「process technology」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To enable an appropriate process from a viewpoint of directly improving the surface finishing accuracy of a work itself when applying a surface reforming technology using a laser.例文帳に追加

レーザを用いた表面改質技術を適用するにあたり、ワークそれ自体の表面仕上げ精度を直接的に向上させる観点から相応しい工程を具現化する。 - 特許庁

To improve uniformity within a wafer surface in the size of circuit pattern obtained in the trimming process of a photoresist mask formed with a double patterning technology using a freezing method.例文帳に追加

フリージング法を用いたダブルパターニング技術により形成されたフォトレジストマスクのトリミング工程において、得られる回路パターン寸法のウエハ面内の均一性を改善する。 - 特許庁

To stabilize a threshold current level for semiconductor laser oscillation against changes in an ambient temperature by applying a relatively easy process technology to a distributed feedback semiconductor laser device.例文帳に追加

分布帰還型半導体レーザに関し、比較的容易なプロセス技術により半導体レーザの発振域値電流値を周囲温度の変化に対して安定化する。 - 特許庁

To provide polishing technology for a semiconductor device capable of managing a service life of a consumable by a relation model between a multivariate process state and service-hours of the consumable.例文帳に追加

多変量のプロセスの状態と消耗品使用時間の関係モデルより消耗品の寿命を管理することができる半導体装置の研磨技術を提供する。 - 特許庁

During the past decade, this process has attracted extensive attention as a modern technology for groundwater purification and has been studied for a wide range of hazardous organic compounds.例文帳に追加

これまでの10年間に，このプロセスは，地下水浄化の近代的な技術として広く注意を引いてきた。そして広範囲の危険な有機化合物のために研究されてきた。 - 英語論文検索例文集

To provide a technology that minimizes delamination in the CMP process while increasing the polishing speed which has decreased as the polishing pressure decreased.例文帳に追加

ＣＭＰ工程における膜剥がれを抑制すると共に、研磨圧力の低下に伴う減少した研磨速度を高めることが出来る技術を提供することである。 - 特許庁

To provide a technology capable of preventing a circuit surface from being smeared and damaged by cut wastes during an initial groove-forming process for the so-called "leading dicing" method executed after conducting "half-cut" dicing.例文帳に追加

いわゆる「先ダイシング法」の初期工程である溝の形成工程において、切削屑により回路面が汚染、破損されることを防止しうる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for avoiding complication and a cost increase of a process, while securing the protection of a functional part, when forming a device including a glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板を含んでなるデバイスの形成時において、機能部の保護を確保しつつ、プロセスの複雑化や高コスト化を回避することを可能とする技術を提供すること。 - 特許庁

To provide end point detection technology in a remote plasma cleaning which is suited for manufacturing process of mass production of semiconductor integrated circuit device.例文帳に追加

リモートプラズマクリーニングは、成膜時と異なり成膜反応室はプラズマ励起されておらず、従来のように発光で終点を検出することが原理的にできないと考えられている。 - 特許庁

To provide a technology capable of preventing any abnormal discharge occurring during a sputtering process in manufacturing a semiconductor device, and reducing the generation of foreign matters.例文帳に追加

半導体装置の製造におけるスパッタプロセス中に発生する異常放電を防止し、異物の発生を低減することが可能な技術を提供することにある。 - 特許庁

*Concretely describe the R&D project (basic research, applied research, production of prototype, mass production technology, process of evaluation test, etc.)to be undertaken after the site has been established. 例文帳に追加

※拠点整備後に実施する研究開発内容（基礎研究、応用研究、試作品製造、量産化技術、評価試験等の工程）について具体的に記載すること。 - 経済産業省

To provide a pattern formation process of a semiconductor element for doubling a pattern density by double patterning technology in a partial region while forming a pattern having various widths simultaneously, and to provide a semiconductor element having a structure to which the process can be easily applied.例文帳に追加

多様な幅を有するパターンを同時に形成しつつ、一部領域ではダブルパターニング技術によりパターン密度を倍加させる半導体素子のパターン形成工程及び該工程を容易に適用可能な構造の半導体素子を提供する。 - 特許庁

