「processing pressure」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for processing the marine food is to remove internal organs of a raw marine material, process by opening and washing the same with saline, dry the same under a reduced pressure, subsequently treat the same by heat under pressure in a non-sealed packed state, ripen the same in a chilled state and freeze the same.例文帳に追加

水産原料を内臓除去、開き加工、塩水洗浄を行なった後、減圧乾燥し、その後、非密閉包袈状態で加圧加熱処理し、チルド状態で熟成させ、その後、凍結処理する。 - 特許庁

The processing column system 10 includes an inlet, an outlet, a piston head 16 and a piston pressure chamber 26 for providing a controlled bed pressure to the piston head and thus to a substrate bed 36 positioned within the column.例文帳に追加

処理塔システム１０は、入口と、出口と、ピストンヘッド１６と、制御された床圧力をピストンヘッドに、ひいては塔内に配置されている基材床３６に提供するためのピストン圧力室２６と、を含んでいる。 - 特許庁

The image processing system processes a photographic image generated by photographing a photographic object 1 outside a pressure-resistant container 11 through a view port 11A using an imaging device 12 inside the pressure-resistant container 11 having the view port 11A.例文帳に追加

ビューポート１１Ａを有する耐圧容器１１内の撮影装置１２を用いビューポート１１Ａを経由して耐圧容器１１外の撮影対象物１を撮影して生成した撮影画像を処理する。 - 特許庁

A control part 7 controls the high pressure valve 8 and the low pressure valve 9 on the basis of the three-dimensional data of the obstacle specified by the processing part 6 to control the expanded state of the bag-shaped cells 12.例文帳に追加

制御部７は、処理部６において特定された障害物の三次元情報に基づいて、高圧バルブ８と低圧バルブ９とを制御することにより、それぞれの袋状セル１２の膨張状態を制御する。 - 特許庁

The sub CPU 42 specifies a cylinder executing fuel injection immediately thereafter based on the input of the dummy pulse, and carries out arithmetic processing for detecting fuel pressure by a pressure sensor 51 corresponding to the specific cylinder.例文帳に追加

サブＣＰＵ４２は、ダミーパルスの入力に基づき直後に燃料噴射が実行される気筒を特定し、同気筒に対応する圧力センサ５１によって燃料圧力を検出する演算処理を実行する。 - 特許庁

Even when an impact from a pressure lever (not shown in the figure) is applied to the pressure roller during jam processing or the like, the impact is damped by the elastic member 402a or 402b to prevent breakage of the heating means 401.例文帳に追加

ジャム処理時等に加圧レバー（図示せず）からの衝撃が加圧ローラに加わった場合でも、その衝撃は弾性部材４０２ａ又は４０２ｂによって緩衝され、加熱手段４０１の破損が防止される。 - 特許庁

To provide a pressure fitting method for bearings of a small motor capable of eliminating a secondary processing after pressure fitting for facilitating the fabrication process and suppressing the cost and of being established with a mitigated dimensional accuracy (dispersion) of the bearing hole inside diameter of a housing.例文帳に追加

製作工程を容易にしてコストダウンを図るため、圧入後の二次加工を不要とし、ハウジングの軸受け孔内径の寸法精度（バラツキ）を緩和できる小形モータの軸受圧入方法を提供する - 特許庁

To prevent a substrate from being polluted with particles, by so reducing a pressure difference between preliminary and processing chambers as to suppress the rapid flow of a gas which is caused by the pressure difference.例文帳に追加

予備室と処理室との圧力差を低減し、該圧力差に起因するガスの急激な流動を抑制し、もって基板のパーティクル汚染を防止する基板処理装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pressure-sensitive adhesive sheet for use in processing semiconductor wafers which sheet has an excellent pressure-sensitive adhesion to a semiconductor wafer and resistance to chipping and is almost free from the occurrence of glue remained on the wafer after ultraviolet ray irradiation and separation from the wafer.例文帳に追加

半導体ウエハに対して優れた粘着力を示し、かつ耐チッピング特性に優れ、紫外線照射剥離後にウエハへの糊残りが少ない半導体ウエハ加工用粘着シートを提供すること。 - 特許庁

Transfer time of the pressure sensitive adhesive to the flap can be lengthened by adjusting these delivery processing (the delivery starting timing and the delivery speed), and the deterioration in the transfer performance of the pressure sensitive adhesive at the low temperature can be improved.例文帳に追加

これらの送り出し処理（送り出し開始タイミングや、送り出し速度）の調整を行うことで、フラップへの粘着剤の転写時間を延ばすことができ、低温下での粘着剤の転写性の劣化を改善できる。 - 特許庁

