「pulse process」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

Since characteristic parameter is determined to keep exhaust emission within a regulation range and the pulse supercharging valve is operated when the catalyst temperature raise control means executes catalyst temperature raise control, regeneration process of the exhaust emission control catalyst can be executed while keeping exhaust emission within a regulation range.例文帳に追加

触媒昇温制御手段が触媒昇温制御をする際に、排気規制値範囲内となるように特性パラメータを決定して、パルス過給弁を作動するので排気ガスの規制範囲を担保しつつ排気浄化触媒を再生処理できる。 - 特許庁

The engine system judges timing when engine restart become possible while monitoring engine speed pulse after executing automatic stop process of the engine at time t0, and executes restart of the engine based on establishment of automatic start conditions by vehicle operation after the judgment.例文帳に追加

エンジンシステムは、時刻ｔ０においてエンジンの自動停止処理を行った後、回転速度パルスを監視しつつエンジン再始動が可能となる時期を判定し、該判定後に車両操作による自動始動条件が成立することに基づいてエンジンの再始動を実行する。 - 特許庁

When applying the aging process on the plasma display panel 1, a driving pulse P1 having a wave form of steep rising part a and a falling part b is repeatedly impressed in order to make the plasma display panel 1 generate an aging discharge.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル１に対してエージング工程を実施する際に、エージング放電を発生させるためにプラズマディスプレイパネル１に繰り返し印加する駆動パルスとして、急峻な立上がり部分ａ及び立下がり部分ｂを有する波形の駆動パルスＰ１を用いる。 - 特許庁

A CPU 6 detects the level of an original analog waveform input based on the duty factor of the digital pulse input from the process circuit 5, and then in accordance with the result controls the circuit 5 to adjust the level shift of the an analog waveform for matching the preset threshold value level.例文帳に追加

ＣＰＵ６は、処理回路５から入力されたデジタルパルスのデューティ比に基づいて元のアナログ波形のレベルを検知し、その結果に従って処理回路５を制御し、あらかじめ設定した閾値のレベルに合わせてアナログ波形のレベルをシフト調整する。 - 特許庁

One of several spectrum parameters of the laser pulse are specifically modified in order to process the material, or during the processing according to, preferably, a measurement processing parameter.例文帳に追加

本発明によれば、レーザ・パルスの１つまたは数個のスペクトル・パラメータ、即ち、スペクトル振幅および／またはスペクトル位相および／またはそのスペクトル偏波を、好ましくは測定加工変数に応じて、材料を加工するために、あるいは前記加工の実行の間に、特定的に改変する。 - 特許庁

To provide a method for dividing a wafer capable of establishing the process of forming a deteriorated layer in the wafer along a predetermined division line using a pulse laser beam, dividing the wafer into individual chips along the deteriorated layer and picking up the divided chips.例文帳に追加

パルスレーザー光線を用いてウエーハの内部に分割予定ラインに沿って変質層を形成し、この変質層に沿って個々のチップに分割するとともに、分割されたチップをピックアップするプロセスを確立することができるウエーハの分割方法を提供する。 - 特許庁

Intermediate signal synchronous with system clock of a device is generated, in which the asynchronous DS3 signal is housed by pulse staff synchronous process, which is synchronously received in the SDH signal for transmission.例文帳に追加

装置のシステムクロックに同期した中間信号を発生し、この発生した中間信号に非同期ＤＳ３信号をパルススタッフ同期処理して収容し、この非同期ＤＳ３信号をスタッフ同期収容した中間信号をＳＤＨ信号に同期収容して伝送する。 - 特許庁

A pulse signal is outputted from a magnetic sensor 27 when the distance between a permanent magnet 25 and the magnetic sensor 27 becomes the minimum distance each time the case base 21 makes one rotation, and the number of pulses is counted and stored by a rotating speed counting process section 28.例文帳に追加

また、ケース基台２１が１回転するごとに永久磁石２５と磁気センサ２７との距離が最小距離となったときに、磁気センサ２７からパルス信号を出力させ、このパルス数を回転数計数処理部２８によって計数し且つ記憶する。 - 特許庁

