「pulse process」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

A method for thermally reducing dissipation in a single PLC 10 package includes a process for realizing a pulse width modulation current regulator 40 including a field effect transistor(FET) switch 74 and a process for providing a wide operating range of current by utilizing turn-on delay of the FET.例文帳に追加

単一のＰＬＣ（１０）パッケージにおいて熱的に消散を減少させる方法は、電界効果トランジスタ（ＦＥＴ）スイッチ（７４）を含むパルス幅変調電流調整器（４０）を実現する過程と、ＦＥＴのターンオン遅延を利用して電流の広い動作範囲を提供する過程とを含む。 - 特許庁

Preferably, the carbon fiber is obtained by a first surface treatment process, for example, uniformly treating the surface of carbon fiber by an electrolytic treatment and by a second surface treatment process, for example, discontinuously treating the surface of carbon fiber in the fiber-axis direction by an electrolytic treatment using a pulse wave.例文帳に追加

かかる炭素繊維は、好ましくは、第１の表面処理工程、例えば、電解処理で炭素繊維の表面を均一に処理し、次いで、第２の表面処理工程、例えば、パルス波を用いる電解処理で表面を繊維軸方向に不連続に処理することによって得られる。 - 特許庁

A process part 11a calculates crank angular velocity and engine speed based on pulse signal input from the crank pulse detection part 12, calculates crank angular velocity fluctuation quantity from detected crank angular velocity and engine speed, and controls the engine 1 based on the calculated crank angular velocity fluctuation quantity and the IG control map.例文帳に追加

処理部１１ａは、クランクパルス検出部１２から入力されるパルス信号に基づいてクランク角速度とエンジン回転速度を算出し、算出したクランク角速度とエンジン回転速度からクランク角速度変動量を算出し、算出したクランク角速度変動量とＩＧ制御マップに基づいてエンジン１の制御を行う。 - 特許庁

In a first process for removing a coating film, respective pealing zones H_10 determined at the portions corresponding to welding points W of a steel plate 12 are irradiated by converging a pulse laser beam LBa for removing the coating film, and galvanized coating films 10 within the pealing zones H_10 are sublimated and removed by the energy of the pulse laser beam LBa.例文帳に追加

第１工程の皮膜除去工程では、スチール板１２の溶接ポイントＷと対応する部位に設定された各剥離領域Ｈ_10に皮膜除去用のパルスレーザ光ＬＢａを集光照射し、剥離領域Ｈ_10内の亜鉛メッキ皮膜１０をパルスレーザ光ＬＢａのエネルギーにより昇華させて除去する。 - 特許庁

A laser beam transmitter 10 uses YAG-SHG (wavelength 532nm), pulse width 15n second, and the wavelength is converted to 266nm using a wavelength transducer 30 to obtain beam dia.ϕ15μm, fluence 1μJ/pulse, and a single irradiation is performed to each place and a hollowing process is executed on a polyimide film surface which is a work 16 to be machined.例文帳に追加

レーザー発信器１０としてＹＡＧ−ＳＨＧ（波長５３２ｎｍ）、パルス幅１５ｎ秒を用い、波長変換素子３０で波長を２６６ｎｍに変換して、ビーム径φ１５μｍ、フルエンス１μＪ／パルス、１箇所当たりに１回の照射を行い、被加工物１６であるポリイミドフィルム表面に窪み加工する。 - 特許庁

The above silica and glass are manufactured by mixing silica and alumina powder of a grain size from 0.1 to 500 μm and using the pulse electroheating process capable of controlling square wave electric current from 2 to 20 kA and pressure from 10 MPa to 5 GPa.例文帳に追加

粒径０．１から５００μｍのシリカおよびアルミナ粉末を混合し、２から２０ｋＡの矩形波電流、１０ＭＰａから５ＧＰａの圧力制御可能なパルス通電加熱法を用いて作製する。 - 特許庁

A movable mechanism part 20 drives a pulse motor 21 based on a motor drive command supplied from a calculation process part 30, so that the movable venturi 12 is moved in axial direction through a drive fixing seat 23.例文帳に追加

