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process liquidの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5510件
To control an ink liquid drop with high accuracy by a highly accurate manufacturing process where not only the ejection pressure source but also the nozzle structure, the pressure chamber, the ink supply passage, and the like, are designed optimally in order to realize a high resolution, high speed printer having a small multihead nozzle in ink jet recording according to a conventional manufacturing process.例文帳に追加
従来の製造工程によれば、インクジェット記録において小型、マルチノズルヘッドを有した高解像度、高速プリンタを実現するためには、吐出圧力源だけでなく、ノズル構造、圧力室、インク供給路などが最適設計され、精度の良い製造方法によりインク液滴を精度良く制御することを目的とする。 - 特許庁
To provide an apparatus capable of suppressing temperature rise in a space between a lower surface of a pressing member and an upper surface of a substrate, by improving uniformity of in-plane temperature of the substrate, even when a high-temperature process liquid is used when the pressing member is arranged, while facing and coming into close proximity to the top surface of the substrate to process it.例文帳に追加
基板の上面に対向し近接して押付部材を配置し基板の処理を行う場合に、高温の処理液を使用するときでも、基板の面内温度の均一性を高め、押付部材の下面と基板上面とで挟まれる空間における温度の上昇を抑えることができる装置を提供する。 - 特許庁
The first liquid delivering process is conducted (S30) until the inner pressure of the bulk storing tank and the inner pressure of the tank become balanced and, when they are balanced, the valve of the bulk storing tank is closed and a gas phase valve of the recovering container is opened to conduct a consumption process for consuming recovered liquified gas in the recovering container by a consumption means (S40).例文帳に追加
バルク貯槽の内圧と、タンクの内圧とが均衡するまで第1の液送工程を行い(S30)、均衡するとバルク貯槽のバルブを閉塞すると共に、回収容器の気相バルブを開けて、消費手段で回収容器内の回収済み液化ガスを消費する消費工程を行う(S40)。 - 特許庁
In a lifting process, the lower end 53B of the terminal fitting 53 is lifted from the molten solder 2 in the molten solder bath, while the vibration is continued, in the same conditions as those of the vibration in the vibration start process, and the lower end 53B of the terminal fitting 53 is separated from the liquid surface of the molten solder bath.例文帳に追加
引上げ工程では、振動開始工程における振動の諸条件と同一の諸条件で振動を続けながら、溶融はんだ槽の溶融はんだ2から端子金具53の下端部53Bを引上げてゆき、溶融はんだ槽の液面から端子金具53の下端部53Bを離間させる。 - 特許庁
To provide a positive resist composition which is a photosensitive composition used in a process of producing a semiconductor of IC or the like, in production of a circuit board of a liquid crystal, a thermal head or the like, and in another photofabrication process, and which is excellent in line edge roughness, resolution and pattern profile, and to provide a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加
IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物であり、ラインエッジラフネス、解像力、パターンプロファイルに優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
This repairing method includes: a first process of applying a surface treatment liquid containing photocatalyst metal oxide and easily decomposable binding agent which can be decomposed by the photocatalyst metal oxide to a tile part; and a second process of applying water repellent material to at least an area including a joint part.例文帳に追加
光触媒性金属酸化物、及び当該光触媒性金属酸化物によって分解され得る易分解性結合材を含有する表面処理液を、タイル部に塗付する第1の工程、少なくとも目地部を含む領域に、撥水材を塗付する第2の工程、によって改修を行う。 - 特許庁