The process flow of the bed-movable PC-MRA measurement includes: processing of compensating a phase offset quantity of a fixed quantity according to the moving velocity of the bed according to the blood flow velocity of a blood vessel at an imaging position; and processing of controlling the applying quantity of a flow encode pulse so as to maximize the signal intensity of the blood vessel.例文帳に追加

撮像位置の血管の血流速度に応じて、ベッドの移動速度に応じた一定量の位相オフセット量を補償する処理と、血管の信号強度が最大となるようにフローエンコードパルスの印加量を制御する処理を設ける。 - 特許庁

To improve the discontinuity of gradation characteristics due to abrupt increase in the density of dots, constituting a dot dither, accompanying a carriage return by an image output device, such as a color laser printer which concurrently uses a dot dither gradation process and laser pulse width modulation (PWM).例文帳に追加

網点ディザ階調処理とレーザパルス幅変調(ＰＷＭ)とを併用するカラーレーザプリンタなどの画像出力装置において、網点ディザを構成するドットの改行に伴う急激な濃度増加に起因する階調特性の不連続性を改善する。 - 特許庁

In an amplitude pulse-train calculation process 101, an analysis period is set centering on a maximum peak point in an analysis object signal to calculate an amplitude pulse train comprising a plurality of amplitude pulses discretely generated within the analysis period wherein a signal waveform within the analysis period among signal waveforms acquired by weighting/adding impulse responses by respective amplitude pulses acts as a signal waveform within the analysis period in the analysis object signal.例文帳に追加

振幅パルス列算出処理１０１では、解析対象信号における最大ピーク点を中心に解析期間を設定し、解析期間内に離散的に発生する複数の振幅パルスからなり、インパルス応答を各振幅パルスにより重み付け加算した信号波形のうち解析期間内の信号波形が解析対象信号における解析期間内の信号波形となる振幅パルス列を算出する。 - 特許庁

A printer controller generates a bubble elimination flushing driving signal that includes a bubble elimination flushing process driving pulse for eliminating bubbles in the ink flow channel by driving a piezoelectric element, and carries out a bubble elimination flushing process for restoring the ejection capability of a recording head using the bubble elimination flushing driving signal prior to heating of the ink in the ink flow channel by a heating mechanism.例文帳に追加

プリンターコントローラーは、圧電素子を駆動してインク流路中の気泡を除去するための気泡除去フラッシング処理用駆動パルスを含む気泡除去フラッシング用駆動信号を発生し、加熱機構によるインク流路内のインクの加熱が行われる前に、気泡除去フラッシング用駆動信号を用いて記録ヘッドの噴射能力を回復させるための気泡除去フラッシング処理を行う。 - 特許庁

The manufacturing method of the three-dimensional metal fine structure having an arbitrary stereoscopic shape comprises a first process for forming a polymer structure having a three-dimensional fine structure by a two-photon absorbing fine shaping method for irradiating a photosetting resin with a short pulse laser beam and a second process for forming a metal film on the polymer structure formed by the first process by electroless plating.例文帳に追加

任意の立体形状を備えた３次元金属微細構造体の製造方法において、光硬化性樹脂に対して短パルスレーザー光を照射して２光子吸収微細造形法により３次元微細構造を備えたポリマー構造体を形成する第１の工程と、上記第１の工程により形成されたポリマー構造体に無電解めっきにより金属膜を形成する第２の工程とを有する３次元金属微細構造体の製造方法である。 - 特許庁

When real time performance is measured for the device 200 to be measured, a measuring device 300 transmits the start instruction of a measurement target process to the device 200 to be measured, and measures a time since a start instruction is transmitted until a corresponding pulse is returned.例文帳に追加

測定対象装置２００についてリアルタイム性能を測定する際、測定装置３００は、測定対象装置２００に対して測定ターゲットプロセスの起動指令を送信する一方、該起動指令を送信してから対応するパルスが返送されるまでの時間を測定する。 - 特許庁

The driving method of the electrophoresis element in which an electrophoretic material is disposed between a first electrode and a second electrode comprises a process of intermittently applying a DC pulse-like voltage between the first electrode and the second electrode of the electrophoresis element a plurality of times in a prescribed period.例文帳に追加

第１電極と第２電極との間に電気泳動材料が配置された電気泳動素子を駆動する方法であって、所定期間内に、上記電気泳動素子の上記第１電極と上記第２電極との間に直流のパルス状電圧を断続的に複数回与えること、を含む。 - 特許庁