An initial value of a pressure reduction speed in the processing passage after engine stopping is found, and depending on the initial pressure reduction speed, an actuation period (sampling period) of an A/D convertor and a clock frequency of a CPU are changed.例文帳に追加

エンジン停止後の処理経路内の圧力低下速度の初期値を求め、該初期圧力低下速度に応じてＡ／Ｄ変換器の起動周期（サンプリング周期）及びＣＰＵのクロック周波数を変更する。 - 特許庁

To enhance the processing accuracy of a press-molded article by limiting a primary peak pressure to a certain level or below in die cushion equipment, particularly provided with a cushion pin pressure equalizer, to be used for a pressing machine.例文帳に追加

プレス機械に用いられるダイクッション装置（特にクッションピン均圧化装置が備えられているもの）において、１次ピーク圧を一定レベル以下に制限することにより、プレス成形品の加工精度を向上させる。 - 特許庁

To reduce an adverse effect over a pumping effect and the flow in a pumping direction caused by lack of processing accuracy by improving a bearing structure generating dynamic pressure in a fluid dynamic pressure bearing device.例文帳に追加

流体動圧軸受装置における動圧を発生させる軸受構造を改良して、加工精度の不足が原因でポンピング効果及びポンピング方向の流れに与える悪影響を減少させることである。 - 特許庁

The ECU computes a sound pressure level for each of frequency components by FFT-processing the input combustion sound signals, and a combustion sound central value is computed in accordance with the sound pressure level of a specific frequency component.例文帳に追加

ＥＣＵは、入力した燃焼音信号をＦＦＴ処理して周波数成分毎の音圧レベルを算出するとともに、特定周波数成分の音圧レベルに基づいて燃焼音代表値を算出する。 - 特許庁

In this case, the purge gas for peeling the particles is preferably supplied at the flow rate greater than the flow rate of the purge gas for pressure control, before the purge gas for pressure control is supplied into the substrate processing chamber.例文帳に追加

この場合、基板処理室内に圧力調整用のパージガスを供給する前に圧力調整用のパージガスの流量よりも大きな流量でパーティクル剥離用のパージガスを供給することが好ましい。 - 特許庁

The smoothing control part 601 performs a selection processing of a pressure contact roller to exchange stopper rollers 649a, 649b which have been used for positioning the booklet into the pressure contact roller based on a calculation result of sheet bundle thickness (S46).例文帳に追加

平滑化処理制御部６０１は、シート束の厚み算出結果に基づき、冊子の位置決めに用いたストッパローラ６４９ａ、６４９ｂから、圧接ローラに切り替えるための圧接ローラの選択処理を行う（Ｓ４６）。 - 特許庁

Thus, the manufacturing process of each ceramic rolling element 3 can be simplified in process as compared with a conventional one, and its pressure withstanding strength can be sufficiently increased even though processing pressure is dropped down in a sintering process.例文帳に追加

このようなセラミックス製転動体３は、従来例に比べて製造工程を簡略化できるとともに、焼結処理での圧力を低いものにしながらも、十分な耐圧強度を有するものとなる。 - 特許庁

This evaporation fuel processing system is provided with a fuel tank 20 for storing fuel of the internal combustion engine 1, a high pressure tank 27 for storing the evaporated fuel under pressure higher than pressure of the fuel tank, and connected to the internal combustion engine, and a valve means 33 for switching the connection and cutoff between the high pressure tank and the internal combustion engine.例文帳に追加

内燃機関１の燃料を貯留する燃料タンク２０と、蒸発した前記燃料を前記燃料タンクの圧力よりも高圧で貯留するとともに前記内燃機関と接続される高圧タンク２７と、前記高圧タンクと前記内燃機関との間の接続及び遮断を切り替える弁手段３３と、を蒸発燃料処理装置に設ける。 - 特許庁

To provide a metal bag-like product capable of reducing the number of processes in manufacture, cost, and weight, and simplifying its structure, while flexibly corresponding to change in relief pressure or maintaining pressure to stably perform its expected explosion-proof function and pressure maintaining function by interally forming a relief valve or a constant pressure valve in component processing.例文帳に追加

リリーフバルブ又は定圧バルブを部品加工時に一体に形成することによって、製造工程の削減とコストダウン、軽量化と構造の簡素化を図ることができるとともに、リリーフ圧又は維持圧力の変化に柔軟に対応して所期の防爆機能又は圧力維持機能を安定的に発揮することができる金属製袋状製品を提供すること。 - 特許庁

