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process technologyの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 546件
To provide a technology capable of realizing a highly accurate bearing structure without being influenced by dimensional accuracy of part items and a combination of partitions by establishing a new assembling method in an assembling process of a bearing unit.例文帳に追加
軸受ユニットの組立工程において従来にない組立方法を確立することによって、部品の寸法精度や部品の組み合わせ如何に影響されることなく、高精度な軸受構造を実現できる技術を提供する。 - 特許庁
To provide a new fungal strain belonging to the genus Pleurotus without requiring a complex temperature change-controlling process as adopted in the culture of Pleurotus nebrodensis and capable of easily culturing by adopting a conventional Pleurotus eryngii culturing technology as it is.例文帳に追加
白霊茸(Pleurotus nebrodensis)で採用されるような複雑な変温管理工程を必要とせず、従来のエリンギ栽培技術をそのまま採用することで容易に栽培が可能なプレオロウタス属に属する新規な菌株を提供する。 - 特許庁
To provide a defect inspection device of a high resolution realizing the increase of inspection speed in a technology of inspecting defects of patterns, foreign matters, remnants, steps or the like on a wafer in the course of manufacturing process by electron beams.例文帳に追加
半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
To take a countermeasure against power supply noise efficiently by forming a capacitor at a desired position with no restriction of interconnection and to fabricate a capacitor of large capacity with a smaller area even in a finer pattern process technology.例文帳に追加
配線等の制約を受けることなく所望の位置にキャパシタを形成して電源ノイズ対策を効率的に行うことができ、微細化の進んだプロセス技術においても、より少ない面積でより大容量のキャパシタを構成する。 - 特許庁
To provide a technology which improves the method of manufacturing a multilayer printed wiring board by the conformal mask method using copper foils with resin and enables alignment of inner layer patterns with a film for laser masks at a high accuracy and simplification of the manufacturing process.例文帳に追加
樹脂付き銅箔を用いたコンフォーマルマスク法による多層プリント配線板の製造方法を改善し、内層パターンとレーザマスク用フィルムとの位置合わせが高精度で行え、製造工程も簡略化できる技術を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing an inexpensive polyarylene sulfide oxide paper capable of solving problems of conventional technology, significantly improving process complications and dielectric breakdown strength and withstanding use under a high voltage, and to provide a polyarylene sulfide oxide paper.例文帳に追加
従来技術の問題点を解消し、工程の煩雑さ、絶縁破壊強さが大幅に改善され高電圧下での使用に耐える安価なポリアリーレンスルフィド酸化物紙の製造方法およびポリアリーレンスルフィド酸化物紙を提供する。 - 特許庁
To form a capacitor in a desired location without having restrictions of interconnect lines and the like, to take power source noise countermeasures efficiently, and to configure a large-capacity capacitor in a small area despite the advance of microfabrication in the process technology.例文帳に追加
配線等の制約を受けることなく所望の位置にキャパシタを形成して電源ノイズ対策を効率的に行うことができ、微細化の進んだプロセス技術においても、より少ない面積でより大容量のキャパシタを構成する。 - 特許庁
It is the combination of the best and most appropriate selection of fish types and fishing grounds, timing of the freezing process, management of the temperature during transport and storage, and thawing technology, he says, that is the first step in developing the import business of the finest tasting marine produce from around the world.例文帳に追加
魚種・漁場の選択や、冷凍のタイミング、輸送や保管の際の温度管理、解凍の技術など、最適なものを組み合わせてこそ、はじめて開発輸入によって美味しい水産物を調達できるという。 - 経済産業省
Normally an industry which has entered the 3rd quadrant will compete in domestic and world markets by specializing and differentiating products with high quality and high function utilizing the established brand names and advanced technology it gained in the development process.例文帳に追加
通常、第三象限に入ってきた産業は、発展過程で得られた高い技術レベルや確立されたブランド等を活かして、高品質、高機能の製品に特化し差異化することで国内外の市場で競争していく。 - 経済産業省
