「processing pressure」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

This method for processing food materials comprises steps of processing bean curd refuse, liquid bean curd refuse, slurry obtained by adding water to bean curd refuse, or food materials containing these bean curd refuse under the high-temperature and high-pressure conditions, i.e., either supercritical conditions or subcritical conditions for water, or under the combination of these conditions.例文帳に追加

オカラ、液状のオカラ、オカラに水を加えたスラリー、又はこれらオカラを含む食品原料を、水の超臨界条件と亜臨界条件とのいずれかの高温高圧条件又はこれらを組み合わせた条件の下で加工処理する。 - 特許庁

The machine is provided with a processing liquid supply unit constituted of an injection chamber for storing the silver halide photographic sensitive material processing liquid, two or more orifices communicating with the injection chamber, and a converting means for varying the internal pressure of the injection chamber.例文帳に追加

ハロゲン化銀写真感光材料用処理液を収容する噴射チャンバーと、噴射チャンバーに連通した２個以上のオリフィスと、噴射チャンバーの内部圧力を変化させる変換手段とで構成された処理液供給ユニットを有する。 - 特許庁

Along the transporting line 1 of the atmospheric pressure plasma processing apparatus M1, a heating section 2 which heats the substrates W, a processing section 3 which forms a small thickness space 100 between the row of the setters 5 and the section 3, and a cooling section 4 which cools the substrates W are sequentially arranged.例文帳に追加

プラズマ処理装置Ｍ１の搬送ライン１に沿って、基材Ｗを加熱する加熱部２と、セッタ５の列との間に薄厚空間１００を形成する処理部３と、基材Ｗを冷却する冷却部４が順次配置されている。 - 特許庁

To obtain a removable pressure-sensitive adhesive sheet that is capable of preventing breaking or cracking of an adherend and can be readily removed from the adherend after processing the adherend, even when the adherend is extremely weak and is subjected to processing including a heating step.例文帳に追加

被着体が極めて脆弱であり、且つ被着体に熱工程を含む加工を施す場合にも、被着体の「割れ」や「欠け」の発生を防止できるとともに、被着体の加工後には容易に被着体から剥離できる再剥離性粘着シートを得る。 - 特許庁

To provide a rolling bearing unit for a wheel maintaining oscillation accuracy and flatness of a flange part after pressure-fitting/insertion of a serration bolt to the good state without performing secondary processing such as cutting processing and capable of reducing production cost.例文帳に追加

切削加工等の２次加工を行うことなく、セレーションボルトの圧入挿着後のフランジ部の振れ精度、平面度を良好な状態に維持させ、生産コストの低減が可能な車輪用転がり軸受ユニットを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus or the like and a plasma processing method capable of adopting higher concentration radical irradiation for ensuring high speed etching even under a low pressure and ensuring ion concentration required for vertical etching performance.例文帳に追加

本発明は、低圧下にありながら、高速エッチングを確保するためのラジカルをより高濃度とすることができ、しかも垂直エッチング性に必要なイオン濃度を確保することが可能なプラズマ処理装置等や処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A pressure-transfer device, a multiple-circulation return pipe, and the like are installed in a reforming means or a reforming device for liquid fuel with a static processing function to add a significant dynamic processing function, so as to further heighten a reforming effect.例文帳に追加

処理機能が静的だった液体燃料の改質手段乃至は改質装置に、圧送装置と多重循環戻り管等を装備して明確な動的処理機能を付加し、更に改質効果を一段と高めることを特徴とする。 - 特許庁

When the etching step is completed, before execution of the ashing step, a pressure control valve 134 provided at an exhaust port 130 of a processing room 102 is fully opened and the inside of the processing room is vacuumed for a specified time, thereby continuously executing a residual gas removal step of exhausting the etching gas remained in the processing room after the etching step, without taking out a wafer W from the inside of the processing room.例文帳に追加

エッチングステップが終了すると，アッシングステップの実行前に，処理室１０２の排気口１３０に設けられた圧力制御弁１３４を全開にして処理室内を所定時間だけ真空引きすることによって，エッチングステップ後に処理室内に残留したエッチングガスを排出する残留ガス除去ステップを，処理室内からウエハＷを搬出せずに連続して実行する。 - 特許庁

