「processing pressure」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

To accurately and highly precisely detect only pressure in a straight movement direction, to make the durability of a load cell longer and to perform an accurate zero reset processing.例文帳に追加

直進方向の圧力のみを正確かつ高精度に検出するとともに、ロードセルの長寿命化を図り、また、正確なゼロリセット処理を行う。 - 特許庁

To provide an inexpensive dynamic pressure air bearing type light deflector with high accuracy which can suppress the vibration in the axial direction of a rotor part by a simple processing method.例文帳に追加

簡便な加工方法によりロータ部の軸方向の振動を抑制することのできる高精度で安価な動圧空気軸受型光偏向器を提供する。 - 特許庁

To provide continuously moldable steel material not generating mold falling in strong ironing processing under high surface pressure bringing a panel thickness reducing ratio to 40% or more.例文帳に追加

板厚減少率が４０％以上となるような、高面圧での強しごき加工において型カジリを起こさず、かつ連続成形可能な鋼材を提供する。 - 特許庁

The surface of a liquid 6 in a processing tank 2 for machining is raised by a precision air pressure regulator 31 and the liquid surface comes in contact with the back side face of a work W.例文帳に追加

エアー圧力精密レギュレータ３１により加工処理槽２の液体６の液面を上昇させ、ワークＷの裏側の面に接触させる。 - 特許庁

To provide a silver halide color photographic light-sensitive material having high sensitivity and high contrast even in digital exposure, excellent in pressure resistance and having suitability to rapid processing.例文帳に追加

デジタル露光においても高感かつ硬調であり、耐圧力性に優れ迅速処理適性のあるハロゲン化銀カラー写真感光材料を提供する。 - 特許庁

From the side with this processing hardened part, another punch 26 is fitted by pressure into the enlarged portion of the hole 14, so as to generate a uniform diameter of the end part of the suction pipe 10, and finally processing hardened part is established.例文帳に追加

次いで、孔部１４内の拡径された加工硬化部内に加工硬化部側から他のポンチ２６を圧入することによって、吸気管１０の端部の径を均一にし、最終的に加工硬化部１９を得る。 - 特許庁

To provide a method of permeating and immobilizing a metal complex stably even in a low temperature processing in a batch processing method of a plating pretreatment which permeates the metal complex into a polymer using a high pressure carbon dioxide.例文帳に追加

高圧二酸化炭素を用いて金属錯体をポリマーに浸透させるメッキ前処理のバッチ処理法において、低温度の処理においても安定に金属錯体をポリマーに浸透、かつ固定化する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a ALD processing kit and chamber components that is used for reforming a conventional chamber, can rapidly purge processing gas, and gives better gas, temperature, and pressure uniformity over the whole substrate.例文帳に追加

慣用のチャンバの改造に使用可能で、処理ガスの迅速なパージも可能としつつ、基板全体に亘ってより良好なガス、温度及び圧力均一性を付与するＡＬＤ処理キット及びチャンバ構成部品を提供する。 - 特許庁

To provide a silver halide color photosensitive material suitable for digital exposure (high illuminance exposure), having high pressure resistance in development, capable of undergoing high-speed processing (mass processing) and capable of realizing a print system with high image quality.例文帳に追加

デジタル露光用途（高照度露光）に適し、現像処理時の圧力耐性が高く、高速処理（大量処理）可能で高画質なプリントシステムを実現できるハロゲン化銀カラー感光材料を提供すること。 - 特許庁

A control unit continuously executes guide slit formation processing for moving an outer guide face 35 from a retreat position to a guide position, and fitting processing for moving a pressure-fitting guide 38 from the retreat position to a press-fitting position.例文帳に追加

制御ユニットは、外側ガイド面３５を待避位置からガイド位置へ移動させるガイドスリット形成処理と、圧入ガイド３８を待避位置から圧入位置へ移動させる嵌入処理とを連続的に実行する。 - 特許庁

In the processing apparatus 1, under a condition that the flow rate of the ozone containing gas is constant, an ignition in the chamber 24 is detected based on a differential pressure between a gas supply line 11 and an exhaust line 12 of the high temperature processing chamber 24.例文帳に追加

プロセス装置１においては前記オゾン含有ガスの流量が一定のもとで高温処理チャンバ２４のガス供給ライン１１と排気ライン１２の差圧に基づき当該チャンバ２４における発火が検出される。 - 特許庁

The carbon dioxide fluid contaminated containing the nonvolatile organic residue thus extracted is then taken out from the processing chamber so that the organic residue is not deposited on the component made of a polymer material by reducing the pressure in the processing chamber.例文帳に追加

