「processing pressure」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

A cantilever 5 used in the present invention is made of a silicon material having 400 to 500 μm length and 30 to 50 μm thickness so that during observation, the probe 4 can be in contact with the mask under 1 nN contact pressure, and in processing, defect correction can be performed by allowing the probe to be in contact with the mask under 10 nN to 1mN contact pressure.例文帳に追加

本発明に使用するカンチレバー５は、長さが400〜500μｍ、厚みが30〜50μｍとしたシリコン素材で形成し、探針４が観察時には0.1ｎＮオの接触力でマスクと接し、加工時には１０ｎＮから１ｍＮまでの接触力でマスクと接して欠陥修正を実施できるようにした。 - 特許庁

In a hybrid vehicle 11, when a shift position of a shift lever 45 is present in a parking position and when master cylinder pressure and a pedal stroke of a brake pedal 49 exceed preset prescribed values, pressing processing of a gear train in a power distribution integration mechanism 15 is executed by a motor 16, thereafter the motor 16 or an engine 12 is driven, and intake negative pressure generation processing is executed.例文帳に追加

ハイブリッド車両１１にて、シフトレバー４５のシフト位置がパーキング位置にあり、且つ、ブレーキペダル４９のペダルストローク及びマスタシリンダ圧が予め設定された所定値を超えたときに、モータ１６により動力分配統合機構１５における歯車列の押し当て処理を実行し、その後、モータ１６またはエンジン１２を駆動して吸気負圧生成処理を実行する。 - 特許庁

The flow rate control portion 134 controls the flow rate control valve 133 based upon the pressure difference between both the sides of the constriction portion 132a when supplying the processing liquid at a first flow rate F1, and controls the flow rate control valve 133 based upon pressure on one side of the constriction portion 132a when supplying the processing liquid at a second flow rate F2 smaller than the first flow rate F1.例文帳に追加

流量制御部１３４は、第１の流量Ｆ１で処理液を供給するときは、絞り部１３２ａの両側の圧力差に基づいて流量制御弁１３３を制御し、第１の流量Ｆ１よりも小さい第２の流量Ｆ２で処理液を供給するときは、絞り部１３２ａの片側の圧力に基づいて流量制御弁１３３を制御する。 - 特許庁

This method includes a step of operating the signal processing unit for sampling a signal generated by the sensor, a step of operating the signal processing unit for correlating characteristics of the sampling signal with the prestored value having the allocated pressure, and a step of operating the signal unit for generating a signal representing the allocated pressure of the prestored value correlated with the sampling signal.例文帳に追加

本方法は、センサによって生成された信号をサンプリングするように信号処理ユニットを動作させるステップと、サンプリング信号の特性を割当圧力を有する事前記憶値に相関させるように信号処理ユニットを動作させるステップと、サンプリング信号に相関させた事前記憶値の割当圧力を表す信号を生成するように信号処理ユニットを動作させるステップとを含む。 - 特許庁

After performing crystal defect repair processing or crystal defect removal processing of the single crystal silicon layer, using stock gas at least containing silicon based gas, the stock gas is activated by plasma under the atmospheric pressure or near the atmospheric pressure to cause single crystal silicon layer epitaxial growth and a second impurity silicon layer is formed on the epitaxial grown surface side.例文帳に追加

単結晶シリコン層の結晶欠陥修復処理又は結晶欠陥除去処理を行った後、シラン系ガスを少なくとも含む原料ガスを用い、大気圧或いは大気圧近傍下で生成したプラズマにより原料ガスを活性化させ、単結晶シリコン層をエピタキシャル成長させ、該エピタキシャル成長させた表面側に第２不純物シリコン層を形成する。 - 特許庁

Cutting processing is performed by arranging a workpiece in a vacuum chamber and irradiating the top surface of the workpiece with a laser beam from a laser source through a window set up in the vacuum chamber, in a state where pressure in the vacuum chamber is decompressed below to pressure at a triple point of the material constituting the workpiece when performing cutting processing of this workpiece.例文帳に追加

真空チャンバ内に被加工物を配置して、レーザ光源より前記真空チャンバに設けられた窓を通じて前記被加工物の上面にレーザ光を照射し、該被加工物の切断加工を行う際に、前記真空チャンバ内の圧力を前記被加工物を構成する材料の三重点における圧力以下に減圧した状態で切断加工を行う。 - 特許庁