The wastewater treatment system mixes common salt with the wastewater containing polyvinyl alcohol, electrolyzes the resultant mixture, merges the wastewater of the bleaching process of a cellulose based fiber structure and/or a liquid ammonia manufacturing process and the electrolyzed wastewater, and subjects the merged wastewater to denitrification and activated sludge treatment.例文帳に追加
本発明の廃水処理システムは、ポリビニルアルコールを含む廃水に食塩を混合し電気分解し、セルロース系繊維構造物の漂白工程及び/又は液体アンモニア加工工程の廃水と前記電気分解された廃水を合わせ、前記合わされた廃水を脱窒素及び活性汚泥処理することを特徴とする。 - 特許庁
The washing method includes a washing process in which the wash 12 and the liquid carbon dioxide or supercritical carbon dioxide as a washing solvent are introduced into the drum 6, and a process for taking out the wash 12 from the drum 6 after substituting an inert gas for the washing solvent in the drum 6.例文帳に追加
洗浄槽6内に被洗浄物12と、洗浄溶媒として液体二酸化炭素又は超臨界二酸化炭素を導入して洗浄を行う工程と、該洗浄槽6内の該洗浄溶媒を不活性ガスで置換した後、該洗浄槽6から該被洗浄物12を取り出す工程とを含んでなることを特徴とする。 - 特許庁
And a second production process is a process comprising a step of mixing a water-absorbent resin having an internal crosslinked structure and a crosslinked surface obtained by polymerizing a monomer containing acrylic acid and/or a salt thereof as a main component, and a complex containing a polyvalent metal atom as a central atom in the presence of an aqueous liquid.例文帳に追加
そして、第2の製造方法は、アクリル酸および/またはその塩を主成分とする単量体を重合してなり内部架橋構造を有するとともに表面架橋されてなる吸水性樹脂と、多価金属原子を中心原子とする錯体と、を水性液の存在下で混合する工程を含む、方法である。 - 特許庁
This method for producing the soybean peptide comprises a lactic fermentation process of adding fungi having lactic fermentation ability to soybean processed liquid to ferment, and a process of making peptide through adding fruit juice with protease activity to the fermented product thus obtained and hydrolyzing protein component in the fermented product.例文帳に追加
本発明に係る大豆ペプチドの製造方法は、大豆加工液に乳酸発酵能を有する菌類を添加して発酵を行わせる乳酸発酵工程と、得られた発酵物にプロテアーゼ活性を有する果汁を添加して、該発酵物中のタンパク成分を加水分解するペプチド化工程を含む。 - 特許庁
The method of producing refined high purity lactide includes a process of bringing (a) a lactide mixture comprising L-lactide and/or D-lactide and meso-lactide and (b) a mixed solvent comprising an aromatic solvent and a carboxylate ester solvent insoluble in water to contact with each other, and a process of recovering a solid component by way of solid/liquid separation.例文帳に追加
以下の(a)、(b)(a) L—ラクチド及び/又はD−ラクチドと、メソ−ラクチドとを含むラクチド混合物(b) 芳香族化合物溶媒と、非水溶性のカルボン酸エステル溶媒とを含む混合溶媒を接触させる工程と、固液分離して固体分を回収する工程とを含む、精製された高純度のラクチドの製造方法。 - 特許庁
The deodorizing method includes a process of bringing a smelling gas (G) produced by an odor source (S) into gas/liquid contact with a biodegradable deodorant and a process of biodegrading the deodorant by adding at least a part of the deodorant having been in contact with the smelling gas (G) to the odor source (S).例文帳に追加
臭気発生源(S)から発生する臭気ガス(G)を、生物分解可能な脱臭剤に気液接触させる工程と、前記臭気ガス(G)と接触した前記脱臭剤の少なくとも一部を、前記臭気発生源(S)に添加することで、前記脱臭剤を生物分解させる工程と、を含む脱臭方法。 - 特許庁
The method for treating microorganisms, comprising performing one objective treatment of microorganism-counting treatments, microorganism proliferation treatments and microorganism purification treatments, includes performing a preliminary treatment process for charging a prescribed amount of a sample microorganism liquid in a closed container 22 and then subjecting the closed container to a high speed amplitude movement before the objective treatment process.例文帳に追加