処理チャンバを減圧することにより、有機残渣がポリマー材料製構成部品上に堆積しないように、抽出された不揮発性有機残渣を含む汚染された二酸化炭素流体を処理チャンバから取り出す。 - 特許庁

The tip end of the connecting member 4 is pivotally mounted to the processing part 3 via a tip end link pin 32, so that the processing part 3 can rotate around the rotation axial line Y perpendicular to the axial line X of the oil pressure generating part 2.例文帳に追加

接続部材４の先端部を、先端リンクピン３２を介して加工部３に枢着し、加工部３が油圧発生部２の軸線Ｘに直交する回動軸線Ｙのまわりを回動できるようにする。 - 特許庁

This sealing structure for restraining a processing liquid from flowing to the outside through an opening (long hole) on a processing bath side face comprises a first sealing means, and a second sealing means (sealing plate) pressure-welded to the first means to close the opening.例文帳に追加

加工槽側面の開口（長穴）を通して加工液が外部へ流出することを規制するシール構造は、第１のシール手段と、同手段に圧着されて開口を塞ぐ第２のシール手段（シール板）を備える。 - 特許庁

To provide an atmospheric pressure plasma processing apparatus that sequentially performs plasma processing on substrates while transporting many setters carrying the substrates by arranging the setters in a row and can relieve the influence of another gas flow, such as sucked air etc., exerted upon the blown-off flow of a process gas.例文帳に追加

多数のセッタを一列に並べて搬送しながら順次プラズマ処理する装置であって、処理ガスの吹出し流が、吸気等の他のガス流の影響を受けるのを緩和できる装置を提供する。 - 特許庁

To enhance machining accuracy, processing efficiency and/or security of processing of a substrate to be treated processed under reduced pressure after temporarily adhering a face having an uneven shape of the substrate to be treated and a surface of a base substrate.例文帳に追加

被処理基板における凹凸形状を備えた面と下地基板の表面とを仮接着した後に減圧下において処理する際の、加工精度、処理効率、及び／又は処理の安全性を高める。 - 特許庁

Thus, the carrying unit 7, the reduced-pressure drying units 53b and 55b and the resist application processing unit CT are prevented from being arranged side by side in one direction, thereby miniaturizing an application development processing apparatus 1.例文帳に追加

このため、垂直搬送ユニット７、減圧乾燥ユニット５３ｂ、５５ｂ及びレジスト塗布処理ユニットＣＴが一方向に並設されることことを回避して、塗布現像処理装置１の小型化を図ることができる。 - 特許庁

The slow evacuation of the wafer processing container through a gas outlet 8 is started with the wafer kept vacuum-adsorbed for avoiding the adverse effect of fluctuation in pressure in the wafer processing container, and the wafer is released from adsorption thereafter (S23).例文帳に追加

ウェハー加工容器内のガス排出部８からスロー排気を始める際、加工容器内の圧力変動の影響を避けるためウェハーを真空吸着状態で開始、その後ウェハーの吸着解除する（Ｓ２３）。 - 特許庁

When the ground electrode 14 is in the finishing processing zone B, pushing pressure quantity Kb by one-time pushing action is set to be smaller than when it is in the rough processing zone (Kb<ka), and further, pushing quantity Kb is set to a constant value.例文帳に追加

接地電極１４が仕上加工領域Ｂにあるときは、粗加工領域Ａにあるときよりも、一回の押圧動作による押圧量Ｋｂを小さくする（Ｋｂ＜Ｋａ）と共に、押圧量Ｋｂを一定値とする。 - 特許庁

To provide an inexpensive system with excellent portability, capable of reducing loads of signal processing in a body unit and permitting use of a miniaturized data processing terminal etc. with high versatility as the body unit by configuring a biological signal processing unit having a signal processing part for processing measuring data such as ECG data, SpO2 data and NIBP (Non Invasive Blood Pressure) data to be separable from the body unit.例文帳に追加

ＥＣＧデータ、SpO2データ及びNIBPデータ等の測定データを処理する信号処理部を備えた生体信号処理ユニットを本体ユニットから分離可能に構成することによって、本体ユニットにおける信号処理の負担を軽減して、本体ユニットとして汎用性の高い小型データ処理端末等の使用を可能とする安価かつ携帯性に優れたシステムを実現する。 - 特許庁

The leak determining device in the evaporated fuel processing system supplying to intake system for the internal combustion engine provides a detecting means of detecting pressure in the processing system and a shaking determining means of determining whether fuel shaking might be generated or not in a fuel tank in accordance with variation state of the pressure in the above processing system which has been detected during leak determining period.例文帳に追加