可動機構部２０は、演算処理部３０から供給されるモータ駆動指令に基づいてパルスモータ２１を駆動し、ボールねじ２１，駆動用固定座２３を介して可動ベンチュリー１２を軸方向へ移動させる。 - 特許庁

In the second control, to increase the cornering force of the tire, the braking forces of the respective wheels are adjusted in the form of a pulse so that the sum of braking forces of all wheels of the vehicle is smaller than that in the process of performing the first control.例文帳に追加

第２制御では、タイヤの横力を増加させるため車両の全車輪の制動力の総和が第１制御実行中よりも小さくなるよう各車輪の制動力がパルス的に調整される。 - 特許庁

Especially, it is desirable to form the through holes at every boring point by repeating a process which irradiates the laser beam on every boring point arranged in a nearly lattice state at lest at every one pulse several times.例文帳に追加

特に略格子状に配列した穿孔ポイントのすべてに少なくとも１パルスづつレーザー光を照射する工程を複数回繰り返してすべての穿孔ポイントに貫通孔を形成することが望ましい。 - 特許庁

To provide a method for treating a nitrogen compound by a pulse electrolytic process where current efficiency is improved by a simple technique, and the reduction of power consumption can be attained.例文帳に追加

パルス電解法による窒素化合物の処理方法であって、簡単な手法によって電流効率を向上して消費電力の節減を達成することができる処理方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a handy device for measuring a characteristic of a high output laser beam in an in-process, particularly, a laser beam measuring device for measuring a characteristic of a vibrating pulse laser in a work position and a laser beam control device.例文帳に追加

高出力レーザビームの特性をインプロセスで計測する軽便な装置、特に振動するパルスレーザの加工位置における特性を計測するレーザビーム計測装置およびレーザビーム制御装置を提供する。 - 特許庁

A pulse control section 43 forms timing for the recording process, and controls image recording sections 2-1 to 2-n conforming to information from a cutting sensor 13, and conveying information from a first compensating section 41-1.例文帳に追加

前記切断センサ１３からの情報及び第１補正部４１−１からの搬送情報に基づいて、パルス制御部４３が記録処理のタイミングを生成して画像記録部２−１〜２−ｎを制御する。 - 特許庁

The method for treating a substrate holder includes a process where substances stuck to a substrate holder used for forming a light receiving member consisting essentially of amorphous silicon are irradiated with pulse laser light and are removed.例文帳に追加

アモルファスシリコンを主成分とする光受容部材の形成に用いられる基体ホルダーに付着した物質を、パルスレーザー光を照射して除去する工程を含むことを特徴とする基体ホルダーの処理方法。 - 特許庁

The analog pulse signal A is subjected to a binarization process and converted into a digital signal B by a signal processing section 8, and the digital signal B is output as a signal for detecting a rotation rate to an ECU (electronic control unit) 18 of a vehicle.例文帳に追加

信号処理部８はアナログパルス信号Ａを二値化処理してディジタル信号Ｂに変換し、これを回転速度検出用信号として、車両のＥＣＵ（電子制御ユニット）１８に出力する。 - 特許庁

In the process of opening a shutter, a processing means 3 judges that a shutter is fully opened when load on an opening and closing machine M is detected, and have a memory 5 memorizes a reference pulse-count value which indicates the full-open position.例文帳に追加

処理手段３は、シャッターを開放させて開閉機Ｍへの負荷感知が検出されたときに全開位置であると判断し、全開位置を示す基準のパルスカウント値を記憶手段５に記憶させる。 - 特許庁

The method of manufacturing ferroelectric thin film comprises a process to form a fine crystal core 40 of an oxide, by irradiating an amorphous oxide thin film 30 formed on a substrate 10 with pulse layer beam or lamp beam and a process to form a ferroelectric 50, through crystallization of the oxide by irradiating the thin film including fine crystal core 40 with the pulse laser beam or a lamp beam.例文帳に追加

本発明に係る強誘電体薄膜の形成方法は、基板１０上に形成された非晶質の酸化物薄膜３０にパルス状のレーザー光またはランプ光を照射して当該酸化物の微結晶核４０を形成する工程と、前記微結晶核４０を有する薄膜にパルス状のレーザー光またはランプ光を照射して前記酸化物を結晶化させて強誘電体５０を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