微生物数のカウント処理、微生物の増殖処理、微生物の純菌化処理の何れか1の目的処理を行う微生物の処理方法において、目的処理工程を行う前に、微生物の試料液の所定量を密閉容器22に充填し、該密閉容器を高速振幅運動させる前処理工程を行う。 - 特許庁
The polishing method includes: a process of supplying the chemical mechanical polishing liquid to a polishing pad stuck on a polishing surface plate; and a process of polishing by relatively moving the polishing pad and a surface to be polished of a polished body while bringing them into contact with each other by rotating the polishing surface plate.例文帳に追加
前記化学的機械的研磨液を、研磨定盤上に貼付した研磨パッドに供給する工程、及び、前記研磨定盤を回転させることで、前記研磨パッドを被研磨体の被研磨面と接触させつつ相対運動させて研磨する工程を含むことを特徴とする研磨方法。 - 特許庁
Otherwise, (2) this preparation method for phosphor layer application liquid for radiological image conversion panel comprises a solution preparation process for dispersing at least a phosphorescent phosphor powder in a solvent with a binder dissolved therein, and in the preparation process, the phosphorescent phosphor powder to be dispersed in the solvent is managed by the degree of dispersion.例文帳に追加
(2)少なくとも、輝尽性蛍光体粉体を、結合剤を溶解させた溶剤中に分散させる調液工程を含み、該調製工程において、前記溶剤中に分散させる輝尽性蛍光体粉体を、分散度により管理する放射線像変換パネルの蛍光体層塗布液の調製方法。 - 特許庁
To respond needs of restraining the amount of treatment liquid consumption while miniaturizing and simplifying a device and, further, reducing the amount of grinding in a grinding process or eliminating the grinding process itself even when a film is formed on the surface of a substrate having a recessed and projected pattern.例文帳に追加
処理液の使用量を抑え、しかも、装置としての小型・コンパクト化を図り、更に、例え凹凸のパターンを有する基板の表面に膜を形成する場合にあっても、研磨工程での研磨量を少なくしたり、研磨工程そのものを省略したりしたいというニーズに応えることができるようにする。 - 特許庁
The equipment is provided with a roller conveyor 20 penetrating the equipment from a fore process to a succeeding process through the cleaning liquid supplying section, the residue detaching section and the residue wiping section.例文帳に追加
カラーフィルタ10の表裏面に洗浄液を供給し、展開する洗浄液供給部A、残渣、凝集物を離脱させる残渣離脱部B、残渣、凝集物、及び洗浄液を払拭する残渣払拭部Cで構成され、コロ・コンベア20が前工程から後工程へと洗浄液供給部、残渣離脱部、残渣払拭部を貫いて設けられていること。 - 特許庁
To provide a method of regenerating an etchant targeting an etchant of silicon nitride and/or silicon nitride oxide containing sulfuric acid, extremely easily removing a silicon compound produced in the etchant, suitable for an industrial process, reducing regeneration process expense of the etchant, and capable of reducing waste liquid.例文帳に追加
硫酸を含む窒化ケイ素及び/又は窒化酸化ケイ素のエッチング液を対象とし、前記エッチング液中において生成するケイ素化合物の除去が極めて容易で、工業的プロセスに適し、エッチング液の再生処理経費を低減して、廃液を低減することが可能なエッチング液の再生方法を提供する。 - 特許庁
When the concentration of the dissolved oxygen drops below a preset lower control limit, the concentration of the dissolved oxygen is increased through an oxidation process; when the concentration rises above a preset upper control limit, the concentration of the dissolved oxygen is reduced through a reduction process, whereby the concentration of the oxygen dissolved in the liquid metal is controlled.例文帳に追加
そして、この溶解酸素濃度が予め設定された管理下限以下になった時、酸化処理により溶解酸素濃度を増加させ、予め設定された管理上限以上になった時、還元処理により溶解酸素濃度を減少させることにより液体金属中の溶解酸素濃度を制御する。 - 特許庁