To provide a forming method and equipment to obtain high-quality formed products without occurrence of processing defects such as breakage or processing unevenness due to abnormal deformation when processing, with less processing man-hours not requiring adjustment of pressure of the upper and lower rolls when a ribbed plate material consisting of peripheral flat plate portions and a rib-formed portion at the center is bent and formed.例文帳に追加

周辺の平板部と中央のリブ形成部とによりなるリブ付き板材の曲げ成形加工を行なうにあたり、加工時の上、下ロールや押圧力の調整を不要として少ない加工工数で以って、加工時に折れ等の加工欠陥や異常変形による加工ムラの発生の無い高品質の成形品を得ることができる成形加工方法及び装置を提供する。 - 特許庁

This method of manufacturing a semiconductor device includes steps of: carrying a semiconductor substrate having a resist film formed with an altered layer on a surface thereof into a processing chamber; heating the semiconductor substrate, and increasing pressure in the processing chamber by introducing inactive gas into the processing chamber; and then introducing oxygen gas into the processing chamber and ashing the resist film by plasma of the oxygen gas.例文帳に追加

表面に変質層が形成されたレジスト膜を有する半導体基板を、処理チャンバ内に搬入するステップと、半導体基板を加熱するとともに、処理チャンバ内に不活性ガスを導入して処理チャンバ内の圧力を上げるステップと、次いで、処理チャンバ内に酸素ガスを導入し、酸素ガスのプラズマによってレジスト膜をアッシングするステップとを有する。 - 特許庁

To provide a fuel injection valve with a simple structure capable of easily carrying out a processing and an accuracy taking, suppressing pulse pressure of fuel generated at the time of an opening/closing action of valve part and reducing a noise caused by the pulse pressure.例文帳に追加

構造が簡単で加工や精度出しを容易に行うことができるとともに、弁部の開閉動作時に発生する燃料の脈動圧を抑制することができて、その脈動圧に起因した騒音を低減することができる燃料噴射弁を提供する。 - 特許庁

An optimization processing part 41 calculates the parameter at a prescribed timing, based on the data which indicates the pressure pulse wave amplitude by each inner pressure of the air bag 13 recorded in the memory 7, rewrites the parameter stored in the memory 6, and then, optimizes the parameter.例文帳に追加

最適化処理部４１は、所定のタイミングで、メモリ７に記録されている空気袋１３の内圧ごとの圧脈波振幅を示すデータに基づいて上記パラメータを算出し、メモリ６に記憶されているパラメータを書き替えることで、パラメータを最適化する。 - 特許庁

Then, the hydrogen annealing processing is performed under the atmosphere that the partial pressure of hydrogen is 1000 ppm-100% at the pressure of 10 mTorr to 760 Torr at the temperature of 950 to 1050°C for 1 to 10 minutes, and the trench corner is rounded by the surface diffusion action of silicon atoms.例文帳に追加

つづいて、水素の分圧が１０００ｐｐｍ〜１００％の雰囲気中で、１０ｍTorr〜７６０Torrの圧力で、９５０〜１０５０℃の温度で１〜１０分間の水素アニール処理をおこない、シリコン原子の表面拡散作用により、トレンチコーナー部を丸める。 - 特許庁

In the processing apparatus 1 provided with the back pressure sensor 4, the back pressure sensor 4 is provided with a free-movement detecting sensor 43 for detecting the free movement of the injection nozzle 40, which can freely move in the direction opposing to the injecting direction of the air.例文帳に追加

背圧センサ４を備えた加工装置１において、背圧センサ４は、噴出ノズル４０がエアーの噴出方向と反対の方向に自由移動可能であると共に、噴出ノズル４０が自由移動したことを検出する自由移動検出センサ４３とを備える。 - 特許庁

The processing liquid discharge device further includes: a horizontal drive member for adjusting an interval between the injection nozzle and the suction nozzle; a lifting member for adjusting the level of a discharge port of the injection nozzle; and a pressure adjusting means for adjusting the injection pressure at the discharge port of the injection nozzle.例文帳に追加