Thus method comprises: a process in which a thin film coating layer 2 is formed on the base material 1 surface; and a process in which the thin film coating layer is irradiated with a femtosecond or picosecond laser pulse having the prescribed intensity and many minute projections are formed on the thin film coating surface in an irradiation region.例文帳に追加

本発明の薄膜表面微細突起形成方法は、基材１表面に薄膜コーティング層２を形成する工程と、前記薄膜コーティング層に向けて所定強度のフェムト秒ないしはピコ秒パルスレーザを照射し、当該照射領域内の薄膜コーティング表面に多数の微細突起を形成する工程とを有する。 - 特許庁

Output of a reset signal 22 is held for 9 ms while one shot of low pulse is output from a monostable multivibrator MM1 on a front stage after a power failure signal 21 is output, so a power failure process (game finish process in the power failure) can be carried out during the 9 ms when the power failure occurs.例文帳に追加

停電信号２１が出力された後、前段の単安定マルチバイブレータＭＭ１からワンショットのロウパルスが出力される９ｍｓの間は、リセット信号２２の出力が待機されるので、停電の発生時にその９ｍｓの間、停電処理（停電時における遊技の終了処理）を実行することができる。 - 特許庁

In addition, they have a process for introducing the reaction gas into the discharge space and a process for activating the reaction gas by supplying the pulse or the rectangular wave modulated high-frequency power into the discharge space and are characterized in that the ashing treatment is performed on the surface of the substrate with the activated reaction gas.例文帳に追加

また放電空間に反応ガスを導入する工程と、前記放電空間にパルスもしくは矩形波変調された高周波電力を供給して前記反応ガスを活性化する工程と、を有し、前記活性化された反応ガスが基体の表面にアッシング処理をすることを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the fine composite particle in which the trace constituent is dispersed uniformly comprises a process of adding a solution of the trace constituent to a slurry or a liquid containing one or more kinds of inorganic metallic compounds, and a process of contacting a pulse combustion gas to the obtained mixed liquid or mixed slurry to dry.例文帳に追加

１種類以上の無機金属化合物を含む液体またはスラリーに、微量成分の溶液を添加する工程、得られた混合液体または混合スラリーに、パルス燃焼ガスを接触させて乾燥させる工程からなる微量成分が均一に分散した複合微粒子の製造方法である。 - 特許庁

The semiconductor device has the process (d) irradiating the amorphous silicon film 40 with pulse laser beams 50 and forming a crystallite silicon film 41 formed by crystallizing the amorphous silicon film 40 and the process (e) removing the crystallite semiconductor film 41 excepting the crystallite semiconductor film 41 on the upper side of the gate electrode 20.例文帳に追加

そして、（ｄ）非晶質シリコン膜４０にパルスレーザ光５０を照射し、当該非晶質シリコン膜４０を結晶化した微結晶シリコン膜４１を形成する工程と、（ｅ）ゲート電極２０上側の微結晶半導体膜４１以外の微結晶半導体膜４１を除去する工程とを備える。 - 特許庁

When a state in which the duty of pulse signals outputted from a PWM circuit 3 is a maximum value continues for a constant time, a CPU 1 judges that the DC motor 7 is in the lock state, makes the duty of pulse signals from the PWM circuit 3 zero and carries out a process of interrupting a voltage impression from a motor driver 6 to the DC motor 7.例文帳に追加

ＰＷＭ回路３から出力されるパルス信号のデューティが最大値となる状態が一定時間継続した場合に、ＣＰＵ１はＤＣモータ７がロック状態であると判定し、ＰＷＭ回路３からのパルス信号のデューティをゼロにして、モータドライバ６からＤＣモータ７への電圧印加を中断させる処理を行う。 - 特許庁

A DC current for recording is supplied to a laser light source 2 when a signal is recorded, a target value pulse current for reproduction is supplied to the laser light source 2 when a signal is reproduced, and a pulse current gradually decreasing from a target value for recording to a target value for suppression is supplied to the laser light source 2 when the process is transferred from the signal recording to reproduction.例文帳に追加