To provide an alternating current power-supply unit suitable for inhibiting arc from forming in a process of particularly sputtering or the like, which is used in a manufacturing apparatus field for manufacturing a semiconductor, a liquid crystal substrate or the like, and minimizing generated arc energy, and to provide a process for inhibiting the arc in the unit.例文帳に追加
特にスパッタなどのプロセスを用いて半導体や液晶基板などを製造する製造装置分野において、プロセスの過程で発生するアークを抑制し、発生したアークエネルギを最小限に抑えるのに適した交流型の電源装置およびその装置におけるアーク抑制方法を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate for a liquid crystal display of a CF-on-TFT structure on which a color filter is formed on the side of an array substrate where a switching element is formed and which has high reliability and can simplify a manufacturing process typified by a photolithographic process.例文帳に追加
本発明は、スイッチング素子が形成されたアレイ基板側にカラーフィルタを形成したCF−on−TFT構造の液晶表示装置用基板に関し、フォトリソグラフィ工程を代表とする製造プロセスを簡略化でき、且つ高い信頼性を有する液晶表示装置用基板を提供することを目的とする。 - 特許庁
To prevent any detergent or chemicals from remaining in the conveying path, to prevent environmental pollution from being caused and to reduce the cleaning cost by performing the cleaning without using any detergent or chemicals, in a cleaning process of a conveying path for liquid beverage/ food such as milk, which process basically comprises alkali cleaning, acid cleaning and sterilization cleaning.例文帳に追加
アルカリ洗浄、酸洗浄、殺菌洗浄を基本とする牛乳等の液状飲食料の搬送系路の洗浄において、洗剤や薬剤を使用することなく洗浄することにより、搬送系路での洗剤や薬剤の残留、環境の汚染を防止するとともに、洗浄コストを低減する。 - 特許庁
To provide a technology that fundamentally reconsiders an ethanol production system by a conventional process (liquid fermentation process), in which the difficulties in treatment and disposal of distillery effluent in efficiently using surplus rice are big problems, and which suppresses discharging of distillery effluent, as much as possible.例文帳に追加
余剰米の有効利用を図るにあたり、蒸留廃液の処理、処分が困難であることが大きな問題となっている従来法(液体発酵法)によるエタノール生産システムを根本から見直し、蒸留廃液の排出を極力抑制することを可能にする技術を提供することを目的とする。 - 特許庁
After a contact process for bringing the hexavalent selenium- containing waste water into contact with ferrous hydroxide slurry in a contact vessel 3 to remove selenium from the hexavalent selenium-containing waste water, the hexavalent selenium-containing waste water is solid-liquid separated in a settling vessel 4 and at least a part of settled slurry is circulated in the contact process through a settled slurry circulating line 8.例文帳に追加
6価セレン含有廃水からセレンを除去するため、6価セレン含有廃水を接触槽3内で水酸化第一鉄スラリーと接触させる接触工程の後、沈殿槽4で固液分離し、沈殿スラリーの少なくとも一部を沈殿スラリー循環ライン8により前記接触工程に循環する。 - 特許庁
This method for producing the bismuth-substitution type magnetic garnet membrane employs an LPE(liquid phase epitaxy) process, characterized in that a non-magnetic garnet single crystal substrate having a half-value width of the rocking curve in lattice(8 8 8) plane of the substrate of ≤140 seconds is used for growing the bismuth-substitution type magnetic garnet membrane by the LPE process.例文帳に追加
LPE法によりビスマス置換型磁性ガーネット膜を得る方法であり、LPE法によりビスマス置換型磁性ガーネット膜を育成するに際して用いる非磁性ガーネット単結晶基板を、該基板(8 8 8)面のロッキングカーブの半値幅が140秒以下のものを用いることを特徴とするものである。 - 特許庁
The method for producing the gumi candies comprises a process of preparing a collagen peptide solution through adding collagen peptide and yeast extract to water or a buffer liquid followed by adding at least one kind selected from the group consisting of catechin derived from vegetables, tannin, and citron polyphenol, and a process of mixing the collagen peptide solution thus obtained with a candy base.例文帳に追加
