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processing patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3997件
To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which decreases dependence of temperature of a semiconductor substrate on a pattern density, in heat-processing the semiconductor substrate where multiple patterns with different pattern densities exist.例文帳に追加
パターン密度が異なる複数の種類のパターンが存在する半導体基板の熱処理において、半導体基板温度のパターン密度依存性を低減することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
The pattern formation method for a resist in micromachining of manufacture of a photomask or semiconductor is characterized such that pattern formation of the resist is performed by generating mist of the developer and processing liquid.例文帳に追加
フォトマスクまたは半導体製造の微細加工におけるレジストのパターン形成方法において、現像液及び処理液をミスト状に発生させてレジストのパターン形成を行うことを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁
An analog signal pattern 28 connecting the analog system terminals 16a and 20a and a digital signal pattern 32 connecting the digital system terminal 22a and a digital signal processing circuit 30 are formed, and ground patterns 34 and 36 are formed.例文帳に追加
アナログ系端子16a,20aを結ぶアナログ信号用パターン28と、デジタル系端子22aとデジタル信号処理回路30とを結ぶデジタル信号用パターン32を形成し、さらにグランドパターン34,36を形成する。 - 特許庁
For example, the pseudo medium tone processing system providing the largest number of screen lines is selected among those used for generating a screen pattern image whose density is within a prescribed permissible density range among a plurality of the screen pattern images.例文帳に追加
例えば,複数のスクリーンパターン像のうち,その濃度がそれぞれ所定の許容濃度範囲内にあるものの生成に用いられた擬似中間調処理方式の中で最もスクリーン線数の大きいものを選択する。 - 特許庁
To provide a substrate processing method capable of preventing deterioration in an etching selection ratio in etching treatment, and reducing roughness of a pattern edge in a substrate in which a wiring pattern of photoresist is formed in a photolithographic process.例文帳に追加
フォトリソグラフィ工程によりフォトレジストの配線パターン形成がなされる基板おいて、エッチング処理でのエッチング選択比の低下を抑制し、パターンエッジのラフネスを低減することのできる基板処理方法を提供する。 - 特許庁
The mask pattern 36 is removed and a mask pattern 37 is formed on the surface of the substrate 21 so that a substrate processing area including the concave 27 may be formed into a prescribed shape.例文帳に追加
その後に、上記凹部形成用マスクパターン36を除去し、然る後に、凹部27を含む基板加工領域を設定の形状に加工するための成形用マスクパターン37を半導体基板21の表面に形成する。 - 特許庁
To provide an image processing unit that can avoid errors in pattern matching caused by extraction and use of an improper matching area so as to composite images with high accuracy in the case of the pattern matching.例文帳に追加
パターンマッチングを行う際に、不適切なマッチング領域が抽出、使用されることに起因するパターンマッチングの誤りを回避し、高精度に画像の合成を行うことのできる画像処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method of processing a glass substrate by which a pattern faithful to a shape pattern of a photomask can be provided in a thin glass substrate which deforms when provided with a film used as etching mask.例文帳に追加
エッチングマスクとなる膜を設けて変形が生じる薄いガラス基板に対して、フォトマスクが有する形状パターンに忠実なパターンをガラス基板に設けることができるガラス基板の加工方法を提供する。 - 特許庁
In the ground pattern formed by this way, the taste of the ground pattern appearing on the surface of the workpiece is varied by adjusting the incident angle of the abrasive to the surface of the workpiece and other processing conditions.例文帳に追加
このようにして形成される地模様は,被加工物の表面に対する研磨材の入射角,その他の加工条件の調整によって,被加工物の表面に現れる地模様の趣を変化させることができる。 - 特許庁
Pattern data stored in a pattern storing means 40 are read out, in accordance with scenario data corresponding to a present game state to be displayed in the order of patterns on a screen of a display device 60 through an image processing means 50.例文帳に追加
現在の遊技状態に対応するシナリオデータに従って、図柄記憶手段40に記憶された図柄データが読み出され、画像処理手段50によって図柄が順次表示装置60の画面に表示される。 - 特許庁
The pattern controller displays a preparation image for which the specification number "CROL2SK" of the specification A is written in an "yellow" background area 62a on the display screen of the pattern controller in activation processing after the power is supplied.例文帳に追加