The top of a probe having a piezoelectric element is scanned while being in contact with a surface to be measured, and thereby pulse-like electric signals are generated at the piezoelectric element, and then the electric signal is amplified for a prescribed period by an amplifying circuit 23, and the distinguishing signal is generated by carrying out the process of integration using an integrating circuit 24.例文帳に追加

圧電素子を有するプローブの先端を被測定表面に当接しながら走査することにより、前記圧電素子部にてパルス状の電気信号を発生させ、この電気信号を、所定時間だけ増幅回路２３で増幅し、積分回路２４で積分処理して識別信号とする。 - 特許庁

By rotating the green compact electrode 25 for forming the valve seat coating film, the carbide can be uniformly laminated on different sites of the valve seat part 102 so that a process for forming the coating film can be stabilized and that settings of working voltage or current, pulse width, duty ratio, etc. can be increased compared to those in conventional technology.例文帳に追加

バルブシート皮膜形成用圧粉体電極２５の回転でバルブシート部１０２の各箇所に炭化物を平均的に積層して皮膜形成プロセスを安定化させ、加工電圧や加工電流およびパルス幅やデューティ比等を従来以上に高パワー側に設定できるようにする。 - 特許庁

For the production of this surface-treated copper foil, there is employed, for example, a process comprising subjecting a surface of a copper foil to pulse electrolysis in a cobalt plating solution containing cobalt sulfate (heptahydrate) at a fixed current density so as to form a blacking-treated surface and to form a rustproof treated layer and thereafter carrying out water washing and drying.例文帳に追加

表面処理銅箔の製造に、銅箔の表面に、硫酸コバルト（７水和物）を含むコバルトメッキ液を用いて、一定の電流密度でパルス電解し黒色化処理面を形成し、防錆処理層を形成し、水洗し、乾燥する手法等を採用する。 - 特許庁

In a step S11, the stop time timer Tp is compared with a prescribed reference value Tref, and the process is returned to a step S5 and the above described processes are repeated when Tp is lower than Tref, and thereby, even when input of the pulse signal P from a crank pulser 19 is stopped, a main relay 15 can maintain a closed state.例文帳に追加

ステップＳ１１では、停止時間タイマTpが所定の基準値Trefと比較され、Tp＜Trefである限りは、ステップＳ５へ戻って上記した各処理が繰り返されるので、クランクパルサ１９からのパルス信号Pの入力が途絶えていても、メインリレー１５は閉成状態を維持できる。 - 特許庁

At a first process of the method for working the catheter, parts where a first group of wires W_a crosses with a second group of wires W_b above and below, that is a mesh cross part, in the metal mesh 34 in an area E to be welded which is set at the distal end of the catheter 30 are irradiated with a pulse laser beam for welding.例文帳に追加

第１工程では、カテーテル３０の先端部に設定された溶接領域Ｅ内の金属メッシュ３４において第１組のワイヤＷ_aと第２組のワイヤＷ_bとが上下に交差する部分つまりメッシュ交差部に、溶接用のパルスレーザ光を照射してスポット溶接を施す。 - 特許庁

A drive circuit, which drives multiple Y electrodes of a touch sensor panel where multiple intersection capacities are formed by the Y electrodes and multiple X electrodes, outputs a drive pulse signal, to which a waveform in the process of rise and decay is set in a variable manner, to the Y electrodes.例文帳に追加

複数のＹ電極及びＸ電極によって複数の交点容量が形成されたタッチセンサパネルの前記Ｙ電極を駆動する駆動回路は立ち上がり及び立ち下がりの途中波形が可変可能に設定された駆動パルス信号をＹ電極に出力する。 - 特許庁

A charged voltage is applied in pulse form or alternate current form from a voltage application unit 15 to the charging sprinkler head 10, and an external electric field produced by application of the voltage between a water side electrode part and an induction electrode part is applied to the extinguisher in an injection process so as to charge the sprayed particles.例文帳に追加

帯電散布ヘッド１０には電圧印加部１５からパルス状または交流的に帯電電圧が印加され、水側電極部と誘導電極部との間に電圧を加えることにより生ずる外部電界を、噴射過程にある消火剤に印加して、噴射粒子を帯電させる。 - 特許庁