The supply pressure waveform component Wb can be acquired without using a fuel pressure sensor corresponding to a non-injection cylinder, thereby accurately detecting the injection pressure waveform component Wc indicating the actual injection state and reducing arithmetic processing load on an ECU generating a detection waveform from a value detected by the fuel pressure sensor.例文帳に追加

これによれば、非噴射気筒に対応する燃圧センサを用いることなく供給圧波形成分Ｗｂを取得できるので、実際の噴射状態を表した噴射圧波形成分Ｗｃを精度良く検出することと、燃圧センサの検出値から検出波形を生成するＥＣＵの演算処理の負荷軽減との両立を図ることができる。 - 特許庁

The device includes a plurality of pressure waveform measuring means provided separately along the conduit-like space; and a data processing means phase-shifting pressure waveform data obtained by the pressure waveform measuring means to a reference position along the conduit-like space to obtain a pressure waveform in the reference position from which reflected waves reflected by the opening end part are removed.例文帳に追加

該装置は、管路状空間に沿って離間して設けられた複数個の圧力波形測定手段と、圧力波形測定手段によって得られた圧力波形データを管路状空間に沿った基準位置に位相シフトさせて基準位置における、開口端部で反射した反射波を除去した圧力波形を得るデータ処理手段と、からなる。 - 特許庁

The resist solution application processing apparatus is provided with a reduced-pressure dryer 14 for performing the reduced-pressure drying of a substrate 100 to which a resist solution is applied, a baking device 16 for heating the substrate 100 dried in a reduced-pressure state to solidify the resist solution and a carrying robot 15 for carrying the substrate 100 between the reduced-pressure dryer 14 and the baking device 16.例文帳に追加

レジスト液が表面に塗布された基板１００を減圧乾燥する減圧乾燥機１４と、前記減圧乾燥された基板１００を加熱して前記レジスト液を固化させるベーキング装置１６と、減圧乾燥機１４と前記ベーキング装置１６の間で基板を搬送する搬送ロボット１５を備えるレジスト液塗布処理装置である。 - 特許庁

The pressure sensor is provided with: a connector housing which has a head side which has arranged a pressure sensitive element 20; a sensor housing constituted so that the connector housing is inserted; a pressure chamber formed between the head side of the connector housing and the sensor housing; and a correction circuit 21 for processing, calculating and outputting the measured signal by the pressure sensitive element 20.例文帳に追加

圧力センサは、感圧素子２０を配置した先端面を有するコネクタハウジングと、コネクタハウジングを挿入するよう構成したセンサハウジングと、コネクタハウジングの先端面とセンサハウジングとの間に形成された圧力室と、感圧素子２０の計測信号を加工、演算して出力するための補正回路２１とを有するセンサである。 - 特許庁

A work as an object of processing is exposed to a processing fluid containing an etching reactant so as to undergo an etching treatment (a third step S3, a fourth step S4), and thereafter a processing chamber is reduced in internal pressure so as to make the processing fluid near the work lower in density than that at the fourth step S4 (a first step S1).例文帳に追加

エッチング反応種を含有する処理流体に被処理物を晒すことにより、当該被処理物のエッチング処理を行い（第３ステップＳ３、第４ステップＳ４）、その後、処理室内を減圧することにより、被処理物の近傍における処理流体の密度を第４ステップＳ４よりも低下させる（第１ステップＳ１）。 - 特許庁

The wafer case housing wafers is set in the processing chamber of the processing device after it is cooled, the pressure of the processing chamber is reduced so that the temperature of the wafer case may be transmitted to the wafer, and the processing chamber is heated in vacuum state.例文帳に追加

冷却が可能で熱源からの光エネルギーを透過するウエハーケースと減圧から加圧まで調整可能な処理室を用意し、ウエハーを収納したウエハーケースを冷却後熱処理装置の処理室にセットし、ウエハーケースの温度がウエハーに伝わらないよう処理室の圧力を下げ真空状態にして加熱する。 - 特許庁

To suppress concentration fluctuation of chemical immediately after an injection valve is opened and to stabilize a surface processing in a device and a method for opening the injection valve, injecting chemical to high pressure fluid, obtaining processing fluid and performing the prescribed surface processing on a surface of a workpiece by using processing fluid.例文帳に追加

注入バルブを開いて高圧流体に薬液を注入して処理流体を得るとともに、該処理流体を用いて被処理体の表面に対して所定の表面処理を施す装置および方法において、注入バルブを開いた直後での薬液の濃度変動を抑えて表面処理の安定化を図る。 - 特許庁