内燃機関の吸気系に供給する蒸発燃料処理系におけるリーク判定装置であって、処理系内の圧力を検出する検出手段と、リーク判定期間中に検出された前記処理系内の圧力の変化状態に応じて、燃料タンク内で燃料の揺れが発生したか否かを判定する揺れ判定手段とを備える。 - 特許庁

A processing apparatus for the ion exchange resin to be used for reactor water purification at a nuclear power plant, includes a reaction vessel which accumulates a mixture of the ion exchange resin and water as ion exchange resin slurry and heats the ion exchange resin slurry at a processing temperature of 100°C or more and under a processing pressure equal to or higher than a saturated steam pressure.例文帳に追加

本発明では、原子力発電所の炉水浄化に用いられるイオン交換樹脂の処理装置において、イオン交換樹脂と水の混合物をイオン交換樹脂スラリーとして貯留し、このイオン交換樹脂スラリーを１００℃以上の処理温度で且つ水の飽和水蒸気圧以上の処理圧力の下で加熱可能に構成される反応容器を備えるようにした。 - 特許庁

Plasma generation gas used for generating an atmospheric pressure plasma is mixed gas comprising: argon (Ar) as base gas (carrier gas) having processing capability when converted into a plasma and transporting the plasma generation gas as a whole to a plasma source; and oxygen gas or carbon dioxide gas as processing effectiveness enhancing gas enhancing the processing effectiveness of the atmospheric pressure plasma.例文帳に追加

大気圧プラズマを生成するために用いられるプラズマ生成用ガスであって、プラズマとなることにより処理能力を有するとともに、プラズマ生成用ガス全体をプラズマ源に搬送するためのベースガス（キャリアーガス）としてのアルゴン（Ａｒ）と、前記大気圧プラズマの処理効果を向上する処理効果向上ガスとしての酸素ガスもしくは炭酸ガスとの混合ガスとした。 - 特許庁

The pressure regulating device 37 sends air to the piping chamber 12 to produce a supercharged state in the piping chamber 12 to thereby keep the inner pressure of the piping chamber 12 to be higher than that of a processing chamber 11 adjoining the piping chamber 12 through a partition wall 15.例文帳に追加

調圧装置３７は、配管室１２に空気を送り込んで配管室１２内を過給気状態にすることで、隔壁１５を介して隣接する処理室１１よりも配管室１２の内圧が高くなるように保つ。 - 特許庁

After processing at such a process pressure and flow rate, even a lower level of oxygen contamination may be achieved by then increasing the process pressure, hydrogen flow rate, and process temperature, through the process temperature still remains less than 800°C.例文帳に追加

こうした処理圧力及び流量で処理後、処理温度は８００未満のままであっても、処理圧力、水素流量、及び処理温度を増大することによって、さらに低いレベルの酸素汚染を達成可能である。 - 特許庁

In the brake control device in one embodiment, a limit gradient value corresponding to an operating state of each retention valve is selected when performing a feedback control of an upstream pressure of the retention valve and a filtering processing is executed with respect to a detection value of the upstream pressure.例文帳に追加

ある態様のブレーキ制御装置においては、保持弁の上流圧のフィードバック制御に際して、各保持弁の動作状態に応じた限界勾配値が選択され、上流圧の検出値に対してフィルタリング処理が行われる。 - 特許庁

A non-reflection terminating processing of the WDM couplers 101 and 102 is performed on the outside of the pressure resistant case body and the optical characteristics of the gain equalizer are changed even after housing the WDM couplers in the pressure resistant case body.例文帳に追加

ＷＤＭカプラ１０１及び１０２の無反射終端処理を耐圧筐体の外部で行うことにし、ＷＤＭカプラを耐圧筐体に収容した後も、利得等化器の光学特性を変更できるようにした。 - 特許庁

The wireless device further includes a control unit which, when the sound collection microphone detects sound or when a PTT (Push To Talk) is pressed down, performs processing for stopping the operation of an atmospheric pressure sensor or invalidating a signal transmitted from the atmospheric pressure sensor.例文帳に追加

また、集音マイクにより音声が検出された場合又はＰＴＴが押下された場合に、気圧センサの動作を停止する又は気圧センサから送信される信号を無効とする処理を行う制御部を備える。 - 特許庁

According to this plasma processing method, a chlorine-containing gas containing helium, chlorine, nitrogen, and argon is introduced into a reaction vessel 1 from a gas introduction line 8, and the pressure inside the reaction vessel 1 is made the same as atmospheric pressure or close to it.例文帳に追加