To provide a technology of solving such a problem that there is the case that no acceptable product chips are present on an entire wafer at an early stage of developing a semiconductor since a margin of a process decreases accompanied by the micro-fabrication of the semiconductor and the complexity of the process, it becomes difficult to satisfy conditions in the process, and when fixed point inspection is executed, a suitable reference image for relative inspection cannot be imaged.例文帳に追加
半導体の微細化、プロセスの複雑化に伴いプロセスのマージンは減り、プロセスの条件出しが難しくなっているため半導体の開発初期においてはウェーハ全面において良品チップが存在しない場合があり、定点検査を実行する場合において、比較検査のための適切な基準画像を撮像することができないという課題を解決する技術を提供する。 - 特許庁
To provide a continuous substrate for a light emitting diode fluorescent lamp at a low cost, by providing a method for continuously manufacturing a substrate for a light emitting diode fluorescent lamp which does not use a printed board by forming an insulating part by a resin insert molding technology on a metal frame manufactured by press working for a simplified manufacturing process, resulting in simpler assembly process with a smaller number of components than an assembly process using a printed board.例文帳に追加
製造工程を簡素化するため、プレス加工による製作された金属フレームに樹脂インサート成形技術により絶縁部を形成することでプリント基板を用いない発光ダイオード蛍光灯用基板を連続して製造する方法を提供し、プリント基板使用組立より、組立工程、部品点数を簡略化し、低コストで発光ダイオード蛍光灯用連続基板を製造可能とする。 - 特許庁
To provide a technology for properly controlling a threshold by adopting a material suitable for a gate electrode of each of MOS structures with different thresholds, and for preventing diffusion from the gate electrode to a channel region from being conspicuous without complicating a manufacturing process.例文帳に追加
製造プロセスを煩雑にすることなく、閾値が異なるMOS構造のそれぞれのゲート電極に適した材料を採用して閾値を適切に制御でき、かつゲート電極からチャネル領域への拡散を顕著としない技術を提供する。 - 特許庁
This is a new information embedding technology using a conjugate screen concept, more specifically, two screens being used in a process for realizing half-toning wherein one of them is a screen (object) for a region, corresponding to an embedded symbol and the other is a screen for the background.例文帳に追加
共役スクリーンコンセプトを用いた新情報埋め込み技術であって、より詳細には、一つは埋め込まれるシンボルに対応する領域に対するスクリーン(オブジェクト)と一つは背景に対するスクリーンの二つのスクリーンがハーフトーン化プロセスに用いられる。 - 特許庁
To provide a technology which assures prevention of an influence of vibration or impact given to a scanner during an action by forbidding pulling out or attaching of a paper feed tray and at the same time improves deterioration in productivity of a print job (image forming process).例文帳に追加
給紙トレイの引き出し、あるいは装着を禁止することにより動作中のスキャナに与える振動・衝撃の影響を確実に防止でき、且つ印刷ジョブ(画像形成処理)の生産性の低下を改善できる技術を提供すること。 - 特許庁
With the etching process by the Ar sputter etching technology to the insulating film 19 including inside of the connecting holes 21, sidewalls 22 are formed to the internal wall of the connecting holes 21, and the upper end parts 21a of the connecting holes 21 are tapered.例文帳に追加
接続孔21内を含み絶縁膜19に対してArスパッタエッチング技術によりエッチング処理を施して、接続孔21の内壁にサイドウォール22を形成するとともに、接続孔21の上端部21aをテーパー形状にする。 - 特許庁
To provide a high-performance hollow fiber membrane type blood purification module which causes no adhesion of hollow fiber membranes with each other within the module, and module size is small, by simple and easy production process, improving the defect in the conventional technology.例文帳に追加
本発明は、かかる従来技術の欠点を改良し、簡便な工程により、中空糸膜間のモジュール内における密着のなく、モジュールサイズが小さく、かつ、性能の高い中空糸膜型血液浄化用モジュールを提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide the technology capable of reducing the load of a reception processing device by dispersing accesses from users to plural vicarious execution processing devices and preventing the congestion of a network, and surely completing the request for the reception of a predetermined process from the user.例文帳に追加