図柄制御装置は、電源投入後の起動処理時に、「黄色」の背景領域62aにスペックAのスペック番号「CROL2SK」が表記された準備画像を図柄制御装置の表示画面に表示させる。 - 特許庁
The pattern data stored in a pattern memory means 40 is read out according to scenario data corresponding to the current game state and the figures are displayed by an image processing means 50 sequentially on a screen of a display device 60.例文帳に追加
現在の遊技状態に対応するシナリオデータに従って、図柄記憶手段40に記憶された図柄データが読み出され、画像処理手段50によって図柄が順次表示装置60の画面に表示される。 - 特許庁
The optical processing element has a pattern formed by arraying a plurality of metal fine structural bodies, having a diameter D<λ to incident light, having a wavelength λ of linear shape on a substrate at an interval d1<D as a unit array pattern.例文帳に追加
波長λの入射光に対し、直径DがD<λである金属微細構造体の複数個を基板上に間隔d1<Dで離隔して直線状に配列させたパターンを単位配列パターンとする。 - 特許庁
The draft processing part 103 include a draft DB 117, a data retrieval part 106, a pattern generation part 107, a draft display and editing part (pattern correction part) 108, and a data transfer control part (correction requesting part) 109.例文帳に追加
設計図処理部103は、設計図DB117と、データ検索部106と、図形生成部107と、設計図表示・編集部(図形修正部)108と、データ転送制御部(修正要求部)109とからなる。 - 特許庁
To provide an image processing apparatus which produces less incorrect separation between characters on a dot matrix and a dot matrix pattern by separating characters on the dot matrix in a legible manner and reproducing a dot matrix pattern without uncomfortable feeling during operation in economy mode.例文帳に追加
エコモード使用時に、網点上の文字を判読可能な程度に分離し、網点絵柄を違和感なく再生し、網点上の文字と網点絵柄との誤分離が少ない画像処理装置を提供する。 - 特許庁
In the case that the editing of images recorded in the recording medium 16 is commanded, a recording signal processing part 14 writes editing pattern identification information and an editing pattern start point in the recording medium 16 as recording medium management information.例文帳に追加
記録メディア16に記録された画像の編集が指令された場合、記録信号処理部14は、編集パターン識別情報と編集パターンスタート点を、記録メディア16に、記録メディア管理情報として書き込む。 - 特許庁
An image processing LSI 304 processes the original image of a pattern stored in a character ROM 303, and changes an image characteristic such as the degree of graduation stepwise to display the image of the pattern on an LED display 305.例文帳に追加
画像処理用LSI304は、キャラクタROM303に格納された図柄の原イメージを画像処理して、ぼかしの程度などの画像特性を段階的に変化させてLEDディスプレイ305に表示する。 - 特許庁
To provide a resist processing method by which a pattern obtained by a resist composition for the formation of a first resist pattern is formed in an ultra-fine high-precision state, in a multiple patterning method such as a double patterning method.例文帳に追加
ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、1回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To form a fine pattern with a high aspect ratio by applying a layer which absorbs light to convert into heat on the lower and upper faces of a resist and processing the resist by heat when a fine pattern is formed on the objective substrate.例文帳に追加
被処理基板上に微細パターンを加工する際に、レジストの下面および上面に光吸収熱変換層を配し、熱によるレジストの加工を行うことで高アスペクト比の微細パターン加工を可能とする。 - 特許庁
The packaging substrate has a double-layer conductive pattern structure, has signal wiring patterns and power supply wiring patterns 300-307 for connecting the memory device to the data processing device on the first surface, and has a ground pattern on a second surface.例文帳に追加
前記実装基板は2層の導電パターン構造を有し、第1面にはメモリデバイスとデータ処理デバイスを接続する信号配線パターンと電源配線パターン(300〜307)を有し、第2面にはグランドパターンを有する。 - 特許庁
To provide the manufacturing method and device of a conductive pattern in a printed circuit board capable of precisely and inexpensively processing a conductive pattern formed by oppositely arranging a plurality of rows on a printed circuit board.例文帳に追加
プリント基板に複数列対向配置して形成した導電パターンに、精度よく、安価に処理を施すことのできるプリント基板における導電パターンの製造方法及び製造装置を提供すること。 - 特許庁
An update unit 74a of the fault pattern server updates a fault pattern storage table 73a of a large-capacity storage unit 73 based upon difference data 71a generated by a substrate processing apparatus to which a device fault occurs.例文帳に追加
故障パターンサーバの更新部74aは、機器故障が発生した基板処理装置にて生成された差分データ71aに基づいて、大容量記憶部73の故障パターン格納テーブル73aを更新する。 - 特許庁