更に、噴射ノズルとサクションノズルとの間隔を調節するための水平駆動部材や、噴射ノズルの吐出口の高さを調節するための昇降部材や、噴射ノズルの吐出口の噴射圧力を調節するためにの圧力調節手段を設ける。 - 特許庁

The method includes: transferring a wafer from a cassette stage to a load lock chamber through a rectangular wafer transfer chamber of atmospheric pressure environment; forming vacuum pressure in the load lock chamber; transferring the wafer from the load lock chamber to the process chamber; and processing the wafer under vacuum in the process chamber.例文帳に追加

カセットステージから大気圧環境の長方形のウェハ移送チャンバーを通ってロードロックチャンバーにウェハを移送し、ロードロックチャンバー内に真空圧を形成し、ロードロックチャンバーから工程チャンバーにウェハを移送し、工程チャンバー内で真空下にウェハに対する加工を行う。 - 特許庁

A method for processing the surfaces of a polymer comprising irradiating glow plasma for a certain period by applying high frequency voltage to the space where the surfaces of the polymer are processed while introducing an inert gas on the surfaces of the polymer under a pressure near the atmospheric pressure.例文帳に追加

ポリマーの表面に、大気圧近傍の圧力下で、不活性ガスと反応ガスを導入しながら、ポリマーの表面を処理している空間に高周波の電圧を印加することにより、グロープラズマを一定時間照射するポリマーの表面処理方法。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing a satisfactorily qualified polysilicon film on a substrate in the process for manufacturing semiconductor by continuously generating uniform plasma under the pressure in the vicinity of atmospheric pressure and processing the substrate by the plasma.例文帳に追加

半導体素子の製造工程におけるポリ−Ｓｉ膜の製造において、大気圧近傍の圧力下で均一なプラズマを継続して発生させ、基材を該プラズマで処理して、基材上に良質のポリ−Ｓｉ膜を製造する方法及びその装置の提供。 - 特許庁

The transducer type vacuum gauge includes a body 1 attachable to a measuring object, and sensor parts 2, 22, a power supply part E for supplying power necessary for pressure measurement and a control part C for processing an output from the sensor part and instructing pressure are integrally assembled to the body 1.例文帳に追加

測定対象物に装着自在な本体１を備え、この本体に、センサ部２、２２と圧力測定に必要な電力を供給する電源部Ｅと、センサ部からの出力を処理して圧力を指示する制御部Ｃとが一体に組み付けられている。 - 特許庁

An evaporated fuel processing device is provided with a control valve 7 in the middle part of a first passage 5 that communicates a fuel tank 2 to a canister 6a, a two-way relief valve for protecting the tank in a bypass passage that bypasses the control valve, and a first pressure sensor 14 for detecting the internal pressure of the tank.例文帳に追加

燃料タンク２とキャニスタ６ａとを連通する第１通路５の中間部に制御弁７を設け、制御弁をバイパスするバイパス通路にタンク保護用の２方向リリーフ弁を設け、タンク内圧を検出する第１圧力センサ１４を設ける。 - 特許庁

This ball is equipped with accelerometers (18) capable of detecting a displacement force on the ball as a result of a strike exerted on the ball, pressure sensors (19) capable of detecting a pressure force exerted on the surface of the ball, and a processing module (16).例文帳に追加

このボールは、前記ボールに加えられた打撃の結果としてのボール上の変位力を検出することができる加速度計（１８）と、ボールの表面に加えられた圧力による力を検出することができる圧力センサ（１９）と、処理モジュール（１６）とを備える。 - 特許庁

An electronic control device 60 closes the switch valve 52 and keeps the low pressure return passage 50 to be in a closed state after stopping of the engine, and executes forcible return processing for driving a feed pump 11 and making the fuel flow into the high pressure return passage 40.例文帳に追加