ユーザからのアクセスを複数の代行処理装置に分散させ、ネットワークの輻輳を防止して受付処理装置の負荷を軽減すると共に、ユーザからの所定処理の受付依頼をより確実に終了させることが可能な技術を提供する。 - 特許庁
To provide a technology for surely connecting a plug and wiring in a process for forming a connecting hole reaching an interlayer dielectric film formed on the upper layer of the wiring having Al as a principal component, and forming a plug in the connecting hole.例文帳に追加
Alを主成分とする配線の上層に形成された層間絶縁膜に、その配線に達する接続孔を形成し、その接続孔内にプラグを形成する工程において、プラグと配線とを確実に接続できる技術を提供する。 - 特許庁
To provide an error correction and decoding system which corrects an error without using division operation on a finite body by using the property of zef logarithm as the element technology of a decoding process part for error correction code and can reduce a circuit scale.例文帳に追加
誤り訂正符号の復号処理部の要素技術として、ゼフ対数の性質を利用し、有限体上の割り算演算を用いることなく誤り訂正を行い、且つ回路規模の削減が可能である誤り訂正復号化方式を提供する。 - 特許庁
To provide a polishing agent and a polishing method allowing efficient and uniform polishing at high speed without scratch and also allowing easy process management in the CMP technology of smoothening an interlayer dielectric film, BPSG film, and insulation film for shallow trench isolation.例文帳に追加
層間絶縁膜、BPSG膜、シャロートレンチ分離用絶縁膜を平坦化するCMP技術において、研磨を研磨傷なく、効率的、高速、均一にかつ研磨プロセス管理も容易に、行うことができる研磨剤及び研磨方法を提供する。 - 特許庁
Through the configuration above, precise gain control and a high dynamic range are not required for the variable gain amplifiers, and the equalizer circuit to process a signal with several hundreds MHz is realized with components or a manufacturing technology available at present.例文帳に追加
この構成によって、可変利得アンプに利得の精密な制御や大きなダイナミックレンジが必要なくなり、数百MHz以上の信号を処理可能なイコライザ回路が現在入手可能な素子あるいは製造技術によって実現できる。 - 特許庁
To provide a technology for obtaining the electrode of a battery in which a thick active material layer can be formed with high aspect ratio by simple process and device configuration, and with which a battery such as a lithium ion secondary battery having excellent charge/discharge capacity can be obtained.例文帳に追加
簡易な工程及び装置構成で、高アスペクト比で厚膜の活物質層を形成することができ、充放電容量に優れるリチウムイオン二次電池等の電池を実現するための電池用電極を得るための技術を提供する。 - 特許庁
To provide a technology of improving the productivity by permitting shortening of a dry time even when a large diaphragm is manufactured when adopting a drying method wherein no hot press is carried out in a drying process in the manufacture of speaker diaphragms.例文帳に追加
スピーカ用振動板の製造における乾燥工程で加熱プレスを行わない乾燥方法を採用するに際して、大型の振動板を製造する場合であっても、乾燥時間の短縮化を可能にして生産性の向上を図る。 - 特許庁
To provide a technology for properly controlling a threshold by adopting materials suitable for the gate electrode of each of MOS structures with different thresholds, and for preventing diffusion from the gate electrode to a channel region from being made remarkable without complicating a manufacturing process.例文帳に追加
製造プロセスを煩雑にすることなく、閾値が異なるMOS構造のそれぞれのゲート電極に適した材料を採用して閾値を適切に制御でき、かつゲート電極からチャネル領域への拡散を顕著としない技術を提供する。 - 特許庁
To establish an on-the-spot measuring technology of purity of tritium released from a tritium storage bed, which is important for purity control of tritium supplied to the core of a nuclear fusion reactor vacuum vessel or for tritium metering control of the whole tritium process system.例文帳に追加
トリチウム貯蔵ベッドから放出されるトリチウムの純度のその場測定技術の確立は、核融合炉真空容器の炉心に供給するトリチウムの純度管理やトリチウムプロセスシステム全体のトリチウム計量管理にとって重要である。 - 特許庁
"invention" means an idea of an inventor which permits in practice the solution of a specific problem in the field of technology and may be, or may relate to, a product or a process, but does not include -例文帳に追加
「発明」とは,発明者の着想であって,技術の分野における特定の課題の実際上の解決を可能にするもので,かつ,製品若しくは方法であるか,又は製品若しくは方法に関連するものをいうが,次のものを含まない。 - 特許庁