A vapor-phase growth device includes a processing chamber 10 for holding a substrate 12 to be processed inside, exhaust members, more specifically, an exhaust gas introduction port 15 and an exhaust gas line 16 which are connected to the processing chamber 10 for exhausting the gas from the processing chamber 10, and a pressure loss generation member 18 provided in an exhaust path from the substrate 12 disposed in the processing chamber 10 to the exhaust member.例文帳に追加

処理対象物である基板１２を内部に保持する処理室１０と、上記処理室１０からガスを排気するため上記処理室１０に接続された排気部材すなわち排気ガス導入口１５および排気ガスライン１６と、処理室１０に配置された基板１２から上記排気部材までの排気経路に設置された、圧力損失発生部材１８と、を備える気相成長装置とする。 - 特許庁

The spin processing device that rotates and processes a semiconductor wafer 10 includes a processing chamber 1, a cup body 2 provided in the processing chamber, the rotary table 5 that is provided in the cup body to support the semiconductor wafer and is rotation driven by a drive motor 8, and a controller 35 that controls the pressure in the processing chamber that varies with a rotational speed of the rotary table.例文帳に追加

半導体ウエハ１０を回転させて処理するスピン処理装置において、 処理チャンバ１と、この処理チャンバ内に設けられたカップ体２と、このカップ体内に設けられ上記半導体ウエハを保持して駆動モータ８により回転駆動される回転テーブル５と、この回転テーブルの回転速度に応じて変化する上記処理チャンバ内の圧力を制御する制御装置３５とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a wafer processing tank made of quartz glass that is easily manufactured even when a large-sized type applicable to a large-diameter, and has a structure which withstands water pressure of a chemical solution reservoired in the processing tank, reduces the amount of the chemical solution, and supplies the chemical solution to a large-area wafer surface, and to provide a method of manufacturing the wafer processing tank.例文帳に追加

大口径のウエハーに対応可能な大型の処理槽であっても製作が容易であり、処理槽内に蓄えられる処理薬液による水圧にも耐え、薬液の量を削減できかつ効率よく薬液を大面積のウエハー表面に流れるような構造を有する石英ガラス製ウエハー処理槽及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sanitary and simple sterilization detection indicator composition producing no bad smell, which is used during sterilization processing by high pressure steam, can be simply used even during sterilization processing by ethylene oxide gas if required, and can display completion of sterilization processing by clear change of color tone, and a sterilization detection indicator to which it is surely applied.例文帳に追加

高圧蒸気による滅菌処理の際に用い、必要に応じエチレンオキサイドガスによる滅菌処理の際にも簡便に用いることができ、明瞭な色調の変化で滅菌処理の完了を表示でき、悪臭を生じない衛生的で簡易な滅菌検知インジケータ組成物、及びそれが確りと付される滅菌検知インジケータを提供する。 - 特許庁

The control device performs predetermined processing in accordance with the detection result of the stroke sensor and controls the drive of the liquid pressure control valve to make the master cylinder communicate with at least one wheel cylinder and/or a reservoir when the drive of the liquid pressure control valve is controlled to cut the master cylinder off all wheel cylinders in the state that the drive of the automatic liquid pressure generator is controlled.例文帳に追加

制御装置は、ストロークセンサの検出結果に基づき所定の処理を行うと共に、自動液圧発生装置が駆動制御されている状態で、マスタシリンダを全てのホイールシリンダから遮断するように液圧制御弁が駆動制御されている場合に、マスタシリンダを少なくとも１つのホイールシリンダ及び／又はリザーバに連通するように液圧制御弁を駆動制御する。 - 特許庁

The biological signal detection apparatus includes: pressure sensors (piezoelectric sensors) 11R, 11L disposed across on a bed B; and sensor interfaces 12R, 12L provided for respective pressure sensors (piezoelectric sensors) 11R, 11L, and processing output signals of corresponding pressure sensors (piezoelectric sensors) and generating the biological signal indicative of at least a breathing signal, a pulse wave signal, and a body motion signal.例文帳に追加

ベッドＢ上を横切る方向に、複数配置される圧力センサー（圧電センサー）１１Ｒ、１１Ｌと、圧力センサー（圧電センサー）１１Ｒ、１１Ｌ毎に設けられ、対応している圧力センサー（圧電センサー）の出力信号を処理して、少なくとも、呼吸信号、脈波信号及び体動信号を示す生体信号をそれぞれ生成するセンサーインターフェース１２Ｒ、１２Ｌと、を備える。 - 特許庁