信号の記録時には記録用の直流電流をレーザ光源２に供給し、信号の再生時には再生用目標値のパルス電流をレーザ光源２に供給し、信号の記録から再生への移行時には、記録用目標値から抑制用目標値に徐々に減少するパルス電流をレーザ光源２に供給する。 - 特許庁

To provide a new pulse detection circuit which satisfactorily operates in an ultrahigh frequency band such as IR reaching the limit of element performance in which power consumption is reduced, which is inexpensive, highly reliable and can be manufactured by a normal CMOS semiconductor process, and to provide an envelope detection circuit, an electronic device and a pulse detection method.例文帳に追加

ＩＲのような素子性能の限界に及ぶ超高周波域で良好に動作し消費電力が少なく安価で信頼性が高く且つ通常のＣＭＯＳ半導体プロセスで製造可能な新たなルス検出回路、包絡線検出回路および電子装置ならびにパルス検出方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the second step, the pulse laser light whose beam intensity has been adjusted is radiated to the substrate, and the focal point of the pulse laser light is fixed to make scanning along the scheduled division line, so that a plurality of linear process traces which come down to such depth as not reach the surface of the substrate with the reform layer as a start point, are periodically formed along the scheduled division line.例文帳に追加

第２工程は、ビーム強度の調整されたパルスレーザ光を基板に照射するとともに、パルスレーザ光の焦点位置を固定して分断予定ラインに沿って走査し、改質層を起点として基板の表面に到達しない深さまで進行する複数の線状加工痕を分断予定ラインに沿って周期的に形成する工程である。 - 特許庁

To provide a development device capable of suppressing fluctuation in density of an image formed on an image carrier body when changing a peak-to-peak voltage value of a pulse voltage; and to provide a process cartridge and an image forming apparatus having the development device.例文帳に追加

パルス電圧のピークトゥピーク電圧値を変更したときの像担持体上に形成される画像の濃度の変動を抑制できる現像装置、並びに、その現像装置を備えたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

This display device is made to have constitution in which the high speed of address discharge is attained by impressing thin with front pulses 105 at a voltage exceeding a discharge starting voltage to a scanning pulse 106 and by performing growth (Townsent's growth process) of space charge with the front pulses 105.例文帳に追加

走査パルス１０６の時間的前に細幅の前置パルス１０５を放電開始電圧を超えて印加し、前置パルス１０５で空間電荷の成長（タウンゼントの成長過程）を行って、アドレス放電を高速化する構成とした。 - 特許庁

The pattern drawing apparatus 1 measures the irradiation position of pulse light by each optical head and changes the time interval Ts of the calibration process in accordance with the deviation amount P of the irradiation position and with the difference ΔP in the deviation amounts.例文帳に追加

本実施形態のパターン描画装置１は、各光学ヘッドによるパルス光の照射位置を計測し、その照射位置のずれ量Ｐおよびずれ量の差分ΔＰに応じて較正処理の時間間隔Ｔｓを変更する。 - 特許庁

The magnetic resonance imaging method is to collect MR signals generated during an image slicing process of the object to be imaged in accordance with applying an image exciting pulse Pex and to reconfigure an image based on the collected MR signals.例文帳に追加

イメージング用励起パルスＰｅｘの印加に応じて撮像対象の撮像スライスで発生したＭＲ信号を収集し、この収集されたＭＲ信号に基いて画像を再構成する磁気共鳴イメージングである。 - 特許庁

The present duty ratio DT of the pulse signal Sc is updated to an aimed duty ratio DT obtained by calculating all at once in a merging process when the sensor output value S (n) is a prejudiced value with the drift of the sensor resistance value Rs.例文帳に追加

センサ抵抗値Ｒｓのドリフトにより、センサ出力値が偏った値となると、合わせ込み処理において、パルス信号Ｓｃの現在のデューティ比ＤＴを、算出して得た狙いデューティ比ＤＴに一挙に更新する。 - 特許庁

Since an optical system from a transparent substance to the sample has a dispersion compensation process for compensating the dispersion of light pulses generated at the transparent substance and the microscope, the sample can be irradiated with the light of target wavelength of short pulse width.例文帳に追加