該グミキャンディは、水又は緩衝液にコラーゲンペプチド及び酵母エキスを添加し、その後植物由来カテキン、タンニン及びゆずポリフェノールからなる群より選ばれる1種類以上を添加してコラーゲンペプチド溶液を調製する工程、得られたコラーゲンペプチド溶液をキャンディベースと混合する工程を経て製造される。 - 特許庁
This method comprises an evaporation process for supplying a fluid containing liquid, for example, a fluid obtained by mixing atomized IPA to N2 gas to an evaporation unit 11 of a vapor generator 10 to evaporate the fluid; and a heating-up process for supplying the evaporated fluid to a heating-up unit 12 to heat the evaporated fluid to a predetermined temperature.例文帳に追加
液を含む流体例えばN2ガスに霧状のIPAを混合した流体を蒸気発生装置10の気化ユニット11に送って流体を蒸発させる気化工程と、蒸発された流体を昇温ユニット12に送って蒸発した流体を所定の温度まで昇温する昇温工程とを有する。 - 特許庁
The exposure method includes a process that performs a predetermined treatment for adjusting a surface energy of the substrate to suppress the attachment of foreign matter to the surface of the substrate, and a process that irradiates an exposing light to the surface of the substrate where the surface energy is adjusted in the immersion exposure that exposes the substrate though the liquid.例文帳に追加
液体を介して基板を露光する液浸露光において、基板の表面に対する異物の付着を抑えるために、基板の表面エネルギーを調整する所定の処理を行う工程と、表面エネルギーが調整された基板の表面に露光光を照射する工程と、を含む露光方法を提供する。 - 特許庁
The terminal working method consisting in simultaneously executing a process for electrically cutting bus lines and the terminals for inspection by cutting the substrate surface of the liquid crystal display device to a line form by the projections described above and a process for chamfering the peripheral edge of the substrate by the grinding wheel surface is implemented.例文帳に追加
そして、前記端子加工砥石を用い、前記突起で前記液晶表示装置の基板表面をライン状に削る事によりバスラインと検査用端子の電気的切断を行う工程と、前記砥石面で前記基板周縁部の面取りを行う工程とを、同時に実行する事を特徴とする端子加工方法を行う。 - 特許庁
The method for forming a thin film of an organometallic compound 65RG on a substrate 20 includes a process of forming a organic substance by a liquid phase method and a process of forming metal by a gas phase method to form a thin film of an organometallic compound 65RG made from the organic substance and the metal.例文帳に追加
基板20上に有機金属化合物65RGの薄膜を形成する方法であって、液相法によって有機物を形成する工程と、気相法によって金属を形成する工程とを具備し、有機物及び金属からなる有機金属化合物65RGの薄膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁
The pottery tile surface is repaired by a first process of coloring the joint part using a colored liquid containing a pigment and/or dye, and a second process of coating the whole surface with a colored transparent paint containing a hydrolytic silyl group in a binding agent with a rate of concealment of 0.10-0.60.例文帳に追加
陶磁器タイル面に対し、顔料及び/または染料を含有する着色液を用いて目地部を着色する第1の工程、結合材に加水分解性シリル基を含有し、かつ、隠ぺい率が0.10〜0.60である着色透明塗料を全面に塗装する第2の工程により改修する。 - 特許庁
A frame finishing process for finishing the frame 100 for the liquid display by combining respective divided frames 100A-100D is employed after a bending work process wherein bending works are applied on objective members to be pressed, which are provided with predetermined configurations forming the divided frames 100A-100D.例文帳に追加
分割フレーム枠100A〜100Dとなる所定形状の被プレス対象部材に曲げ加工を施す曲げ加工工程の後に、それぞれの分割フレーム枠100A〜100Dを組合せることにより液晶ディスプレイ用フレーム枠100を完成させるフレーム枠完成工程を採用している。 - 特許庁