An IC chip 42 provided with a signal processing circuit processing the output signal from a pressure sensor provided in the sensor package 36 is fitted to a sensor substrate 35 by flip chip mounting, and the sensor package 36 is fitted to the sensor substrate 35 to cover the IC chip 42.例文帳に追加

このセンサパッケージ３６内に設けられた圧力センサからの出力信号を処理する信号処理回路が設けられたＩＣチップ４２は、センサ基板３５にフリップチップ実装により取り付けられ、センサパッケージ３６はＩＣチップ４２を覆うようにセンサ基板３５に取り付けられている。 - 特許庁

To provide a method and a unit for processing a sound signal, which reduce external noise included in the sound signal as the sound to be inspected and having a large sound pressure level and a short duration, with a small amount of processing, and to provide a method and an apparatus for inspecting abnormal noise using the same.例文帳に追加

被検査音である音信号に含まれる、音圧レベルが大きくかつ持続時間が短い外界ノイズを、少ない処理量で低減する音信号処理方法及び音信号処理ユニット、並びにこれらを使用する異音検査方法及び異音検査装置を提供する。 - 特許庁

A control section 67 supplies a pure water as a treatment liquid to a processing tank 1, and processes a substrate W at a processing position with the pure water, and then it reduces pressure within a chamber 27 by an evacuation pump 52 and supplies solvent vapor into the chamber 27 through a solvent nozzle 33.例文帳に追加

制御部６７は、処理槽１に純水を処理液として供給して、処理位置にある基板Ｗを純水で処理した後、排出ポンプ５２によりチャンバ２７内を減圧するとともに溶剤ノズル３３からチャンバ２７内に溶剤蒸気を供給する。 - 特許庁

To provide an atmospheric pressure plasma processing apparatus that successively performs plasma processing on substrates while transporting many setters carrying the substrates by arranging the setters in a row, can relieve the effect of another gas flow exerted upon the blown-off flow of a process gas and, at the same time, can prevent the temperature drop of a substrate caused by intruded outside air.例文帳に追加

多数のセッタを一列に並べて搬送しながら順次プラズマ処理する装置であって、処理ガスの吹出し流が、他のガス流の影響を受けるのを緩和するとともに外気進入により基材温度が低下するのを防止できる装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing method for easily and securely lighting up plasma in low pressure while the drop of yield is prevented and securely performing a highly precise plasma treatment by sucking dust and dirt by a substrate to be processed and to provide a plasma processing apparatus.例文帳に追加

被処理基板に塵埃が吸着され、歩留まりの低下が発生することを防止しつつ、低圧下においても、容易にかつ確実にプラズマを着火することができ、高精度なプラズマ処理を確実に行うことのできるプラズマ処理方法及びプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

In the method of forming the silicon oxide film on a surface of a substrate mounted in a pressure-reducible processing chamber, a silane gas and oxygen atoms are repeatedly and alternately supplied into the processing chamber to form the silicon oxide film on the surface of the substrate.例文帳に追加

減圧可能な処理室に載置された基板の表面にシリコン酸化膜を形成する方法であって、処理室に、シランガスと酸素原子を含むガスを交互に繰り返し供給し、基板の表面にシリコン酸化膜を形成することを特徴とするシリコン酸化膜の形成方法が提供される。 - 特許庁

To provide a plasma processing method, by which, when a substrate is processed by means of atmospheric pressure plasma CVD by dielectric barrier discharge, plasma can be produced stably over a long period of time, so that stable and high quality processing can be performed over a long period of time.例文帳に追加

誘電体バリア放電による大気圧プラズマＣＶＤで基板の処理を行なうに際し、長時間に渡って安定したプラズマを生成することができ、これにより、長時間に渡って安定して高品位な処理を行うことを可能にするプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To thin a thickness of a holding device body in a fluid pressure holding device for supplying a work to various processing machines and discharging the work from the machines so as not to interfere with even a carrying device or a processing device having a narrow entrance space.例文帳に追加

本発明は、各種加工機械にワークの供給、排出を行う為に使用される流体圧把持装置において、侵入スペースの狭い加工機械や搬送装置であっても装置に干渉することのないよう把持装置本体の厚さを薄くすることを目的とする。 - 特許庁