To provide such a technology that can obtain a refined wiring pattern by an energy saving process without an expensive manufacturing apparatus, utilize a material, obtain a resource saving process; and to provide a high-quality and highly reliable wiring member.例文帳に追加

微細な配線パターンを高価な製造装置を必要とせず、また、省エネルギープロセスで実現できる技術を提供すること、材料の有効利用を図り、省資源のプロセスを実現すること、高品質、高信頼性の配線部材を得ること。 - 特許庁

To provide a patterning process in which pattern densities of some regions are doubled by a double patterning technology while patterns having different widths are simultaneously formed, and to provide a semiconductor device having a structure to which the process is easily applicable.例文帳に追加

多様な幅を有するパターンを同時に形成しつつ、一部領域ではダブルパターニング技術によりパターン密度を倍加させる半導体素子のパターン形成工程、及びその工程を容易に適用しうる構造を有する半導体素子を提供する。 - 特許庁

To provide an electric arc welding machine for a specified cored electrode so that in which a waveform is generated by the waveform technology, and an offshore pipeline welding process is realized by using an FCAW-SS process.例文帳に追加

本発明の主な目的は、波形が、波形技術によって生成され、かつ沖合のパイプライン溶接プロセスを、ＦＣＡＷ−ＳＳプロセスを用いて実現できるように、特定の有芯電極のために生成される電気アーク溶接機の提供である。 - 特許庁

To improve accuracy or speed of an estimation process about especially a race among attributes of a person in view of difficulty of practical application because of insufficiency of the estimation accuracy or the processing speed in conventional technology related to the estimation process of the race.例文帳に追加

人種の推定処理に関する従来の技術では処理速度や推定精度が不十分であり実用化することが困難であったことに鑑み、人の属性のうち特に人種について推定処理の速度や精度の向上を図る。 - 特許庁

To suppress lead bentness in the production process while reducing a burden on the facility and a burden on the development of a special technology by using a known production line and an existing technology as much as possible, produce a chip size package with high reliability, and improve yield.例文帳に追加

本発明の目的は、可能な限り従来の製造ラインや既存の技術を利用して、設備の負担や特殊技術の開発負担を軽減しつつ、製造工程におけるリードの曲がりを低減し、チップサイズのパッケージを高い信頼性の下に製造すると共に、歩留まりを向上させることにある。 - 特許庁

To provide a technology of curtailing a process failure by a reinforcing convex shape for stabilizing even bending at the time of the accommodation of leads, without lowering the strength of even a lead of a thin type.例文帳に追加

薄型リードでも強度は低下させず、リード収納時の折り曲げも安定する補強凸部形状により工程不良を低減させることのできる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology of simplifying function blocks configuring AGC, relieving a load of arithmetic processing using a polynomial and capable of using a DSP so as to process a plurality of channels at the same time.例文帳に追加

ＡＧＣを構成する機能ブロックを簡易化すると共に、多項式を用いる演算処理の負荷を軽減し、一つのＤＳＰで同時に複数チャネルを処理できるようにする。 - 特許庁

To provide technology in which the performance and the reliability of an SRAM can be improved by manufacturing an SRAM memory cell equipped with a coupling capacitor while using a damassin gate process.例文帳に追加

ダマシンゲートプロセスを用いてカップリング容量を備えたＳＲＡＭメモリセルを製造し、ＳＲＡＭの性能向上および高信頼度化を図ることのできる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology enabling satisfactory film forming with the use of a liquid process, regardless of the relation between properties of a film-forming face and those of a fluid material.例文帳に追加

液体プロセスを用いた成膜を行う際に、成膜面の性質と液状材料の性質との関係に関わらず良好な成膜を行うことを可能とする技術を提供すること。 - 特許庁

To provide technology for preventing damp air from arriving at the surface of an air knife used at the time of drying in a process for drying a display panel substrate after it is washed.例文帳に追加

表示パネル基板を水洗した後に乾燥する工程において，湿った空気が，乾燥に使用されるエアーナイフの表面に到達することを防止する技術を提供する。 - 特許庁

To enhance the bond strength of a film to be applied to a machining tool in film coating technology using a sputtering process to obtain a comparatively smooth film surface.例文帳に追加