In the method for manufacturing an etching foil for an electrolyte capacitor, which includes a plurality of steps of etching process in an etching liquid containing chlorine ions with respect to an aluminum foil, an immersion step of immersing the aluminum foil in an ethylene glycol aqueous solution having a concentration of 10.0 to 60.0 wt.% is provided between respective steps of etching process.例文帳に追加
アルミニウム箔に対して、塩素イオンを含むエッチング液中でのエッチング工程を複数段有する、電解コンデンサ用エッチング箔の製造方法において、各段のエッチング工程の間に、濃度10.0〜60.0wt%のエチレングリコール水溶液に浸漬させる浸漬工程を設けたことを特徴とする。 - 特許庁
Then, the developing solution is fed in a belt shape from the developing solution feed nozzle 42 to the surface of the substrate G from its one edge to the other edge to carry out a developing process, then rinse liquid is fed from a rise feed nozzle to the surface of the substrate G subjected to the developing process to clean the surface.例文帳に追加
次いで、現像液の薄膜が形成されたLCD基板G表面の一端から他端に向かって現像液供給ノズルから帯状に現像液を供給して現像処理した後、現像処理後のLCD基板G表面にリンス液供給ノズルからリンス液を供給して洗浄する。 - 特許庁
The liquid drop ejector has a process for charging a first drive signal applied to a first piezoelectric element 30A from a ground potential to a first potential HV1, and a process for discharging a second drive signal applied to a second piezoelectric element 30B from a second potential HV2 higher than the first potential HV1 to the first potential HV1.例文帳に追加
第1の圧電素子30Aに印加する第1の駆動信号を、接地電位から第1の電位HV1に充電する過程を有し、第2の圧電素子30Bに印加する第2の駆動信号を、第1の電位HV1よりも高い第2の電位HV2から第1の電位HV1に放電する過程を有するようにする。 - 特許庁
To provide a process for production of a coating liquid which is forming a porous (mesoporous) silica coated film and powder (including powder precursor) having a peak pore diameter over 5 nm and 10 nm or less and controlled to have a specific pore diameter, without using a specific template substance, and thus does not require a removal process of a template by calcination or extraction.例文帳に追加
特定の鋳型物質を使用しないで、焼成および抽出に依る鋳型の除去工程が不要であり、ピーク細孔径が5nmを超え10nm以下の範囲で特定の細孔径に制御された多孔質(メソポーラス)シリカ被膜及び粉末(粉末前駆体を含む)を形成できる塗布液の製造方法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the binding resin for the toner for electrostatically charged image development includes a stage wherein a mixing process is carried out in the presence of both a non-solvent resin and sludge of resin emulsifying dispersion liquid and a water removing process is performed in parallel thereto or after it to manufacture a non-solvent resin mixed composition.例文帳に追加
無溶媒樹脂と、樹脂乳化分散液のスラッジとを共存せしめて混合処理を施し、それと並行して又はその後に水分除去処理を施し、無溶媒樹脂混合組成物を製造する工程を含むことを特徴とする静電荷像現像用トナー用結着樹脂の製造方法。 - 特許庁
This method for the chemical-mechanical polishing comprises a process (a) for heating the temperature of a polishing cloth up to a prescribed temperature by supplying temperature-adjusted liquid such as pure water which is pre-heated to a prescribed temperature, and a process (b) for polishing a workpiece by the chemical-mechanical polishing while supplying slurry over the polishing cloth.例文帳に追加
化学機械研磨方法は、(a)研磨布上に温度を調整した液体、例えば所定温度に予備加熱した純水、を供給して研磨布の温度を所定温度まで昇温する工程と、(b)前記研磨布上にスラリを供給して被加工物の化学機械研磨を行なう工程と、を含む。 - 特許庁
To provide a device for treating a gas by using a filler, for instance, a gas treatment device for detoxifying a waste gas containing injurious substances such as various kinds of special material gases of silane, phosphine, hydrogen chloride, dichlorosilane, ammonia, or the like, used in a semiconductor manufacture process and a liquid crystal display element manufacture process, or the like, by a detoxifying agent.例文帳に追加