Multiple electrodes are arranged at opposing positions for a single electrode in a processing vessel to form multiple sets of electrode pairs, and discharge plasma is generated by the application of an electric field between the multiple sets of electrode pair under atmospheric pressure or the vicinity for plasma processing between each electrode.例文帳に追加

処理容器内に設置された１つの電極に対し、複数の電極を対向配置して複数組の電極対を設け、それら複数組の電極間に大気圧近傍下で電界を印加することにより放電プラズマを発生させて、各電極間でプラズマ処理を行う。 - 特許庁

After a processing wafer is baked 102 under normal pressure in order to remove a resist cured by ion implantation 101 etc., the processed wafer is subjected to plasma ashing processing 103, 104 in a high temperature area at about 300°C in an oxygen single gas atmosphere composed of an oxygen gas substantially.例文帳に追加

イオン注入１０１等で硬化したレジストを除去するために、被処理ウエハを、常圧下でベーク１０２した後、実質的に酸素ガスからなる酸素単ガス雰囲気下において、摂氏３００度前後の高温領域でプラズマ・アッシング処理１０３，１０４するものである。 - 特許庁

The arithmetic means 18 carries out the processing for calculating the apparent pulse wave velocity (C) and the processing for calculating a blood condition index (I) according to formulation: I=kP/2C^2 (k is a constant) using the calculated apparent pulse wave velocity (C) and the blood pressure (P) measured by the sphygmomanometer.例文帳に追加

演算手段１８は、みかけの脈波伝播速度（Ｃ）を計算する処理と、該計算されたみかけの脈波伝播速度（Ｃ）と血圧計により計測された血圧（Ｐ）とを用いて式：Ｉ＝ｋＰ／２Ｃ^２（ｋは定数）に従って血液状態指数（Ｉ）を計算する処理と、を行う。 - 特許庁

The press processing device is provided with a blank holder 3 as well as a punch 1 and die 2, a means for measuring the tension imparted to the blank during the press processing and a means for adjusting/controlling the blank holding pressure of the blank holder on the basis of the tension measured by the tension measuring means.例文帳に追加

ポンチ１、ダイス２及びシワ押さえ３と、更にプレス加工中の材料にかかる張力測定手段と、前記張力測定手段で測定した張力に基づいて前記シワ押さえのシワ押さえ圧力を調整する制御手段を有することを特徴とする。 - 特許庁

A reset circuit putting the processing circuit at a set state or a reset state as well as a control circuit controlling the reset circuit are provided, and the processing circuit such as a microcomputer is kept at a reset state for a whole period of high-pressure generation before and after start-up of discharge lamp lighting.例文帳に追加

演算処理回路をセット状態またはリセット状態にするリセット回路及び該リセット回路を制御する制御回路を設け、放電ランプ点灯開始前後の高圧発生期間中の全てにおいて、マイコン等の演算処理回路をリセット状態にする構成とする。 - 特許庁

Substrates 9 and 15 are placed inside processing chambers 2 and 12 of antenna type plasma CVDs 1 and 11, and carbon nanotubes are formed on the substrates 9 and 15 when the inside of the processing chambers 2 and 12 is decompressed to a predetermined pressure under the flow of a material gas and plasma is produced from the end 6a of an antenna 6.例文帳に追加

アンテナ型プラズマＣＶＤ１，１１の処理室２，１２内に基板９，１５を配置し、原料気体の流通下、処理室２，１２内を所定の圧力に減圧し、アンテナ６の先端６ａからプラズマを発生させて基板９，１５上にカーボンナノチューブを形成する。 - 特許庁

In a sixth processing step, a high-pressure liquid jet 33 is made to act on the initial surface pattern at a predetermined processing temperature, whereby at least partial parts of the coatings 29 covering the sacrificial layer regions 25 are mechanically removed or at least broken off in order to provide the final surface pattern.例文帳に追加

第６処理ステップにて、初期表面パターンに予め定められた処理温度にて高圧液体ジェット３３を作用させ、それにて犠牲層領域２５を覆うコーティング２９の少なくとも一部を最終表面パターンを得るために機械的に除去、又は少なくともこじ開ける。 - 特許庁

When the exposure processing is performed by jetting air from a chuck 4 of an exposure machine and pushing up a flexible substrate 3, the exposure processing is performed by expelling air bubbles 5 generated between the photomask 1 and a photosensitive material 2 by using the chuck 4 of the exposure machine which is high in the air pressure or velocity of flow in the central part in exposure.例文帳に追加