電子制御装置６０は、機関停止後に切替弁５２を閉弁して低圧リターン通路５０を閉鎖した状態に保持するとともに、フィードポンプ１１を駆動して高圧リターン通路４０に燃料を流動させる強制リターン処理を実行する。 - 特許庁

A week processing part 114 selects and displays on a display part 40 with alterations of the average blood pressure data of morning time zone and the average blood pressure data of night time zone read from the memory 39 at intervals of three seconds, for example, according to designation input through an operating part 41.例文帳に追加

週毎処理部１１４は、操作部４１を介して入力する指示に基づき、メモリ３９から読出した朝時間帯の平均血圧データと、夜時間帯の平均血圧データとを、表示部４０に、たとえば３秒毎に交互に切替え表示する。 - 特許庁

To provide a fixing device for remarkably improving jam processing with pressure releasing of a fixing nip part and releasing of a recording material conveying passage positioned at the downstream side of a recording material conveying direction from the fixing nip part, by operating a pressure release member by a user once.例文帳に追加

ユーザーが圧解除部材を一回動作させることにより、定着ニップ部の圧解除と、定着ニップ部より記録材搬送方向下流側に位置した記録材搬送路の開放が可能になりジャム処理性が大いに向上する定着装置を提供する。 - 特許庁

The information processing device 1 for diver comprises a pressure measuring part 61, and a means for reducing the risk in accompany with the floating-up of the diver by deriving the pressure reduction ratio on the basis of a clocking part 68, and continuously informing the pressure reduction rate in floating-up of the diver by a sound informing device 37, a vibration generating device 38 and a display 11.例文帳に追加

ダイバーズ用情報処理装置１では圧力計測部６１と、計時部６８に基づいて、圧力減少率を導出し、ダイバーの浮上時の圧力減少率を連続的に報音装置３７、振動発生装置３８、表示１１などによる放置により、ダイバーの浮上時に伴う危険性を低減する手段を有する。 - 特許庁

When a communication system of a communication control IC 10 is a daisy chain type, pressure-welding leads 22a and 22b for communication used as first and second terminals for communication control of the communication control IC 10 are electrically connected to a communication control signal line L2 by pressure-welding processing at pressure-welding points P2a and P2b.例文帳に追加

さらに、通信制御ＩＣ１０の通信方式がデイジーチェーン型の場合、通信制御ＩＣ１０における第１及び第２の通信制御用端子として用いられる通信用圧接リード２２ａ及び２２ｂがそれぞれ圧接点Ｐ２ａ及びＰ２ｂにおける圧接処理により通信制御信号線Ｌ２に電気的に接続される。 - 特許庁

This tape for processing a semiconductor wafer includes an adhesive film composed of a base material film and a pressure sensitive adhesive layer formed on the base material film, and an adhesive layer formed on the pressure sensitive adhesive layer, wherein weight reduction in the pressure sensitive adhesive layer at the reflow temperature measured by differential thermal analysis is ≤1.5%.例文帳に追加

また、本発明の半導体ウエハ加工用テープは、基材フィルムと該基材フィルム上に設けられた粘着剤層とからなる粘着フィルムと、粘着剤層上に設けられた接着剤層とを有するウエハ加工用テープであって、示差熱分析により測定した、リフロー温度における前記粘着剤層の重量減少が１．５％以下である。 - 特許庁

To provide a jet-type microwave-excited plasma treatment device that causes low-temperature non-thermal equilibrium plasma to be stably jetted from a nozzle by microwave power at atmospheric pressure or a pressure near atmospheric pressure to perform CVD (chemical vapor deposition), etching, or ashing using plasma on a workpiece, or material processing such as fusing, welding or surface reforming on a workpiece.例文帳に追加

大気圧下で又は大気圧付近の圧力で、マイクロ波電力により低温の非熱平衡プラズマを安定して、ノズルから吹き出させ、被加工物にプラズマを使用したＣＶＤ（化学蒸着）、エッチング、アッシング、被加工物に溶断又は溶接、表面改質等の材料プロセシングを行う吹き出し形マイクロ波励起プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