To provide a technology for converging the difference between a measured value obtained from a test print and a target value to an allowable value a less number of correction times in a gradation conversion correcting process for determining the correction quantity used for converting the gradation of image data.例文帳に追加
画像データを階調変換する際に用いる補正量を決定する階調変換較正処理において、テストプリントで得られた測定値と目標値との差が少ない較正回数で許容値に収束する技術を提供する。 - 特許庁
When there is a change in the fixed plan at a step ST1, or when the new technology has been adopted at the step ST2, a barrier function of a step ST3 is passed; otherwise, the barrier function is skipped and the next process is to take place.例文帳に追加
ステップST1において、既定方針に変更があった場合、またはステップST2において新技術の採用があった場合には、ステップST3の関所機能を通過させ、そうでない場合には関所機能をスルーして次工程に進む。 - 特許庁
To enable to obtain a ferulic acid bonding type saccharide with a high yield, which ferulic acid bonding type saccharide is difficult in industrial utilization because enzyme reaction technology and a chemical treatment method cause ferulic acid disengagement and oligosaccharide molecular weight decrease and are heavy in process load.例文帳に追加
酵素反応技術や化学薬品処理による方法では、フェルラ酸の離脱やオリゴ糖の分子量低下を招き、工程上の負荷が大きく産業利用が困難であったフェルラ酸結合型糖質を高収率で得ることを可能にする。 - 特許庁
To provide a contactless IC tags capable of providing a final product inexpensively as possible by eliminating a lamination process by means of a laminated layer in the contactless IC tags to be used in an RFID technology.例文帳に追加
本発明は、RFID技術で用いられる、非接触ICタグ類において、ラミネート層によるラミネート工程をなくして、できるだけ安価に最終製品を提供することができる非接触ICタグ類を提供することを目的とする。 - 特許庁
To complete planarization of all insulation separation grooves formed on a substrate or steps generated at a wiring pattern formation, in a process for embedding an insulation material into the groove or wiring gap without using a CMP technology.例文帳に追加
基板上に形成された絶縁分離用溝もしくは配線パターン形成により生じた段差を、CMP技術を用いることなく、溝もしくは配線間隙への絶縁材料埋め込み工程段階ですべて平坦化を完了させるようにする。 - 特許庁
Consequently, the Gunn diode GD and the Schottky diode SD can be integrated on the same substrate by a process requiring no heat treatment (annealing) of high temperature (600°C) without utilizing a conventional ion implantation technology or the contact layer of IMPATT diode.例文帳に追加
したがって、従来のようなイオン注入技術やIMPATTダイオードのコンタクト層を利用することなく、高温(600℃)な熱処理(アニール)が不必要なプロセスで、ガンダイオードGDとショットキーダイオードSDとを同一基板上に集積できる。 - 特許庁
To provide a CG animation display technology which can absorb the display speed difference of a CG animation due to the difference in the processing speed of a terminal under three-dimensional shared virtual space environment wherein terminals having different computing process speeds are connected.例文帳に追加
計算処理速度の異なる複数の端末が接続された3次元CG共有仮想空間環境において、端末の処理速度の差異によるCGアニメーションの表示速度差を吸収可能なCGアニメーション表示技術を提供する。 - 特許庁
To provide charged-particle-beam lithography technology for permitting drawing process without changing a multi-beam forming element and without deteriorating a drawing accuracy, even when electron beam having fault in characteristics thereof by the fault of the multi-beam forming element is generated.例文帳に追加
マルチビーム形成素子の不具合により特性の不良な電子ビームが生じた場合にも、マルチビーム形成素子を交換することなく、且つ描画精度を低下させることなく、描画処理を可能にする荷電粒子ビーム描画技術を提供する。 - 特許庁
The hypothesis suggests that industries proceed in a circular, clockwise path around the Chart of International Competitiveness Index, but at the same time industries actually become more sophisticated through the process as they improve their technology.例文帳に追加
この考え方によると産業は発展していくにつれて、国際競争力指数チャート上で時計回りの円形の軌跡を描いていくと考えられるが、同時にその過程では、技術の進展等産業の高度化が進んでいくことになる。 - 経済産業省