このプラズマ加工方法では、ガス導入ライン８から反応容器１の中にヘリウム、塩素、窒素、アルゴンを含む塩素含有ガスが導入され反応容器１の内部の圧力は大気圧または大気圧近傍の圧力とされる。 - 特許庁

Static converters 41, 42 are provided on a route of air pipes 21, 22 and are constituted so as to input an internal pressure signal AS1 of the air springs 51A, 51B and an internal pressure signal AS2 of the air springs 52A, 52B to an operation processing unit 3.例文帳に追加

空気配管２１、２２の経路に空電変換器４１、４２を設け、空気ばね５１Ａ、５１Ｂの内部圧力信号ＡＳ１、空気ばね５２Ａ、５２Ｂの内部圧力信号ＡＳ２を演算処理器３に入力する構成とする。 - 特許庁

A target intake air amount or a target supercharge pressure is set by a setting means 63 in accordance with an operating condition, a delay processing value of this target intake air amount or target supercharge pressure is calculated in an arithmetic means 64.例文帳に追加

目標吸入空気量または目標過給圧を運転条件に応じて設定手段６３が設定し、この目標吸入空気量または目標過給圧の遅れ処理値を演算手段６４が演算する。 - 特許庁

To restrain deformation of a main spindle by keeping a bearing clearance between static pressure radial bearings which rotatably support the main spindle constant all the time by using a constant pressure ratio flow regurating valve, and to improve processing accuracy by accurately supporting the roll.例文帳に追加

定圧比流量調整弁を用いることにより、主軸を回転自在に支持する静圧ラジアル軸受の軸受隙間を常に一定に保つようにして主軸の変形を抑え、ロールを正確に支持して加工精度の向上を図る。 - 特許庁

To provide a container pushing processing apparatus that increases the strength of a container with simple constitution by raising the internal pressure of the container by pushing a part of the container while stably pressing and holding the container so as to apply suitable internal pressure to the container in advance.例文帳に追加

容器押込処理装置において、簡素な構成により、容器に予め適度な内圧力を付与するように容器を安定的に押圧保持しつつ、容器の一部を押込んで容器の内圧を高め、容器の強度を高めること。 - 特許庁

After the saturation steam pressure (P), the saturation temperature (t) and the temperature (T) in the processing chamber 19 are settled at specified levels (H2), annealing work is started while sustaining the saturation temperature (t) and the saturation steam pressure (P) at constant levels.例文帳に追加

次に、飽和蒸気圧力（Ｐ）と、飽和温度（ｔ）と、処理室１９内の温度（Ｔ）と、が所定の値になった後（Ｈ２）に、飽和温度（ｔ）と、飽和蒸気圧力（Ｐ）と、を一定の値に維持しながらアニール処理作業に入る。 - 特許庁

A variation quantity ΔP of the tank internal pressure PTANK detected in secondary pressure reduction is determined (Step 10), and this is compared with a prescribed value ΔPREF, and the existence of the leak of the evaporation fuel processing system 20 is judged (Step 11).例文帳に追加

そして、二次減圧中に検出されたタンク内圧ＰＴＡＮＫの変動量ΔＰを求め（ステップ１０）、これと所定値ΔＰＲＥＦと比較することにより、蒸発燃料処理系２０のリークの有無を判定する（ステップ１１）。 - 特許庁

The deviation between an actual oil pressure detected being supplied to fiction engagement elements and the result of phase lag processing on the target oil pressure by a phase lag processing part 24 is computed as an error level, based on which a PID feedback control part 25 sets a feedback level.例文帳に追加

一方、摩擦係合要素に対する実際の供給油圧を検出し、該検出された実際の油圧と、前記目標油圧を位相遅れ処理部24で位相遅れ処理した結果との偏差としてエラー量を演算し、ＰＩＤフィードバック制御部25において前記エラー量に応じてフィードバック量を設定する。 - 特許庁

A fuel vapor processing apparatus of a processing system includes a fuel tank 1, the canister 2 adsorbing fuel vapor, an aspirator 4 for generating negative pressure by introducing a part of fuel discharged from a fuel pump 3, and an ECU (Engine Control Unit) 30, and recovers vapor fuel by utilizing negative pressure of the aspirator.例文帳に追加

燃料タンク１と、蒸発燃料を吸着するキャニスタ２と、燃料ポンプ３から吐出される燃料の一部を導入して負圧を発生させるアスピレータ４と、ＥＣＵ３０とを備え、アスピレータ４の負圧を利用して蒸発燃料を回収する処理システムの蒸発燃料処理装置である。 - 特許庁