In a fine atmospheric pressure sensor that detects change in the atmospheric pressure by means of a temperature change caused by inflow/outflow of air through an air hole by a pyroelectric element, the fine atmospheric pressure sensor is less apt to be influenced due to oxidation or humidity, by coating the pyroelectric element which is a detection element and a signal processing part with a resin protection film.例文帳に追加

気圧の変化を、通気孔を介した空気の出入りに伴う温度変化を焦電素子により検出することができる微気圧センサにおいて、検出素子である焦電素子と信号処理部を樹脂保護膜によりコーティングすることにより酸化、湿度影響を受けにくい微気圧センサを提供することが可能となる。 - 特許庁

A control device loaded on a vehicle body judges that air pressure in the tire reaches standard air pressure rising in proportion to temperature in the tire in accordance with a data transmitted from a wheel side radio transmitting device to radio-transmit the air pressure in the tire and the data of the temperature in the tire and carries out processing to generate an alarm to a user in accordance with the judgement.例文帳に追加

車体に搭載された制御装置は、タイヤ内空気圧およびタイヤ内温度のデータを無線送信する車輪側無線送信装置から送信されたデータに基づいて、タイヤ内温度に比例して上昇する基準空気圧にタイヤ内空気圧が達することを判定し、その判定に基づいて、ユーザに警報を発するための処理を行う。 - 特許庁

To provide a gripping device capable of stable gripping control, by providing highly reliable data by shortening gathering time of contact pressure, while reducing a burden of an information processing system by efficiently gathering the contact pressure of a contact sensor, without reducing areal resolution in detecting the contact pressure by the contact sensor.例文帳に追加

接触センサによる接触圧力の検知における面積分解能を落とすことなく、且つ、接触センサの接触圧力の収集が効率的で情報処理系の負担を軽減可能であると共に、接触圧力の収集時間の短縮を図って信頼性の高いデータを得ることにより、安定した把持制御を可能とする把持装置を提供する。 - 特許庁

To provide a high pressure processor and a high pressure processing method which stably applies a cleaning process having a superior cleaning effect to the surface of a target object while a treating fluid of high pressure carbon dioxide or a mixture of carbon dioxide with chemicals are contacted to the surface of the work.例文帳に追加

高圧二酸化炭素あるいは高圧二酸化炭素と薬剤との混合物を処理流体として被処理体の表面に接触させて被処理体の表面に対して洗浄処理を施すに際して、優れた洗浄効果で、しかも安定して洗浄処理を行うことができる高圧処理装置および高圧処理方法を提供する。 - 特許庁

When succeeded in the personal authentication, the processing section allows a storage device to store the measured blood pressure as a personal blood pressure authenticated by the personal authentication, reads information related to the personal blood pressure authenticated by the personal authentication from the storage device and displays the read information on a display device.例文帳に追加

前記個人認証に成功した場合、前記処理手段は、前記測定した血圧を前記個人認証により認証された個人の血圧として記憶装置に記憶させ、前記記憶装置から、前記個人認証により認証された個人の血圧に関する情報を読み出すとともに、当該読み出した情報を表示装置に表示させる。 - 特許庁

In an ashing processing in the semiconductor manufacturing process by the plasma processing, a solid dielectric is installed on the opposing surface of at least one of a pair of electrodes opposing each other in the atmosphere under a pressure near the atmospheric pressure, and discharge plasmas obtained by introducing the processing gas between the pair of the electrodes and applying a pulse-like electric field are brought into contact with a base material to be processed.例文帳に追加

プラズマ処理による半導体製造工程におけるアッシング処理において、大気圧近傍の圧力下、雰囲気中で、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該一対の電極間に処理ガスを導入してパルス状の電界を印加することにより得られる放電プラズマを被処理基材に接触させることを特徴とする半導体素子の処理方法及び装置。 - 特許庁

Then, a temperature of the substrate W supported by the contact member 42 is adjusted by adjusting a temperature of the mounting table 40 in a state in which the processing chamber 32 is set to a predetermined pressure.例文帳に追加