This fine-grained privilege in the operating system partition provides a technology for managing activities of processes by using a fine-grained privilege model in an operating system environment partitioned into a global zone and one or more non-global zones when a process is separated from a process executed in association with another non-global zone under control of a single operating kernel instance.例文帳に追加
一実施形態では、本発明は、単一オペレーティング・カーネル・インスタンスの制御下で他の非グローバル・ゾーンに関連して実行するプロセスからプロセスを分離するために、1つのグローバル・ゾーンと1つまたは複数の非グローバル・ゾーンに区画されたオペレーティング・システム環境で細粒度特権モデルを使用してプロセスのアクティビティを管理する技術を提供する。 - 特許庁
This system is connected to clients 12, 14-16 that are allocated at each process of circulation from a manufacturer MK to user UZ via the Internet 11, and equipped with server system 13, capable of giving and taking business information of the information technology goods that are dealt on this process of circulation, on real-time basis between clients 12, 14-16.例文帳に追加
このシステムは、ユーザUZからメーカMKまでの各流通段階RT,WSに配置させるクライアント12,14〜16にインターネット11を介して接続され、且つ、この流通段階で取引されるIT関連商品の取引情報をクライアント12,14〜16との間でリアルタイムにやり取り可能なサーバシステム13を備える。 - 特許庁
A process for storing color information 83, 85 relating to an arbitrary area designated via a pointer within an editing image area, and a process for clearly displaying a mark for specifying a color coordinate responding to the color information onto a position on a hue circle or a hue bar chart prepared for color adjustment are to be executed as a color adjustment technology.例文帳に追加
色調整技術として、編集画像領域内でポインタを通じて指定された任意の領域に関する色情報を保存する処理と、色情報に対応する色座標を特定する印を、色調整用に用意された色相環又は色相バーチャート上の該当位置に明示的に表示する処理とを実行するものを提案する。 - 特許庁
To provide a catalyst capable of simultaneously facilitating both of desulfurization being an inevitable process as pre-treatment process for isomerization and the isomerization, which is useful in the technology for obtaining isomerized gasoline low in sulfur content by desulfurizing and isomerizing light hydrocarbon oil containing sulfur and to simplify necessary equipments and to suppress the running cost by using the same.例文帳に追加
硫黄を含有する軽質炭化水素油の脱硫と異性化とを行なって、硫黄含有量の低い異性化ガソリンを得る技術において、異性化の前処理工程として不可欠であった脱硫を異性化と同時に行なうことのできる触媒を提供し、それによって必要な設備を簡略化し、ランニングコストを低減すること。 - 特許庁
To provide a method for effectively removing remaining butylamine distributed in nitric acid solution phase of two-phase system solvent regeneration-processed with butylamine washing agent, after being used in a nuclear fuel reprocessing process and provide a safe technology means which is effective for process-controlling butylamine in nuclear fuel reprocessing proc ess with it.例文帳に追加
核燃料再処理工程において使用された後、ブチルアミン洗浄剤での再生処理を受けた二相溶媒系の硝酸水溶液相中に分配され、残留するブチルアミンを効果的に除去する方法を提供し、かつそれにより核燃料再処理工程におけるブチルアミンを工程管理するのに有効な安全化技術手段を提供すること。 - 特許庁
To provide abrasives and a polishing method in which in a CMP technology of flattening an interlayer dielectric, a BPSG film, and a shallow trench isolating insulating film, a selection ratio of a silicon oxide film to a silicon nitride film and a flatness are enhanced, whereby a CMP process can be efficiently and fast performed, and a process management can be easily performed.例文帳に追加
本発明は、層間絶縁膜、BPSG膜、シャロー・トレンチ分離用絶縁膜を平坦化するCMP技術において、酸化珪素膜と窒化珪素膜の選択比、平坦性を向上させることにより、CMPプロセスを効率的、高速に、かつプロセス管理も容易に行うことができる研磨剤及び研磨法を提供するものである。 - 特許庁
The method for manufacturing the electrooptical device for manufacturing a substrate for the electrooptical device using the lithography technology includes: a resist application process of applying the resist to the substrate; and an edge rinse process of discharging a solvent from a nozzle along the edge of the substrate to remove the resist on the edge, and oscillates the nozzle to the inside and outside directions of the substrate in the edge rinse process.例文帳に追加