充填剤を用いてガスを処理する装置、例えば、半導体製造工程や液晶表示素子製造工程等で用いられるシラン、ホスフィン、塩化水素、ジクロルシラン、アンモニア等の各種特殊材料ガスのような有害物質を含む排ガスを、除害剤により除害処理するためのガス処理装置を提供する。 - 特許庁
This method has an extraction process of putting a metal base material formed with the hexavalent chromate coating film into a container filled with an aqueous solution containing lithium hydroxide, and of extracting the hexavalent chromium by immersing the chromate coating film into an extraction liquid, and by heating it, and a quantitative analysis process for determining quantitatively the extracted hexavalent chromium.例文帳に追加
6価クロメート皮膜が形成されている金属母材を、水酸化リチウムを含有する水溶液が入っている容器に入れ、クロメート皮膜を抽出液に浸漬して加熱することで6価クロムを抽出する抽出工程と、抽出した6価クロムを定量する定量分析工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a substrate for a liquid crystal display device of a CF-on-TFT structure in which a color filter is formed on the side of an array substrate in which a switching element is formed, and which enables simplification of a manufacturing process typified by a photolithography process and has high reliability.例文帳に追加
本発明は、スイッチング素子が形成されたアレイ基板側にカラーフィルタを形成したCF−on−TFT構造の液晶表示装置用基板に関し、フォトリソグラフィ工程を代表とする製造プロセスを簡略化でき、且つ高い信頼性を有する液晶表示装置用基板を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a method of orienting obliquely a polymer film which shows a high score rate in a polarizing plate cutting process or in a phase difference film cutting process, to provide a polarizing plate and a phase difference film constituted of the obtained obliquely oriented polymer film, having a high performance and being inexpensive and to provide a liquid crystal display device using the polarizing plate.例文帳に追加
偏光板打ち抜き工程や位相差膜打ち抜き工程における得率が高いポリマーフィルムの斜め延伸方法を提供すること、得られた斜め延伸ポリマーフィルムからなる高性能で安価な偏光板、位相差膜を提供すること、及び上記偏光板を用いた液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a release film which, when used in, for example, a touch panel, a liquid crystal deflector, a retardation plate, etc., prevents the generation of dust in the process for blanking to the same film a corresponding product size after sticking on a polarizing plate and a deterioration in productivity caused by the generation an oligomer by heating and pressurization in a polarizing plate sticking process.例文帳に追加
例えば、タッチパネル、液晶偏向板、位相差板等に用いる場合、偏光板に貼り付けた後に該当製品サイズへ打ち抜き工程でのチリの発生を防止し、偏光板貼り付け工程内での加熱、加圧によるオリゴマー発生に伴う生産性の悪化のない離型フィルムを提供する。 - 特許庁
Consequently, the time of a cooling process after the boiling process of the liquid seasoning is shortened and the total boiling time is shortened so that the aminocarbonyl reaction is controlled and quality stability and microbiological safety of the product are secured.例文帳に追加
これらの工程により、液体調味料炊き上げ工程後の冷却工程時間を短くし、総炊き上げ時間を短縮することでアミノカルボニル反応が抑制され、さらには製品の品質安定性及び微生物的安全性が確保された液体調味料及び液体調味料の製造方法を得る。 - 特許庁
An air cleaning method has an air sucking process drawing air into a container from a suction port, a contaminant removing process spraying a chemical soln. on the air stream going from the suction port toward a discharge port above the liquid surface of the chemical soln. stored in the container to remove the contaminant in the air stream and an air discharge process discharging cleaned air from the discharge port.例文帳に追加