露光機のチャック４からエア−を噴射してフレキシブル基板３を押し上げて露光処理する場合、露光時に中央部のエア−圧又は流速が高い露光機のチャック４を用いてフォトマスク１と感光性材料２の間に発生する気泡５を追い出して露光処理する。 - 特許庁

The elastic rubber layer of the heat roller and pressure roller is made of silicone rubber modified into open-cell silicone rubber whose internal air bubbles communicate with one another and also communicate with outside air by alternately repeating pressurization processing and rapid depressurization processing for closed-cell silicone rubber having many air bubbles inside.例文帳に追加

ヒートローラ及び加圧ローラの弾性ゴム層は、内部に多数の気泡を含む単泡性のシリコンゴムについて加圧処理と急速減圧処理とを交互に繰り返すことにより内部の気泡が互いに連通すると共に外気とも連通する連泡性のシリコンゴムに変成されたシリコンゴムで構成する。 - 特許庁

To provide a tapered roller bearing and its design method, capable of lengthening the service life of a bearing by reducing the bearing pressure and stress of a contact part, and capable of improving processing efficiency by reducing a drop quantity of both ends of a roller while eliminating processing failure of a raceway surface.例文帳に追加

面圧や接触部の応力を低減し軸受の長寿命化を図ると共に、軌道面の加工不良を未然に解消しつつ、ころの両端部のドロップ量の低減を図り、加工効率の向上を図ることができる円すいころ軸受およびその設計方法を提供する。 - 特許庁

When the pressure contact force of a grinding wheel 15 for work processing and the grinding wheel 27 for dressing is made excessive, in the brake dressing time of the grinding wheel 15 for work processing, a loading torque generated to the grinding wheel 27 for dressing is made excessive, and this loading torque may be made larger than the rating torque of the driving motor 23.例文帳に追加

ワーク加工用砥石車１５のブレーキドレスの時、ワーク加工用砥石車１５とドレス用砥石車２７との圧接力が過大となると、ドレス用砥石車２７に発生する負荷トルクが過大となり、この負荷トルクが駆動モータ２３の定格トルクよりも大きくなることがある。 - 特許庁

To provide a vehicle height adjustment device allowing a vehicle to travel at a suitable vehicle height by quickly releasing the temporary stopping processing of vehicle height control when the vehicle is moved to a usual travelable position even if the temporary stopping processing of the vehicle height control is performed by a rise in the pressure of a vehicle height adjustment means.例文帳に追加

車高調整手段の圧力上昇により車高制御の一時停止処理がなされても、車両が通常走行可能位置に移動したら速やかに車高制御の一時停止処理を解除し、適切な車高で走行できる車高調整装置を提供する。 - 特許庁

To provide a simulation device and a plasma discharge processing device supporting system correctly calculating electron energy distribution or the like in a plasma of the plasma discharge processing device applying a treatment in the region of atmospheric pressure by a time-dependent Boltzmann equation or the like, and deciding a control parameter.例文帳に追加

大気圧近傍で処理を行うプラズマ放電処理装置におけるプラズマ中の電子エネルギー分布等を時間依存のボルツマン方程式等により正確に算出して制御パラメータを決定するシミュレーション装置およびプラズマ放電処理装置支援システムを提供する。 - 特許庁

This electronic sphygmomanometer for measuring blood pressure of a subject includes: a detection section 81 for detecting Korotkoff sound of the subject; an authentication section 82 performing the personal authentication based on waveform data of the detected Korotkoff sound; and a processing section 83 processing the data based on the result of the personal authentication.例文帳に追加

被測定者の血圧を測定する電子血圧計であって、被測定者のコロトコフ音を検出する検出部８１と、検出したコロトコフ音の波形データに基づいて個人認証を行う認証部８２と、個人認証の結果に基づいたデータ処理を行う処理部８３とを備える。 - 特許庁

To provide a substrate for a semiconductor package or a pressure jig for a lead frame wherein after animal glue is encapsulated with baking, deformation is reduced, and a waste processing rate caused by the failure of a common surface is reduced.例文帳に追加

膠の封入、ベーキングをしたあとで反りを低降させ、共用面不良によって招かれた廃棄処分レートを減らすセミコンダクターパッケージの基板又はリードフレームの加圧ジグを提供する。 - 特許庁