本発明は、リソグラフィー技術を用いて電気光学装置用の基板を製造する電気光学装置の製造方法であって、前記基板にレジストを塗布するレジスト塗布工程と、前記基板の端部に沿ってノズルから溶剤を吐出し、前記端部の前記レジストを除去するエッジリンス工程と、を有し、前記エッジリンス工程において、前記ノズルを前記基板の内側方向及び外側方向へ揺動させることを特徴とする。 - 特許庁
That is, the heat transfer coefficient is properly set according to the section and period of the mould in this invention while the analyzing process used to be carried out supposing that the heat transfer coefficient with the mould is secularly fixed in any portion of mould in a conventional technology.例文帳に追加
つまり、従来技術では型との間の熱伝達係数は型のどの部分でも、経時的にも一定であると仮定して解析していたのに対して、本発明方法では型の部分及び時間に応じて、適正に熱伝達係数を設定する。 - 特許庁
To improve product quality and productivity by improving the difficulty and instability in control of a sealing shape, i.e., a problem occurring in a sealing process by a gel type sealant by a conventional technology in a method of protecting electrical connections of a semiconductor chip.例文帳に追加
半導体チップの電気接合部の保護方法において、従来技術のゲル状封止剤による封止工程で問題となっている、封止形状の制御の困難さと不安定の改善による製品品質と生産性の向上を目的とする。 - 特許庁
To provide a technology which enables an even coat with a thin film that is an upper film on a continuously travelling web having a layer which consists of a coating liquid applied in a first coating process without bubbles entering both ends after coating in a method that multilayer coats the coating liquid.例文帳に追加
塗工液を多層塗布する方法において、第1の塗布工程で塗工液が塗布された層が設けられた連続して走行するウェブに、塗工後に気泡が両端部より進入することなく上層である薄膜を均一塗布する技術を提供する。 - 特許庁
To provide an optical element in which refractive index difference can be ensured between a member at the lower portion of a photonic crystal layer and the crystal layer without using a conventional sticking technology, and to provide a fabrication process of the optical element, and a semiconductor laser device employing the optical element.例文帳に追加
従来例のような貼り合わせ技術を用いずに、フォトニック結晶層下部の部材と、該結晶層との屈折率差を確保することが可能となる光学素子、光学素子の製造方法及び該光学素子を用いた半導体レーザ装置を提供する。 - 特許庁
To provide a CMP polishing agent capable of efficient and high-speed polishing with reduced influence of pattern density dependency and easy polishing process management without polishing scratches, with respect to CMP technology for smoothening an interlayer dielectric film, a BPSG film, and a shallow-trench-isolation insulation film.例文帳に追加
層間絶縁膜、BPSG膜、シャロートレンチ分離用絶縁膜を平坦化するCMP技術において、パターン密度依存の影響を少なく、効率的、高速に、研磨傷なく、かつ研磨プロセス管理も容易に、研磨できるCMP研磨剤を提供する。 - 特許庁
The detection region 121, the slab type spectroscopic part 108, the light detection part 111, and the control circuit 114 are formed in one and the same manufacturing process by a heretofore known silicon processing technology, a light source 105 and the power source part are easily integrated by mounting.例文帳に追加
検出領域121,スラブ型分光部108,光検出部111、制御回路114は、公知のシリコン加工技術により同一の製造課程で形成可能であり、光源105や電源部は、装着することで一体化することが容易である。 - 特許庁
To provide a technology for achieving high efficiency of nucleic acid amplification reaction and high precision of melting curve analysis when performing melting curve analysis in a nucleic acid amplification process of obtaining an amplification product in which amplification target nucleic acids are continuously arranged via a loop.例文帳に追加
増幅対象核酸がループを介して連続的に配列した増幅産物を得る核酸増幅法において融解曲線解析を行う際に、高い核酸の増幅反応効率および融解曲線解析の解析精度を得るための技術の提供。 - 特許庁
(b) one or more pharmaceutical substances when produced by a process that involves the use of recombinant DNA technology, must in substance be disclosed in the complete specification of the patent and in substance fall within the scope of the claim or claims of that specification. 例文帳に追加
(b) 組換えDNA技術の使用を伴う方法によって製造された時の1又は2以上の医薬物質が,その特許の完全明細書において実質的に開示されていなければならず,かつ,実質的に当該明細書のクレームの範囲内になければならないこと - 特許庁
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