また、透明物質から試料までの光学系で透明物質と顕微鏡とで生じる光パルスの分散を補償する分散補償工程を有することで短パルス幅の目的波長光を試料に照射することができる。 - 特許庁

In this reading process, it is determined which voltage of the write voltage pulse has been used according to a variation in the resistance status of the variable resistance element when the read voltage pulses were sequentially provided (S210).例文帳に追加

この読み出し工程では、読み出し電圧パルスが順次与えられたときの抵抗変化素子の抵抗状態の変化に応じて、何れの電圧値の書き込み電圧パルスによって書き込み工程が行われたのかを判別する（Ｓ２１０）。 - 特許庁

To improve a process and device for determining pulse transit time of a patient or a donor by a method such that more accurate monitoring of blood pressure is made possible taking into consideration variation of the number of blood cells during the lapse of time.例文帳に追加

時間の経過の間に血球数の変化を考慮に入れ、血圧のより正確な監視が可能となるような方法で、患者又は提供者の脈遷移時間を決定するための処理及び又は装置を改善する。 - 特許庁

To provide a laser annealing method in which fusion/recrystallization process is not saturated with regard to a crystal grain size, and the crystal grain can be developed into the desired crystal grain size depending on the irradiation frequency of the pulse laser beam; and to provide a laser annealer.例文帳に追加

溶融・再結晶化プロセスが結晶粒径に対して飽和することがなく、パルスレーザ光の照射回数に応じて所望の結晶粒径まで成長させることができるレーザアニール方法及びレーザアニール装置を提供する。 - 特許庁

In view of controlling increase in the interface level at the silicon/silicon oxide film interface due to the influence of ultraviolet ray generated during the plasma etching process, a pulse time modulation plasma method for intermittently supplying the high-frequency electric power is introduced.例文帳に追加

このプラズマエッチング中に発生する紫外線の影響によるシリコン−シリコン酸化膜界面の界面準位の増加を抑止するため、高周波電力を間欠的に供給するパルス時間変調プラズマ法が用いられる。 - 特許庁

The method of manufacturing SHOCHU lees feed obtained by drying SHOCHU lees includes: a process of supplying SHOCHU lees slurry into combustion gas generated by firing a fuel with a pulse combustion device while dispersing the SHOCHU lees slurry mistily to dry the SHOCHU lees slurry; and a process of heating dried SHOCHU lees through indirect heat exchange with a heat medium 13 used for cooling the pulse combustion device to further dry the SHOCHU lees dried by the heating.例文帳に追加

焼酎粕を乾燥させた焼酎粕飼料を製造する方法であって、パルス燃焼装置５で燃料を燃焼させて生ずる燃焼ガス中に、焼酎粕スラリーを霧状に分散させて供給することによって、前記焼酎粕を乾燥させ、前記乾燥させた焼酎粕を、前記パルス燃焼装置を冷却するために用いられた熱媒体１３との間接熱交換によって加熱し、この加熱によって前記乾燥させた焼酎粕を更に乾燥させる。 - 特許庁

When the laser 700 having suitable pulse width and wavelength is selected in such a system and laser light particularly having the pulse width of femtoseconds to picoseconds and the wavelength in the range from 750 to 850 nm or from 1,000 to 1,100 nm is used, repairs in all steps can be performed using only a single laser apparatus without the need for additional or different repair devices for each test process.例文帳に追加

このような方式で、適切なパルス幅及び波長を有するレーザー装備７００を選択し、特にフェムト秒乃至ピコ秒のパルス幅及び７５０ｎｍ乃至８５０ｎｍまたは１０００ｎｍ乃至１１００ｎｍの波長範囲のレーザー光を使用すれば、テスト段階別に別途の修理装置を使用せずに一つのレーザー装備を使用して全工程で修理を行うことができる。 - 特許庁

In the driving method of a plasma display panel, a display period of one field of an input image signal is constituted of a plurality of sub-fields comprising address processes and sustain processes to display gradations, and a prescribed rest period when a driving pulse is not applied is provided in the sustain process after the end of the address process in one sub-field.例文帳に追加