比較的平滑な被膜表面が得られるスパッタリング法による被膜のコーティング技術において、被膜の付着強度を一層高くして加工工具にも適用できるようにする。 - 特許庁

To provide a semiconductor which can be manufactured by making the using efficiency of materials improved, and simplifying the manufacturing process, and to provide a display device and its manufacturing technology.例文帳に追加

材料の利用効率を向上させ、かつ、作製工程を簡略化して作製可能な半導体装置、及び表示装置及びその作製技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a technology of facilitating a user to process business messages and allowing the user to efficiently transmit and receive the business messages without being affected by external conditions such as resources or the like of a called party.例文帳に追加

ユーザの用件メッセージの取り扱いを容易にし、被呼側のリソースなどの外部的な条件に影響されることなく、効率のよい用件メッセージ授受を行なえるようにする。 - 特許庁

To provide a cap, along with a cable termination structure using it and a cable terminating method, for working (cable terminating process) in a short time, with no requirement for experienced technology.例文帳に追加

熟練した技術を要することなく、短時間で作業（ケーブル端末処理）を行うことができるキャップ、このキャップを用いたケーブル端末構造及びケーブル端末処理方法を提供する。 - 特許庁

To complete an electronic element layer and an optical element layer on different planes in a simple and easy way, by the use of a semiconductor manufacturing process and a transmission technology concerning a totally reflected signal in an optical waveguide structure.例文帳に追加

半導体製造工程と光導波路構造の全反射信号伝送の技術を利用し、簡単かつ容易に異なる平面での電子素子層と光子素子層が完成できる。 - 特許庁

To provide a transactional data communications system for communicating information within an enterprise having a plurality of information technology systems that are communicably coupled to a process control system.例文帳に追加

プロセス制御システムに通信可能に接続される複数の情報技術システムを有するエンタープライズ内で情報を通信するトランザクションデータ通信システムを提供することである。 - 特許庁

To provide a technology adhering germanium which is understood as good for human health, onto fibers and inhibiting elution or drop out of the germanium in the post-process such as scouring, bleaching, dying or the like.例文帳に追加

人体の健康に良いとされるゲルマニウムを再生繊維に付着させ、その後の精錬、漂白、染色などの後工程でのゲルマニウムの溶解や脱落を抑える技術を提供する。 - 特許庁

The Australian Customs Service provided an explanation of its Smartgate system, which is an automated border processing solution incorporating facial recognition and e-passport technology, that enables eligible travelers to self-process.例文帳に追加

豪州税関は、該当する旅客が自身で手続を終えられるよう、顔の認識と電子パスポートの技術を用いて、自動で旅客手続処理を行う「スマートゲートシステム」の説明を行った。 - 財務省

To provide process quality control technology effective to speedily and certainly control quality of a product produced on a production line on the production line having a plurality of processes.例文帳に追加

複数の工程を有する生産ラインにおいて、該生産ラインで生産される製品の品質を迅速かつ確実に管理するのに有効な工程品質管理技術を提供する。 - 特許庁

To provide a process to separate amorphous sulfur from a residuum which is difficult by well-known technology, such as floatation, in order to separate sulfur and iron from a residuum generated from a wet processing treatment of copper pyrite and to use the separated sulfur as resources.例文帳に追加

銅硫化鉱の湿式処理後の残渣からイオウと鉄分を分離して資源化利用するにあたり、イオウが不定形のため浮選分離などの公知技術では分離困難である。 - 特許庁

To provide technology which makes it easy to refer to the process history of all associated information systems and also makes it speedy to confirm transaction contents and specify corrected data.例文帳に追加

連携された複数の情報システム全体の処理履歴の参照を容易にして、取引内容の確認や修正データの特定を迅速化させることが可能な技術を提供する。 - 特許庁

To use a more accurate processor load measurement technology for a processor executing a task distribution process in a multiple processor architecture for improving efficiency of a multiple processor computer system.例文帳に追加

マルチプロセッサ・アーキテクチャにおいてタスク分散プロセスを実行しているプロセッサのために、より正確なプロセッサ負荷測定技術を用いることにより、マルチプロセッサ・コンピュータ・システムの効率を改善する。 - 特許庁