The projector 1 projects, onto a screen 3, a white or gray test pattern (color adjustment image) formed on a projection device 14 by an image processing unit 15, and the test pattern projected on the screen 3 is imaged by a camera 12.例文帳に追加
プロジェクタ1は画像処理部15が投射デバイス14上に形成させた白又は灰色系のテストパターン(色調整用画像)をスクリーン3へ投射し、スクリーン3に投射されたテストパターンをカメラ12で撮像する。 - 特許庁
The data operating section at the image processing section 102 determines the average value of 16 uniform patterns, i.e., the same data pattern of read out color pattern image data, and then determines the difference between the average value and each of the 16 uniform patterns (Step 204).例文帳に追加
画像処理部102のデータ演算部は、読み取ったカラーパターン画像データの同一データパターンである均一パターンそれぞれ16個の平均値を求め、その平均値とそれぞれ16個との差を求める(ステップ204)。 - 特許庁
A image slippage position is retrieved by using an electronic watermark pattern having a slippage by each small area with respect to an embedded electronic watermark pattern to attain efficient retrieval of the image shift position and electronic watermark detection processing.例文帳に追加
埋め込んだ電子透かしパターンに対して小領域毎にずれを持たせた電子透かしパターンを用いて画像ずれ位置を探索することで、画像ずれ位置の効率的な探索、電子透かし検出処理が可能となる。 - 特許庁
A rectangular tubular ground pattern 15 is formed with a conductive wiring pattern around the radiation detection element 5 and amplifying circuit 6 fixed to the upper surface of a signal processing circuit board 3.例文帳に追加
信号処理回路基板3の上面に、当該上面に固定された放射線検出素子5及び増幅回路6の周囲に長方形の管状にグランドパターン15を導電性の配線パターンにて形成する。 - 特許庁
Plasma processing is performed on the backup metal oxide film pattern using a gas containing halogen element of 0.1 to 10% and a source gas containing an inert gas to form the metal oxide film pattern where a lower section linewidth is decreased.例文帳に追加
前記予備金属酸化膜パターンを0.1%乃至10%ハロゲン元素を含むガス及び不活性ガスを含むソースガスを利用してプラズマ処理して下部線幅が減少された金属酸化膜パターンを形成する。 - 特許庁
Then it is decided whether or not the pattern extracted in lottery processing is matched with the winning pattern selected and inputted by the player and when both the patterns are matched, a big win is established (ref., selection success picture (4)).例文帳に追加
そして、抽選処理で抽出された図柄と、プレーヤーが選択入力した当たり図柄とが一致するかどうか判断され、両方の図柄が一致する場合に大当たりとなる(▲4▼選択成功画面参照)。 - 特許庁
At the time of the interruption processing of a reset signal (2 ms later) next to the interruption, a numerical value is extracted from an intermediate pattern preparing random number C and a right pattern preparing random number R and stored and they are read and judged.例文帳に追加
当該割込みの次のリセット信号(2ms後)の割込み処理の際、中図柄作成乱数C、右図柄作成乱数Rから数値を抽出・格納をすると共に、それらの読出及び判定を行う。 - 特許庁
Since the processing speed of a PCI bus is slow and a CPU cannot capture signals by one image pattern at a speed of an HDTV synchronizing signal, a memory provided in the PCI board 18 stores one image pattern of moving picture data as a still picture.例文帳に追加
PCIバスの速度は遅く、HDTV同期信号速度では一画面分の信号をCPUに取り込めないので、動画データの一画面を静止画としてPCIボード18の中に設けたメモリに記憶する。 - 特許庁
As a preferred processing condition of cleaning a substrate that is formed with an Al wiring pattern, a gas flow rate of 80 L/min is used to process a substrate that is formed with a pattern having an aspect ratio of less than 2.2.例文帳に追加
好適な処理条件の1つとして、Al配線パターンが形成された基板上において、アスペクト比2.2未満のパターンが形成された基板に対して、気体流量80L/minで処理を行う。 - 特許庁
To provide an image processor for shortening a print time when printing an original image with a pattern image superimposed thereon, and dispensing with multiple resources for generating the pattern image, and to provide an image processing program.例文帳に追加
原稿画像に地紋画像を重ね合わせて印刷する際の印刷時間を短縮し、地紋画像生成の為に多くのリソースを必要としない画像処理装置及び画像処理プログラムを提供すること。 - 特許庁
A main CPU (Central Processing Unit) 31a determines whether a result of a pattern variation game is a jackpot or not on an occasion of prize winning of a game ball into a starting prize-winning port, thereby deciding a variation pattern from a determination result.例文帳に追加
メインCPU31aは、始動入賞装置への遊技球の入賞を契機として図柄変動ゲームの結果が大当りになるか否かを判定し、判定結果に基づいて変動パターンを決定する。 - 特許庁
To provide an image processing system, with which a pattern can be plotted easily to watch on a background picture almost without loading burden to a CPU.例文帳に追加
