on a mesh-like support and its manufacturing method are characterized in that a convex part is formed on at least the outline of the mask pattern.例文帳に追加

メッシュ状の支持体にマスクパターンが配設されたスクリーン印刷用のスクリーンマスクであって、前記マスクパターンの少なくとも輪郭部に凸部が形成されたことを特徴とするスクリーンマスク、およびその製造法。 - 特許庁

The multi-pattern substrate is led along the guide inclined surface 22, the insertion 21 is inserted into the notch, and the multi-patten substrate is supported by the substrate support 23 for fixing the multi-pattern board to the inspection base.例文帳に追加

多面取り基板がガイド傾斜面２２に沿って導かれ、挿入部２１が切り欠きに挿入され、基板支持部２３が多面取り基板を支持することで多面取り基板を検査台に固定する。 - 特許庁

The superposition pattern includes a plurality of pattern elements equally distributed on a first circle and a second circle different in size to be used as a support for providing a suture line in the process of implanting a cornea.例文帳に追加

前記重畳パターンは、角膜移植中に縫合線を設けるためのサポートとするために、大きさの異なる第１円及び第２円上に同等に分布する複数のパターン要素を含んでいる。 - 特許庁

In the supporting apparatus, the distortion-elimination condition data corresponding to the distortion pattern most approximating the distortion pattern data most are read from the support database for displaying the distortion-elimination condition data as guidance information.例文帳に追加

そして、支援装置では、歪パターンデータに最も近似する歪パターンに対応する歪取り条件データを支援データベースから読みだして当該歪取り条件データをガイダンス情報として表示する。 - 特許庁

The wiring support substrate is separated from the molding to expose from the molding a main surface of the wiring pattern opposite to a main surface where the wiring pattern is connected to the electrodes (step S3).例文帳に追加

次に、配線支持基材を成形体から離し、配線パターンが上記の電極と接続している主面とは反対側の配線パターンの主面を成形体から表出させる（ステップＳ３）。 - 特許庁

A part of light shielding lines L or the whole light shielding lines L laid in a dense part of the mask pattern P on a light transmitting support 12 are partially split by an unresolved pattern.例文帳に追加

透光性の支持体１２上のマスクパターンＰに、その密集部分に配置される一部の遮光ラインＬあるいは全部の遮光ラインＬ上を解像されない形状で部分的に刳り貫く。 - 特許庁

The device further has a support constructed to support a patterning device, the patterning device can give a pattern to a cross-section of an illuminating radiation beam to form a patternized radiation beam.例文帳に追加

装置はさらに、パターニングデバイスを支持するように構築された支持体を有し、パターニングデバイスは、パターン形成した放射線ビームを形成するために、照明放射線ビームの断面にパターンを与えることができる。 - 特許庁

To solve the problem wherein a multilayered wiring structure is hardly provided to a semiconductor device, and an insulating resin sheet is markedly warped in a manufacturing process of the semiconductor device which is composed of a support board of a flexible sheet with a conductive pattern and a semiconductor element mounted on the support board and all sealed up with resin.例文帳に追加

従来、導電パターンを持ったフレキシブルシートを支持基板として採用し、この上に半導体素子を実装し、全体をモールドした半導体装置が開発されている。 - 特許庁

The pattern of a contact area between the device and the support body is altered by changing the form of the support body, thereby enabling decreasing of the closed region during the washing, disinfecting or sterilizing treatment.例文帳に追加

支持体の形態を変化させることにより装置と支持体との間における接触領域のパターンを変更して、洗浄、消毒または滅菌処理中における閉塞領域を減少できる。 - 特許庁

The common substrate 20 is equipped with a support substrate 21, an electric wiring pattern 26 formed on the surface of the support substrate, and an insulating layer 21i having relief grooves 22a and 22b and a contact hole 22c.例文帳に追加

共通基板２０は支持基板２１と、支持基板表面に形成された電気配線用配線パターン２６と、逃げ溝２２ａ，２２ｂとコンタクトホール２２ｃを有する絶縁層２１ｉを具備している。 - 特許庁