To make it possible to reduce the thermal deterioration of a pressure roller, reduce power consumption and shorten a FPOT ( First Print Out Time) at the initial using stage of a fixing apparatus by minimizing the execution of a processing for preventing toner-soiling.例文帳に追加

トナー汚れの防止のための処理の実行を必要最小限に抑えて、定着装置の使用の初期段階では加圧ローラの熱劣化や消費電力の低減、ＦＰＯＴ短縮を図る。 - 特許庁

To provide an optical laminated sheet which is excellent in adhesion, cohesiveness as well as long-term durability, wherein the hardenable pressure-sensitive adhesive layer part does not smooth out with time recesses and protrusions having been formed by processing.例文帳に追加

粘接着剤層部が、加工処理してなる凹凸を経時で埋めることがなく、接着性や凝集性に優れるとともに長期の耐久性にも優れる光学積層シートを提供する。 - 特許庁

To provide a biological information processing apparatus allowing a subject without professional knowledge and the subject's family to easily understand the meaning of the result in measuring ABI (a ratio of blood pressure at a foot joint to that at an arm) and PWV (pulse wave transmission velocity).例文帳に追加

専門知識の無い被験者やその家族等にも、ＡＢＩやＰＷＶの測定結果の意味について容易に理解することが可能な、生体情報処理装置を提供すること。 - 特許庁

A method for processing a mold comprises the steps of first obtaining a three-dimensional tread surface shape capable of making a ground contact pressure operating on the tread surface uniform in the case of contacting a block with a ground by using a computer 30, and generating three-dimensional data of the tread surface shape.例文帳に追加

先ず、コンピュータ３０を用い、ブロックが接地した際の踏面に作用する接地圧を均一化可能な３次元の踏面形状を得て、踏面形状の３次元データを生成する。 - 特許庁

To provide a takeup method for a sheet coated with a sticky material capable of taking up the sheet while it flows and eliminating necessity for applying any stickiness processing to a bobbin tube such as a hot melt process or application of a pressure sensitive adhesive double coated tape.例文帳に追加

粘着剤塗布シートの巻取りにおいて、シートの流れのまま巻取り、しかも巻芯管にホットメルトや両面粘着テープなどの粘着処理を施す必要のない方式を提供する。 - 特許庁

A SIMPLE method processing part 15 also determines an analytical value of a speed field and a pressure field by continuously solving an equation of continuity and an equation of motion by using a SIMPLE method.例文帳に追加

さらに、ＳＩＭＰＬＥ法処理部１５が、ＳＩＭＰＬＥ法を用いて、連続方程式および運動方程式を連成して解くことにより、速度場および圧力場の解析値を求める。 - 特許庁

Further, the pressure wave is oscillated in the angle θ direction with respect to the horizontal direction of the substrate without using a complicated drive circuit or a processing circuit and, therefore, the manufacturing cost is not increased.例文帳に追加

また、複雑な駆動回路や処理回路を用いることなく基板水平方向に対し角度θ方向に圧力波を発振させることができるので、製造コストを増加させることがない。 - 特許庁

X-axial distortion voltage of the pressure sensitive pointing device 11 is amplified by an arithmetic amplifier circuit 3, digitized by an ADC 7 through a switch SW1, and inputted to a digital processing circuit 2.例文帳に追加

感圧式ポインティングデバイス１１のＸ軸方向の歪み電圧は演算増幅回路３で増幅され、スイッチＳＷ１を通り、ＡＤＣ７でデジタル化され、デジタル処理回路２に入力される。 - 特許庁

As a result, quality of wafer treatment can be stabilized by checking the decompression state by the pressure sensor and delay of wafer treatment can be prevented by abnormal processing, in the case of abnormal decompression.例文帳に追加

その結果、圧力センサによる減圧状態の確認によって基板の処理品質を安定化できるとともに、減圧異常の場合の異常処理によって基板処理の渋滞を防止できる。 - 特許庁

A pressure within the chamber 102 is reduced and a mixed gas of an O_2 gas and an inert gas (especially Ar gas and N_2 gas) is used as a processing gas, resulting in reducing the density of the O radicals within the chamber.例文帳に追加

チャンバ１０２内の圧力を低下させ，Ｏ_２ガスと不活性ガス（特に，Ａｒガス，Ｎ_２ガス）の混合ガスを処理ガスとして採用することによって，チャンバ内のＯラジカル密度が小さくなる。 - 特許庁