CPUに殆ど負担をかけることなく背景画面上にパターンを見やすく描画することができる画像処理システムを提供する。 - 特許庁
The recognized result processing part 15 outputs the recognized result by discriminating the propriety of the collation pattern based on the estimated division rules.例文帳に追加
認識結果処理部15では、推定された分割ルールに基づいて照合パタンの正当性を判定して認識結果の出力を行う。 - 特許庁
In the drawing processing, the run-length data 212 is stripped, or directly corrected on the basis of each division pattern, so as to reconfigure strip data 212a.例文帳に追加
一方、描画処理ではストリップ、つまり分割パターン単位でランレングスデータ212が直接補正されてストリップデータ212aが再構築される。 - 特許庁
To surely perform recognition processing even for an electronic component which is formed of a light transmitting material and for which a pattern is executed on the bottom surface.例文帳に追加
光を透過する材質で作製されると共にその底面にパターンが施された電子部品であっても、確実に認識処理できること。 - 特許庁
In a fourth processing step, coatings 29, 31 covering the initial surface pattern are applied, especially by a sputtering method, preferably as an alternating layer system.例文帳に追加
第4処理ステップにて、初期表面パターンを覆うコーティング29、31を、好ましくは交代層システムとして、特にスパッタリング法で適用。 - 特許庁
Furthermore, this emphasis processing is carried out by increasing an exposure amount nearby an end of a high-irradiation part of the exposure pattern.例文帳に追加
また、前記露光パターンの高照射部分の端部近傍の露光量増大により前記強調処理を行っていることを特徴とする。 - 特許庁
Furthermore, this emphasis processing is carried out by decreasing an exposure amount nearby an end of a low-irradiation part of the exposure pattern.例文帳に追加
また、前記露光パターンの低照射部分の端部近傍の露光量減少により前記強調処理を行っていることを特徴とする。 - 特許庁
To generate a two-dimensional code by which a rotational direction in reading the two-dimensional code can be specified without the need for high-load pattern matching processing.例文帳に追加
負荷の大きいパターンマッチング処理を必要とせずに、読み取りの際の二次元コードの回転の向きを特定できる二次元コードを生成する。 - 特許庁
To create surface processing data for forming a less-strained, impressive grained pattern on a product surface even when a product shape is not a developable surface.例文帳に追加
可展面でない製品形状であっても、製品表面に歪みの少ない、見栄えの良い絞が形成される表面加工データを作成する。 - 特許庁
Next, a characteristic curve, indicating a relation between the arithmetic result of the arithmetic processing and a position on a predetermined image of the main pattern MP, is calculated.例文帳に追加
次に、この演算処理の演算結果と、メインパターンMPの所定の画像上の位置との関係を示す特性曲線を算出する。 - 特許庁
According to this method, a pretreatment is effected for forming a modified part 13b by processing the film to be etched 13 exposed from the mask pattern 15 with SiO_2.例文帳に追加
これにより、マスクパターン15から露出している被エッチング膜13部分をSiO_2化して改質部13bを形成する前処理を行う。 - 特許庁
In an image forming apparatus 1, an image processor 20 applies block average processing with a periodic structure being the same as that of a dither pattern.例文帳に追加
画像形成装置1によれば、画像処理装置20において、ディザパターンの周期構造と同じ周期構造でブロック平均処理を行う。 - 特許庁
To improve precision and stability of thin-film processing by enhancing the etching resistance of a resist pattern, using a simple and effective resist-modifying method.例文帳に追加
簡便かつ効果的なレジスト改質法によりレジストパターンのエッチング耐性を強化して、薄膜加工の精度・安定性を向上させる。 - 特許庁
To provide an image processing apparatus which selects the optimum screen pattern according to an image, and forms a high image-quality image with no density dispersion.例文帳に追加
画像に応じて最適なスクリーンパターンを選択し、濃度むらのない高画質な画像を形成することができる画像処理装置を提供する。 - 特許庁
The imprint processing station 4 has two or more imprint units 60 for forming the second resist film and forming the predetermined resist pattern.例文帳に追加
インプリント処理ステーション4は、前記第2のレジスト膜の形成と所定のレジストパターンの形成を行うインプリントユニット60を複数有している。 - 特許庁
In a slot machine 1, the combination of symbols as the result of lottery by a pattern lottery processing (S3) is displayed on a lower liquid crystal display 4.例文帳に追加
スロットマシン1においては、図柄抽選処理(S3)の抽選結果である図柄の組み合わせが下部液晶ディスプレイ4に表示される。 - 特許庁
To provide an image processing device that prevents the occurrence of a vertical striped pattern in the background of a composite image when performing panning.例文帳に追加
流し撮りを実行した際に、合成画像の背景に縦方向の縞模様が生じるのを防止できる画像処理装置を提供すること。 - 特許庁
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