Then, with the resist pattern 9 as a mask; the support 7', the Si layer 5, and the SiGe layer 3 are subjected to dry etching successively, and an open surface H for exposing the side of the SiGe layer 3 is formed under the support 7'.例文帳に追加

次に、レジストパターン９をマスクに支持体７´、Ｓｉ層５及びＳｉＧｅ層３を順次ドライエッチングして、支持体７´下にＳｉＧｅ層３の側面を露出する開口面Ｈを形成する。 - 特許庁

In the method and apparatus for compacting support particulates media around ceramic shell molds and around fugitive patterns, the mold or pattern is placed in a container and the container is filled with support particulates media.例文帳に追加

セラミックシェル鋳型周囲および消失模型周囲の支持粒子媒体を詰固める方法および装置において、この鋳型または模型はコンテナに配置され、このコンテナは支持粒子媒体で充填される。 - 特許庁

In the pattern electrode forming process of the manufacturing method, after the pattern electrodes 2 are formed on the flat face S of the support plate 1, it is desirable to make the surfaces of the pattern electrodes 2 rough and it is also desirable to form the pattern electrodes 2 after mold release is applied to the flat face S.例文帳に追加

前記製造方法のパターン電極形成工程において、前記支持板１の平坦面Ｓにパターン電極２を形成した後、そのパターン電極２の表面を粗面にすることが好ましく、また前記平坦面Ｓに離型剤を塗布した後、パターン電極２を形成することが好ましい。 - 特許庁

The screen 20 which has the diffusion function of diffusing incident light and also includes a pattern 22b for coordinate recognition wherein coordinates on a surface 20a are patterned by the predetermined algorithm, includes a support base material 21 and the layer of the pattern 22 for the coordinate recognition, which is supported by the support base material 21 and includes the pattern 22b for the coordinate recognition.例文帳に追加

入射した光を拡散させる拡散機能を持つとともに、表面２０ａ上の座標が所定のアルゴリズムでパターン化された座標認識用パターン２２ｂを含むスクリーン２０は、支持用基材２１と、支持用基材２１により支持され、座標認識用パターン２２ｂを含む座標認識用パターン２２層とを備えている。 - 特許庁

The pattern forming material has on a support a pattern forming layer comprising a high molecular compound having a functional group whose hydrophilicity or hydrophobicity is varied by light and having a structure which can directly be bonded to the top of the support by a chemical bond, wherein the pattern forming layer is irradiated with light of ≤700 nm to vary the hydrophilicity or hydrophobicity of the surface of the pattern forming layer.例文帳に追加

支持体上に、光により親疎水性が変化する官能基を有し、かつ、該支持体上に直接化学結合により結合されうる構造を有する高分子化合物からなるパターン形成層を備え、該パターン形成層に、７００ｎｍ以下の光照射を行って、パターン形成層表面の親疎水性を変化させることを特徴とするパターン形成材料、及びそれを用いた画像形成材料。 - 特許庁

A translucent conductive substrate comprises a thinning pattern formed of a conductive metal containing developing silver and a transparent conductive layer on a support, and an easy adhesion layer having a swelling humidity ratio to water of less than 60% between the support and the thinning pattern.例文帳に追加

支持体上に、現像銀を含む導電性金属からなる細線パターンと、透明導電性層とを有し、支持体と該細線パターンとの間に、水に対する膨湿率が６０％未満である易接着層を有することを特徴とする、透光性導電性基材。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transfer mask, a transfer mask and an exposure method by the use of a photoresist which is free from partial peeling and cracks even if the film thickness of the resist pattern is increased when a support layer opening is formed by forming the resist pattern by the use of the photoresist on the silicon support layer.例文帳に追加

シリコン支持層にフォトレジストにてレジストパターンを形成して支持層開口部を形成する際、レジストパターンの膜厚を厚くしても部分剥離、亀裂等が発生しないフォトレジストを用いた転写マスクの製造方法、転写マスク及び露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method capable of inhibiting damage to an uneven pattern of a matrix by forming a crack-free metal film on the uneven pattern of the matrix and capable of manufacturing a metal fine structure by transferring the metal film having the uneven pattern reflected to a support member.例文帳に追加