In the method of performing high-pressure processing on a work 2 by the use of supercritical or subcritical fluid, the fluid is made to impinge on the surface 2a of the work 2 arranged in a high-pressure processing chamber 9 and then to flow outward from the work 2 along the surface 2a of the work 2.例文帳に追加

超臨界あるいは亜臨界状態の流体を用いて被処理体２に高圧処理をする高圧処理方法において、前記流体を、高圧処理室９に配置された被処理体２の表面２ａに衝突させた後、被処理体２の表面２ａに沿って被処理体２の外方に向けて流通させる。 - 特許庁

Thus, in tank internal pressure sensor output variation failure diagnostic processing, when operating an engine, tank internal pressure sensor output variation discriminating processing (S112 or S136 and S126) is continuously performed for making normal determination even in either in traveling and stopping.例文帳に追加

したがってタンク内圧センサ出力変動故障診断処理においては、エンジンの運転中は、走行中であろうと停車中であろうと、いずれにおいても正常判定を下すために行われるタンク内圧センサの出力変動判別処理（Ｓ１１２又はＳ１３６とＳ１２６）を継続的に実行している。 - 特許庁

The polishing device has the polishing pressure measuring method having a process of measuring and detecting polishing pressure and its distribution during polishing by comparing measured data with known data, its measuring means, and an image processing device for image-processing a two-dimensional reflection intensity image and obtaining the measured data based on strain analysis.例文帳に追加

計測データを既知データと比較することで研磨加工中の研磨加工圧及びその分布を測定検出する工程とを有する研磨加工圧測定方法とその測定手段を具備し、又、２次元反射強度像を画像処理してひずみ解析による計測データを得るための画像処理装置とを備えるよう構成する。 - 特許庁

The data processing means 25 calculates a difference between the gradients of a pressure inside the vacuum drying container 11 measured by the measuring means 21 when the data processing means is under evacuation and storing the material to be dried 13 and a pressure in the vacuum drying container 11 when the means is under evacuation and not storing the material to be dried 13.例文帳に追加

データ処理手段２５は、真空排気時であって被乾燥物１３を収容した場合にて計測手段２１により計測された真空乾燥容器１１内の圧力と、真空排気時であって被乾燥物１３を収容しない場合における真空乾燥容器１１内の圧力勾配の差を算出する。 - 特許庁

Then, it is provided with terminal number detection means 15 and 16 detecting the number of the terminals connected to the Ethernet(R) from the packet received from the Ethernet(R) and a back pressure processing stop means 10a for stopping the back pressure processing when the number of the terminals detected by the terminal number detection means exceeds the threshold.例文帳に追加

そして、イーサネット２から受信したパケットからイーサネットに接続されている端末数を検出する端末数検出手段１５，１６と、端末数検出手段が検出した端末数がしきい値を越えると、バックプレッシャ処理を停止するバックプレッシャ処理停止手段１０ａとを備えている。 - 特許庁

The manufacturing apparatus for manufacturing the semiconductor device from an object to be molded includes a molding die 142 which clamps the object to be molded for injection of molten resin, for molding, and an atmospheric pressure plasma processing apparatus 160 which reforms a parting surface of the molding die 142 to have hydrophobic property by atmospheric pressure plasma processing.例文帳に追加

被成形品から半導体装置を製造する製造装置は、前記被成形品を型締めして溶融樹脂を注入して成形する成形金型１４２と、大気圧プラズマ処理によって成形金型１４２のパーティング面を疎水性に改質する大気圧プラズマ処理装置１６０と、を有する。 - 特許庁

Then electrolytic processing is performed, thus the part (hill portion 44b) changed in its metal structure is hardly dissolved by electrolytic processing, and a part not changed in its metal structure, that is, not receiving the irradiation of laser beam is dissolved by electrolytic processing to form the dynamic pressure generating groove 44a at that part.例文帳に追加

その後、電解加工を施すと、金属組織が変化した部分（丘部４４ｂ）は電解加工による溶解がし難く、金属組織が変化していない即ちレーザ光の照射を受けていない部分は電解加工により溶出し、その箇所に動圧発生溝４４ａが形成される。 - 特許庁

In this vacuum cooling method for cooling the cooled objects by decompressing the inside of a processing tank 3, a decompression rate in the processing chamber 3 is controlled based on the temperature variation of the cooled objects and/or a pressure variation in the processing chamber 3.例文帳に追加

処理槽３内を減圧して被冷却物２を冷却する真空冷却方法において、前記被冷却物２の温度変化および／または前記処理槽３内の圧力変化に基づいて、前記処理槽３内の減圧速度を制御することを特徴としている。 - 特許庁