入力映像信号の１フィールドの表示期間を、アドレス行程とサスティン行程とからなる複数のサブフィールドで構成して階調表示を行うプラズマディスプレイパネルの駆動方法であり、１のサブフィールドにおけるアドレス行程終了後の前記サスティン行程において、駆動パルスが印加されない所定の休止期間を設けた。 - 特許庁

This method for packing magnetic powder material 14 into the cavity 112 of a press device 100 contains a process (a) of supplying the magnetic powder material to an upper part of the cavity and a process (b) of actuating a force which directs the bottom part of the cavity to the magnetic powder material by applying an alternating decay pulse magnetic field to the space containing the cavity.例文帳に追加

プレス装置１００のキャビティ１１２に磁性粉末材料１４を充填する方法であって、（ａ）キャビティの上方に磁性粉末材料を供給する工程と、（ｂ）キャビティを含む空間に交番減衰パルス磁界を印加することによって磁性粉末材料にキャビティの底部に向かう力を作用させる工程とを包含する。 - 特許庁

A distance direction data-processing part 31 of a control device 16 generates a distance process data from a detected data by performing, for example, mobile median acquiring process, as a prescribed data processing for distance, with the detected data for temperature distribution corresponding to distance in the length direction of an optical fiber outputted from a first optical pulse tester 13.例文帳に追加

制御装置１６の距離方向データ処理部３１は、第１光パルス試験器１３から出力される光ファイバの長手方向における距離に応じた温度分布の検出データに対して、距離に関する所定のデータ処理として、例えば移動中央値取得処理を行い、検出データから距離処理データを生成する。 - 特許庁

At this point, as for the execution of the synchronizing process to make the demodulation timing pulse synchronize with the synchronizing signal when a period of the synchronizing signal is equal to a prescribed period, if the corrected address data are determined as the proper address, the execution of the re-synchronizing process is made on standby after that, till the corrected address data are determined as the wrong address.例文帳に追加

この際、同期信号の周期が所定周期と等しい場合には復調タイミングパルスを同期信号に同期させる同期処理を実行させるにあたり、訂正アドレスデータが正しいアドレスであると判定された場合にはその後、訂正アドレスデータが不正なアドレスであると判定されるまで再同期処理の実行を待機させる。 - 特許庁

To provide a plasma CVD apparatus for using a high pulse frequency of a waveform of an envelope in power, transmitting low frequency power to an electrode of a process chamber at high power, suppressing abnormal discharge, and forming a film at the same speed as a conventional case.例文帳に追加

電力における包絡線の波形のパルス周波数を高くし、かつ高いパワーにて低周波電力をプロセスチャンバーの電極に伝達させ、異常放電を抑制して従来と同様の速度により成膜するプラズマＣＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

To establish a process for forming a deterioration layer along a predetermined division line using a pulse laser beam, dividing a wafer into individual chips along the deterioration layer, applying an adhesive film for die bonding to the rear surface of the chips and picking up the individual chips.例文帳に追加

パルスレーザー光線を分割予定ラインに沿って変質層を均一に形成し、この変質層に沿って個々のチップに分割するとともに、チップの裏面にダイボンディング用の接着フィルムを装着し、個々のチップをピックアップするプロセスを確立する。 - 特許庁

A frame processor 50 executes a process of decompressing the test pattern 20 output from the pattern generator 30 in operation in software manner by executing a previously set program, and generates/outputs a pulse shape signal, based on the decompressed data.例文帳に追加

フレームプロセッサー５０は、あらかじめ設定されたプログラムを実行することにより、パターンジェネレーター３０から出力されたテストパターン２０の伸張処理をソフト的に行い、さらに、伸張されたデータに基づいて、パルス波形を生成して出力する。 - 特許庁

Then, in a period after the reel R1 temporarily stopped in the reel normal rotation process resumes rotation until the reel position detection signal 155a becomes active, the pulse number fed to a stepping motor is supplied to a display control board 100B.例文帳に追加

そして、リール定常回転処理において一時停止したリールＲ１の回転を開始してからリール位置検出信号１５５ａがアクティブになるまでの期間において、ステッピングモータに供給したパルス数を表示制御基板１００Ｂに供給する。 - 特許庁