母型の凹凸パターンにクラックの無い金属膜を形成し、母型の凹凸パターンの破損を抑制するとともに凹凸パターンが反映された金属膜を支持部材に転写して金属微細構造体を製造することができる方法を提供する。 - 特許庁

The hole pattern 26 and the support body 21 makes a pendulum swing once at least, making the bonding ball 28 flow from a reservoir 200 united with the hole pattern 26 and each hole 27 is filled with the bonding ball 28 by crossing over the surface of the pattern, and is arranged at the position corresponding to the substrate.例文帳に追加

孔型版26および支持体21を少なくとも一回振り子運動させて、接続球28を孔型版26と一体な貯蔵器200から流し、孔型版の表面上を横切って孔型版の各孔27に接続球28を充填し、基板の対応する位置に設置する。 - 特許庁

The pattern forming material comprises a support and at least a photosensitive layer on the support, wherein the support has a haze value of ≤5.0%, and the photosensitive layer contains a polymerization inhibitor, a binder, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator and an adhesion accelerator.例文帳に追加

支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、前記支持体のヘイズ値が５．０％以下であり、前記感光層が、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び密着促進剤を含有するパターン形成材料である。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method for forming a resist pattern on a support by two or more patterning operations using a chemically-amplified resist composition, to reduce damage from the second patterning to the first resist pattern formed by the first patterning, and a resist composition useful for forming the first resist pattern in the resist pattern forming method.例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物を用い、パターニングを２回以上行って支持体上にレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法において、２回目のパターニングが、１回目のパターニングで形成した第一のレジストパターンに与えるダメージを低減できるレジストパターン形成方法、および該レジストパターン形成方法における第一のレジストパターン形成用として有用なレジスト組成物の提供。 - 特許庁

This construction material design support system is provided with a surface pattern data file for storing an initial display unit DU being initial display region data in a surface pattern repetition unit CU, and configured to display a region expressing the characteristics of the surface pattern in the surface pattern repetition unit CU as the initial display unit DU at first at the time of selecting and displaying each surface pattern.例文帳に追加

表面柄繰返しユニットＣＵの中の初期表示領域データである初期表示ユニットＤＵを記憶する表面柄パターンデータファイルを備え、各表面柄パターンを選択して表示する際に、表面柄繰返しユニットＣＵの中のその表面柄の特徴をよく表す領域を初期表示ユニットＤＵとして最初に表示する建築材設計支援システム。 - 特許庁

Besides, a cell gap support pattern for maintaining an intra-plane of the cell gap uniformly is placed in a seal SL forming area of the thin film transistor substrate SUB1.例文帳に追加

また、薄膜トランジスタ基板ＳＵＢ１のシールＳＬ形成領域にセルギャップを面内均一に維持するセルギャップ支持パターンを配置した。 - 特許庁

A pattern transfer paper 1 comprising a water-absorbing support 2, a water-soluble layer 3 to be provided thereon and an image carrying layer 5 to be provided thereon is used.例文帳に追加

吸水性の支持体２とその上に設ける水溶層３とその上に設ける像担持層５とからなる絵柄転写紙１を用いる。 - 特許庁

To reduce the total volume of pattern sketch data and easily prepare a sash working drawing in a short time, in a support program for a sash working drawing preparation.例文帳に追加

サッシの施工図作成支援プログラムにおいて、型図データ全体のデータ量を削減し、また、サッシの施工図を短時間で容易に作成する。 - 特許庁

The test piece 2 is supported on a support 11 so that the thin film pattern is turned downward and a pressure body 10 is allowed to fall to apply load to the test piece 2 to perform a bending test.例文帳に追加

試験片２を薄膜パターン側を下にして支持体１１で支持し加圧体１０を下降させて荷重を加え曲げ試験を行う。 - 特許庁

The pattern forming transfer film comprises (A) a resist layer, (B) a metallic layer and (C) an adhesive layer, which are successively laminated on a support film.例文帳に追加

支持フィルム上に、（Ａ）レジスト層、（Ｂ）金属層、および（Ｃ）粘着層が積層されていることを特徴とするパターン形成用転写フィルム。 - 特許庁

To provide a high-frequency circuit board that employs an electrode pattern, allowing package to be made compact and multi-functional support and has proper isolation characteristics.例文帳に追加