吸入口から容器内に気体を吸入する気体吸入工程と、当該容器内に貯留された薬液の液面上方を当該吸入口から排出口に向かう気体流に当該薬液を噴霧して、当該気体流中の汚染物質を除去する汚染物質除去工程と、清浄化した気体を排出口から排出する気体排出工程とを有する清浄化方法。 - 特許庁
The method of manufacturing a transfer sheet includes a process of forming a release layer 3 by applying a release agent to a substrate 2 to form a coating film, a process of forming a coating layer 4 by applying a liquid coating to the release layer 3 to form a coating film and a process of forming an adhesive layer 6 by applying an adhesive 5 to the coating layer 4 and positions outside the coating layer 4.例文帳に追加
本発明に係る転写シートの製造方法は、基材2上に離型剤を塗布成膜することで離型層3を形成する工程と、この離型層3上に液状塗料を塗布成膜することで塗料層4を形成する工程と、前記塗料層4上及びこの塗料層4からはみ出す位置に接着剤5を塗布することで接着層5を形成する工程とを含む。 - 特許庁
The method for producing high-pressure hydrogen comprises (1) a first process for producing hydrogen-containing fuel gas by the hydrothermal reaction of a liquid organic substance in subcritical water or supercritical water using a catalyst and (2) a second process for removing impurities containing carbon monoxide, carbon dioxide gas and methane derived from the hydrothermal reaction from the fuel gas obtained by the first process under high pressure.例文帳に追加
(1)液状有機物を、亜臨界水中又は超臨界水中で触媒を用いて水熱反応させて水素を含む燃料ガスを製造する第1工程、並びに(2)第1工程で得られた燃料ガスから、該水熱反応に由来する高圧下で一酸化炭素、炭酸ガス及びメタンを含む不純物を除去する第2工程を備えたことを特徴とする高圧水素の製造方法。 - 特許庁
The method has a solidified body fluidizing process 1 for adding a solvent to the radioactive asphalt solidified body, mixing and fluidizing, a solid/liquid separation process 2 for separating solid in the obtained mixture and a carbonate conversion process 5 for converting the nitrate and/or nitrous acid in the solid to carbonate by heating the separated solid under the existence of a conversion agent including carbon.例文帳に追加
放射性アスファルト固化体に溶剤を添加して混合し流動化させる固化体流動化工程1と、得られた混合物中の固形分を分離する固液分離工程2と、分離した固形分を、炭素を含む転換剤の存在下で加熱することによって、固形分中の硝酸塩および/または亜硝酸塩を分解し炭酸塩に転換させる炭酸塩転換工程5とを有する。 - 特許庁
The method has a process for forming a resist pattern on a film formed on a semiconductor substrate, performing the dry etching using the resist pattern as a mask to form the micro pattern, a process for supplying a resist removing liquid to the micro pattern formation plane of the semiconductor substrate to remove the resist pattern by single wafer processing, and a process for performing rinsing on the semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板に設けられた膜上にレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクに用いてドライエッチングを行い、前記膜の微細パターンを形成する工程と、前記半導体基板の微細パターン形成面にレジスト除去液を供給し、枚葉式処理により前記レジストパターンを除去する工程と、前記半導体基板をリンス処理する工程と、を有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁
In a manufacturing process of a multilayer printed wiring board wherein a lining substrate and prepreg laminated in an integrated body, a lining processing method of a printed wiring board is used which is provided with a process for coarsening a surface of a copper circuit formed on the lining substrate by using the chemistry coarsening liquid, and a process for treating the coarsened copper circuit surface by using silane coupling agent.例文帳に追加
内層回路基板とプリプレグとを積層一体化してなる多層プリント配線板の製造プロセスにおいて、内層基板に形成された銅回路表面を化学粗化液により粗化する工程、および粗化された銅回路表面をシランカップリング剤で処理する工程を少なくとも有することを特徴とする多層プリント配線板の内層処理方法を提供することで、課題を解決した。 - 特許庁
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