そして，処理室３２を所定の圧力にした状態で，載置台４０の温度を調節することにより，当接部材４２に支持された基板Ｗの温度を調節する。 - 特許庁

To solve the problems that a vacuum refrigerator, a differential pressure refrigerator or the like used for cooling a food has small processing performance comparatively to the expensive price, and the cooling speed is never sufficient even by a steam vessel.例文帳に追加

食品の冷却に用いられている真空冷却装置や差圧冷却装置等は高価な割に処理能力が小さく、蒸気釜でも冷却スピードは決して十分で無い。 - 特許庁

To provide a pressure-sensitive adhesive processing sheet capable of being easily adhered, without causing blisters, by preventing air from being caught in the sheet, given at a low cost, capable of being easily adhered again, and excellent in applicability.例文帳に追加

空気を貼り込むことによりフクレを生じることなく容易に貼り付けできると共に、安価であり、且つ貼り直しが容易で施工性が優れた粘着加工シートを提供する。 - 特許庁

On the basis of the measured results, the evacuation time for the processing chambers 13, 15 and 17 is controlled by a controller 37, so as to turn the partial pressure of a prescribed gas or the like to a prescribed value or lower.例文帳に追加

この測定結果に基づいて、所定のガスの分圧等が所定値以下となるように、処理室１３、１５、１７の排気時間を制御装置３７により制御する。 - 特許庁

To provide a flat shaped silver halide photographic sensitive material capable of carrying out rapid processing without curing and having high sensitivity and improving pressure resistance and also having enough maximum concentration (Dmax).例文帳に追加

無硬膜迅速処理を可能にした、高感度で圧力耐性が改良され、充分な最大濃度（Ｄ_max）を有する平板状ハロゲン化銀写真感光材料を提供する。 - 特許庁

The wafer processing apparatus includes a pressure reduction pipe 30 which places a chuck table 26 in air sucking operation and a dehumidifying device 80 which dehumidifies compressed air supplied to air bearing mechanisms of cutting units 47 and 57.例文帳に追加

チャックテーブル２６に空気吸引作用を発生させる減圧管３０や、切削ユニット４７，５７のエアベアリング機構に供給する圧縮空気を除湿する除湿装置８０を備える。 - 特許庁

Y-axial distortion voltage of the pressure sensitive pointing device 11 is amplified by an arithmetic amplifier circuit 4, digitized by the ADC 7 through a switch SW2, and inputted to the digital processing circuit 2.例文帳に追加

感圧式ポインティングデバイス１１のＹ軸方向の歪み電圧は演算増幅回路４で増幅され、スイッチＳＷ２を通り、ＡＤＣ７でデジタル化され、デジタル処理回路２に入力される。 - 特許庁

A heating roller and a pressure roller are rotated and driven, until the time required for an erasing cycle as processing to detect and eject the remaining paper passes, when preparation heating is started.例文帳に追加

準備加熱が開始されると、残留する用紙を検出し排出する処理としてのイレースサイクルに必要な時間が経過するまで加熱ローラと加圧ローラとを回転駆動させる。 - 特許庁

The signal processing IC 4 is disposed between the pressure sensor element and the circuit board 9 and mounted on the mounting surface of the circuit board 9 in such a way as to be opposed to the shield layer 9h.例文帳に追加

信号処理用ＩＣ４を、圧力センサ素子と回路基板９との間に配置し且つシールド層９ｈと対向するように回路基板９の実装面上に実装する。 - 特許庁

In the method of rapid thermal processing (RTP) of a silicon substrate, a very low partial pressure of reactive gas is used to control etching and growth of oxides on the silicon surface.例文帳に追加

シリコン基板の高速昇降温処理（ＲＴＰ）の方法において、非常に低い分圧の反応性ガスを使用してシリコン表面上でのエッチングおよび酸化膜の成長を制御する。 - 特許庁

To provide an information processing device for divers to inform a diver on change of a pressure reduction rate associated with floating-up to reduce the risk of decompression disease and lung overinflation.例文帳に追加

浮上に伴う圧力減少率の変化をダイバーに報知し、減圧症および肺の過膨張傷害にかかる危険性を低減するダイバーズ用情報処理装置を提供する。 - 特許庁