パッケージの小型化，多機能化に対応できる電極パターンを有し、良好なアイソレーション特性を有する高周波回路基板を提供する。 - 特許庁

Therefore the support 22, the longitudinally supporting bracket 24, and the laterally supporting bracket 25 can positively fix the pattern changeover valve 19 which is located at the high location.例文帳に追加

従って、支柱２２、前後支持ブラケット２４、左右支持ブラケット２５は、高い位置に配置したパターン切換弁１９を確実に固定できる。 - 特許庁

After the thin film pattern layer 12 is welded to a support substrate 11, the substrate 31 is peeled with a separation layer 32A of the porous layer 32 as the boundary.例文帳に追加

薄膜パターン層１２を支持基板１１に融着した後、多孔質層３２の分離層３２Ａを境として基板３１を剥離する。 - 特許庁

A square conductive pattern 16 is formed flatly from conductive material on a printed circuit board 14 working as a support part of a sensor body 12.例文帳に追加

センサ本体１２の支持部分となるプリント基板１４上に、正方形の導体パターン１６が、導電性材料で平面的に設けられる。 - 特許庁

Furthermore, the support sheet 10 is peeled from the multilayer printed wiring board 20 to transcribe the conductive-resin pattern 11 and the element 12 on the wiring layer 21.例文帳に追加

多層プリント配線板２０から支持シート１０を剥離して導電性樹脂パターン１１と素子１２とを配線層２１に転写する。 - 特許庁

Subsequently, after the support layer 2 is isolated from the metal layer 3, an inductor pattern 13 is formed by performing etching treatment to the metal layer 3.例文帳に追加

次いで支持体層２を金属層３から剥離した後、金属層３にエッチング処理を施すことによりインダクタパターン１３を形成する。 - 特許庁

Anisotropic etching is performed on the first gate conductive film to form a selection gate electrode 125 and an auxiliary floating gate electrode on the side wall of the support pattern.例文帳に追加

第１ゲート導電膜を異方性エッチングしてサポートパターンの側壁に選択ゲート電極125及び予備フローティングゲート電極を形成する。 - 特許庁

She seemed to be over 20 years old with skin as white as snow, and she was heading south alone, wearing an uchiginu (a beaten silk robe usually worn as support for the outer robes) with a rose plum pattern and carrying a Buddhist sutra. 例文帳に追加

見たところ20歳余で、肌は雪のように白く、紅梅柄の打衣を着て、お経を持って、一人で南へ向かっていた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Then, a prescribed region including the hole (h) is covered, and a resist pattern 9 for exposing a region other than the prescribed region is formed on a support 7'.例文帳に追加

そして、穴ｈを含む所定領域を覆い、所定領域以外の領域を露出するレジストパターン９を支持体７´上に形成する。 - 特許庁

Then, the pachinko game machine is provided with a projection part 78 and a support hole 74 for supporting the pattern display unit 72 and the attatchment bases 76a and 76b in a hooked state when the pattern display unit 72 is attached or detached.例文帳に追加

そして、該パチンコ機には、上記図柄表示ユニット７２が着脱される際に、該図柄表示ユニット７２と取り付け台７６ａ，７６ｂとを掛け止め状態に支持させる突起部７８と支持穴７４とを備えさせる。 - 特許庁

To support an analysis of the read state of an optical pattern read by an optical pattern reading and decoding machine.例文帳に追加

光学パターン読取解読機により読み取られた光学パターンの読取状況の解析を支援する光学パターン読取状況解析支援装置、光学パターン読取状況解析支援システム、及び記録媒体を提供する。 - 特許庁

The resist pattern forming method includes the steps of: forming a resist film on a support by using the resist composition; exposing it; and alkali developing it to form a resist pattern.例文帳に追加

支持体上に、前記レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 - 特許庁

The resist pattern-forming method includes steps of: forming a resist film on a support using the positive resist composition; exposing the resist film; and developing the resist film to form a resist pattern.例文帳に追加

支持体上に、前記ポジ型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 - 特許庁