To provide a piezoelectric vibrator capable of suppressing occurrence of a processing flaw, a destructive altered layer and a micro clack appeared on a processing surface duet to a processing such as a grinding and a polishing and also capable of showing piezoelectric characteristics owned originally by a piezoelectric board with preventing a drop in degree of polarization due to pressure and heat of the processing.例文帳に追加

研削や研磨等の加工によって加工表面にできる加工傷や破壊変質層あるいはマイクロクラックの発生を抑えるとともに、加工圧力や加工熱による分極の度合いの劣化を防止し、圧電板がもつ本来の圧電諸特性を発揮することができる圧電振動子を提供する。 - 特許庁

The resist film removal method attached on a processing surface of a workpiece includes: dry processing the resist film attached on the processing surface of the workpiece by supplying active hydrogen atom generated by an inductively coupled plasma method between atmospheric pressure and 100 Pa; and dry processing by supplying active oxygen atom generated by the inductively coupled plasma method between atmospheric pressure and 100 Pa and/or wet processing by medical liquid.例文帳に追加

被処理物の処理表面に付着したレジスト膜を除去する方法であって、被処理物の処理表面に付着したレジスト膜に対し、大気圧から１００Ｐａの間で誘導結合プラズマ法によって生成された活性水素原子を供給することによるドライ処理と、大気圧から１００Ｐａの間で誘導結合プラズマ法によって生成された活性酸素原子を供給することによるドライ処理及び／又は薬液によるウェット処理とを行う。 - 特許庁

The tracking regulator directs hydraulic fluid from the piston pressure chamber to the source of pressurized hydraulic fluid when the tracking regulator detects a drop in the pressure of the process fluid flow, and the tracking regulator directs additional hydraulic fluid from the source of pressurized hydraulic fluid to the piston pressure chamber of the processing column when the tracking regulator detects an increase in the pressure of the process fluid flow, thereby regulating the set bed pressure.例文帳に追加

追跡調整器は、処理流体流れの圧力の降下を検出すると、ピストン圧力室からの水圧流体を、加圧された水圧流体の供給源へ向かわせ、処理流体流れの圧力の上昇を検出すると、加圧された水圧流体の供給源からの追加の水圧流体をピストン圧力室に向かわせることにより、基材床の圧力を調節する。 - 特許庁

When releasing a load lock chamber to an atmosphere by gas introduction from a feed pipe, the vacuum processing apparatus starts evacuating the load lock chamber using an exhaust pipe when the pressure in the load lock chamber rises up to predetermined first pressure, and stops the evacuation using the exhaust pipe when the pressure in the load lock chamber rises up to second pressure higher than the first pressure.例文帳に追加

上記目的を達成するために、給気管からのガス導入によるロードロック室の大気開放のときに、ロードロック室内の圧力が所定の第１の圧力まで上昇したときに、排気管を用いたロードロック室内の排気を開始し、第１の圧力より高い第２の圧力まで、ロードロック室内の圧力が上昇したときに、排気管を用いた排気を停止する真空処理装置を提案する。 - 特許庁

A substrate processing apparatus includes: a transfer chamber in which substrates are transferred under negative pressure; processing chambers connecting to the transfer chamber and in which heating treatment is performed on the substrates; a transfer robot provided in the transfer chamber and transferring the substrates to the inside or outside of each processing chamber, and a cooling part cooling an inner wall of the transfer chamber.例文帳に追加

負圧下で基板が搬送される搬送室と、搬送室に接続され基板に加熱処理を施す処理室と、搬送室内に設けられ処理室内外へ基板を搬送する搬送ロボットと、搬送室の内壁を冷却する冷却部と、を備える。 - 特許庁

To provide a microwave plasma generator for a plasma processing device and an ion beam processing device which perform various processes using plasma in the field of semiconductor processing, enabled to stably generate a uniform plasma having big area for long period at low gas pressure.例文帳に追加

半導体プロセッシングの分野において、プラズマを用いて各種の加工を行なうプラズマ加工装置およびイオンビーム加工装置において、低ガス圧で、均一、大面積のプラズマを長時間安定に発生さすことを可能とするマイクロ波プラズマ生成装置を提供する。 - 特許庁

To ensure the uniformity of substrate processing by effectively controlling pressure distribution on a substrate at the time of substrate processing in a substrate processing apparatus of type of discharging gases from the side opposite to a gas supplying side with the substrate sandwiched while supplying a gas from the side of the substrate.例文帳に追加