To provide a technology capable of restraining peeling of a layer formed above a fuel electrode, in a manufacturing method of a fuel battery cell including a process of powder compacting mold of a fuel electrode.例文帳に追加

燃料極を圧粉成形する工程を含む燃料電池セルの製造方法において、燃料極の上方に形成された層の剥離を抑制することのできる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing technology performing a satisfactory shaping process by eliminating inconvenience in the attachment of a support member to a body to be processed by use of a resin film.例文帳に追加

樹脂膜を用いて被加工体にサポート用部材を取り付ける場合における上記の不都合を解消し、良好な形状加工を実現し得る製造技術を提供すること。 - 特許庁

This document is a basic introduction to using the Java Persistence API in a web application and demonstrates how the development process using the JavaTM Platform, Enterprise Edition 5 ("Java EE 5") technology simplifies the development of Java applications.例文帳に追加

このドキュメントは、Web アプリケーションで Java Persistence API を使用する基本的な入門書で、Java[tm] Platform Enterprise Edition 5 (「Java EE 5」) テクノロジを使用する開発プロセスで、どのように Java アプリケーションの開発が簡略化されるかを示します。 - NetBeans

To provide a technology capable of preventing a chip crack in a wire bonding process to increase a manufacturing yield in a semiconductor apparatus in which a plurality of semiconductor chips are laminated in multiple stages.例文帳に追加

複数の半導体チップを多段に積層した半導体装置において、ワイヤボンディング工程におけるチップクラックを防いで製造歩留まりを向上させることのできる技術を提供する。 - 特許庁

To solve the problems of a process of manufacturing an optical scanner manufactured by introducing a micro-machining technology, and to provide the optical scanner having high machining accuracy and high yield.例文帳に追加

マイクロマシニング技術を用いて作製される光走査装置の作製プロセスにおける問題点を解決し、加工精度が良く、かつ歩留まりの高い光走査装置を提供する。 - 特許庁

To reduce surface defect by reducing the density of dislocation of a crystal layer in a process for forming a crystal layer of a nitride semiconductor using a lateral growth technology of seed crystal.例文帳に追加

種結晶による横方向成長技術を用いて窒化物半導体の結晶層を形成する工程において、結晶層の転位密度を低減し、表面欠陥を少なくする。 - 特許庁

Since the dither pattern with the low resolution is included in the pseudo dot processing, more stable color print is attained without the need for using a complicated process technology.例文帳に追加

したがって、疑似網点化処理において、低解像度のディザパターンが含まれることから複雑なプロセス技術を使用することなく、より安定したカラー印刷を可能とするものである。 - 特許庁

To provide a technology capable of efficiently forming carbon nanotube by suppressing the deterioration of catalytic activity of a catalytic metal in the process for manufacturing carbon nanotube using a CVD method.例文帳に追加

ＣＶＤ法を用いたカーボンナノチューブの製造工程において、触媒金属の触媒活性の低下を抑制して、カーボンナノチューブを効率的に生成できる技術を提供する。 - 特許庁

To provide technology of forming a gate electrode or a semiconductor film for use in a thin film transistor with precision of a sub-micron order in a simple and inexpensive process.例文帳に追加

本発明は、薄膜トランジスタに用いられるゲート電極や半導体膜を、簡易かつ安価な工程によってサブミクロンオーダーの精度で形成する技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

During the past decade, this process has attracted extensive attention as a modern technology for groundwater purification and has been studied for a wide range of hazardous organic compounds.例文帳に追加

これまでの10年間に，このプロセスは，地下水清浄化の近代的な技術として大きく注目を集めてきた，そして広範囲の危険な有機化合物のために研究されてきた。 - 英語論文検索例文集

In particular, if the recrystallization refinement for TCPA, currently considered the BAT level technology, is applied, the elevated concentration of HCB may be contained in the solvent used for the refinement process. 例文帳に追加

特に、現時点でのＢＡＴレベル技術として想定されているＴＣＰＡの再結晶精製を実施すれば、その溶媒中に高濃度のＨＣＢが含有されることとなる。 - 経済産業省