基板側方からガスを供給しつつ基板を挟んでガス供給側と反対側より排気するタイプの基板処理装置において、基板処理時における基板上の圧力分布を有効に制御して、基板処理の均一性を確保する。 - 特許庁

A nuclear reactor monitoring device 10 is mounted on the surface of a nuclear reactor pressure vessel 1 and comprises: an element 11 that transmits ultrasonic waves into the nuclear reactor pressure vessel 1 and receives reflected waves; a magnetic fixing part 16 where the element 11 is pushed by magnetic force against the nuclear reactor pressure vessel 1; and a signal processing part 20 that performs an arithmetic processing based on signals transmitted and received by the element.例文帳に追加

原子炉監視装置１０は、原子炉圧力容器１の表面に装着され、この原子炉圧力容器１内に超音波を送信して反射波を受信する素子１１と、素子１１を原子炉圧力容器１に磁力で押し付ける磁気固定部１６と、前記素子が送受信した信号に基づいて演算処理を実行する信号処理部２０と、を備える。 - 特許庁

The information processing apparatus changes the front/rear overlap relationship of a plurality of objects displayed on the touch screen based on the pressure difference between the detected plurality of pressed points.例文帳に追加

そして、タッチスクリーン上に表示されている複数のオブジェクトの重なりの前後関係を、検出された複数の押圧点の圧力差に基づいて変更する。 - 特許庁

This method of shape-stabilizing processing for cellulosic fiber comprises carrying out a steam treatment of the cellulosic fiber at a high temperature under a high pressure and then carrying out a liquid ammonia treatment.例文帳に追加

セルロース系繊維に高温高圧水蒸気処理を行い、次いで液体アンモニア処理を行うセルロース系繊維の形態安定加工方法。 - 特許庁

To provide a terminal processing device capable of surely fixing the terminal of a web roll by adhesion of a both-sided pressure sensitive adhesive material.例文帳に追加

ウェブロールの端末を両面粘着テープの接着によって確実に固定処理することができるようにした端末処理装置を提供することである。 - 特許庁

That is, a multi-phase flow 29 composed of air and hard particles 28 collides with the sliding surface 1s at high speed, thereby processing the recessed pressure receiving surface 7.例文帳に追加

すなわち、空気と硬質粒子２８の混相流２９を高速で摺動面１ｓに衝突させることによって、凹状受圧面７を加工する。 - 特許庁

To provide a high-pressure processing method capable of well cleaning a substrate with improved in-plane uniformity and uniformity among lots in cleaning the substrate.例文帳に追加

基板に対する洗浄処理の面内均一性やロット間均一性を高めて基板を良好に洗浄することができる高圧処理方法を提供する。 - 特許庁

Trimming processing is carried out in one or a small number of pressure sensors W, in the ambient temperature trimming device 2 and the high temperature trimming device 4.例文帳に追加

そして、室温トリミング装置２及び高温トリミング装置４においては、１つ又は少数の圧力センサＷに対してトリミング処理を行うようにしている。 - 特許庁

To provide a lubricant composition for metal processing that can achieve high level machining performance without increasing the addition amount of an extreme pressure agent.例文帳に追加

極圧剤の添加量を増加せずとも高水準の加工性能を達成することが可能な金属加工用潤滑油組成物を提供すること。 - 特許庁

To improve efficiency of surface treatment for improving wettability of a substrate surface by atmospheric pressure plasma and thereby to shorten processing time and to raise through put.例文帳に追加

大気圧プラズマにより基板の表面のぬれ性を改善する表面処理の処理効率を向上させ、処理時間を短縮して、スループットを向上させる。 - 特許庁

To improve operability by preventing misoperation of a multi-steering lever for carrying out steering of a combine harvester and lifting and lowering operation of a front processing part by hydraulic pressure.例文帳に追加

油圧によるコンバインの操向及び前処理部の昇降操作を行うマルチステアリングレバーの誤操作を防止して操作性を向上させる。 - 特許庁

To aim at improving a yield of products by preventing generations of particles as well as by suppressing solvent vapor liquefaction within a processing container due to difference in pressure.例文帳に追加

圧力差によって処理容器内の溶媒蒸気が液化するのを抑制すると共に、パーティクルの発生を抑制して製品歩留まりの向上を図ること。 - 特許庁

By supplying electric power at this set frequency, an electric field is applied to a space 10p of the nearly normal pressure between the mutual electrodes 11, 12, and the plasma processing is carried out.例文帳に追加

この設定した周波数で給電することにより、電極１１，１２どうし間の略常圧の空間１０ｐに電界を印加しプラズマ処理を行なう。 - 特許庁