The method for manufacturing the resin material coated with high resistivity metallic thin film includes a thin film formation process for forming the high resistivity metallic thin film containing Al and Mg on the surface of the resin base materia by a pulse laser deposition method using a target divided into a metal Al region and a metal Mg region.例文帳に追加

金属Ａｌ領域と金属Ｍｇ領域に分割されたターゲットを用いて、パルスレーザーデポジション法により、樹脂基材表面にＡｌ及びＭｇを含む高抵抗金属薄膜を形成する薄膜形成工程を備えた高抵抗金属薄膜被覆樹脂材料の製造方法。 - 特許庁

When a continuity determination part 40 recognizes that a continuous acquisition obtained from reflected pulse is interrupted, the continuity determination part 40 calculates a transition of axial force via an axial force process 42 before the interception of the continuous acquisition using the measurement points just before the interception, and stores in the axial force memory 44.例文帳に追加

連続性判定部４０は、反射パルスから得られる測定点の連続取得が中断されたと認識した場合、中断直前までの測定点を用いて、連続取得中断前までの軸力の変化を軸力算出部４２を介して算出し、軸力記憶部４４に記憶する。 - 特許庁

In this driving method of the plasma display panel, the number of sustaining pulses per a unit time which are to be impressed on respective discharge cells in a light emission sustenance process is changed and also the pulse width of at least either the sustaining pulses or scanning pulses for writing pixel data is adjusted in accordance with the peripheral illuminance of the plasma display panel.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの周辺の照度に応じて、発光維持行程において放電セル各々に印加すべき単位時間当たりの維持パルスの数を変更すると共に上記維持パルス及び画素データ書込の為の走査パルスの少なくとも一方のパルス幅を調整する。 - 特許庁

The CPU obtains fuel pressure at injection start timing t10 set from the NE pulse signal again and calculates an injection period Tb1 (Tb2) from fuel pressure and demand injection amount to update and process injection end operation timing set by the CPU.例文帳に追加

また、ＣＰＵが、ＮＥパルス信号からセットした噴射開始タイミングｔ１０で燃料圧力を再度取得して当該燃料圧力と要求噴射量とから噴射期間Ｔｂ１（Ｔｂ２）を算出し、ＣＰＵにより設定された噴射終了動作タイミングを更新処理する。 - 特許庁

A computer is programmed to process the calibration data to generate a plurality of basis coefficients and a plurality of time constants and to calculate a plurality of basis correction coefficients based on the plurality of basis coefficients, the plurality of time constants, and gradient waveforms in a given pulse sequence.例文帳に追加

コンピュータは、複数の基底係数および複数の時定数を発生させるためにキャリブレーションデータを処理し、複数の基底係数、複数の時定数、および所与のパルスシーケンスにおける勾配波形に基づいて、複数の基底補正係数を計算するように、プログラムされる。 - 特許庁

In accordance with a demodulation timing pulse, a synchronizing signal and address data indicating the address are respectively demodulated from a reading signal read out from a recording medium, and the error correcting process is applied to the address data to obtain corrected address data, and also the discrimination is made whether these corrected address data are the proper address or not.例文帳に追加

復調タイミングパルスに応じて、記録媒体から読み取られた読取信号から同期信号及びアドレスを示すアドレスデータを夫々復調し、アドレスデータに対して誤り訂正処理を施して訂正アドレスデータを得ると共に、この訂正アドレスデータが正しいアドレスであるか否かを判定する。 - 特許庁

To improve welding quality and welding workability in a weld termination part by controlling droplet formation on a wire tip at the time of weld termination so as to stably make the droplet a proper size in the weld termination control process of consumable electrode type arc welding and consumable electrode type pulse arc welding.例文帳に追加

消耗電極式アーク溶接及び消耗電極式パルスアーク溶接の溶接終了制御方法において、溶接終了時のワイヤ先端の溶滴を安定して適正な大きさに制御し、溶接終了部の溶接品質と溶接作業性を向上すること。 - 特許庁

The optical clock pulses 13 and an optical pulse signal 19 propagated in a 1st path 10 are multiplexed with a multiplexer 22, inputted to a QPM light guide 16, and outputted from the QPM light guide 16 while the SH wave of the signal 19 is grown and the DF wave of the SH wave and optical clock pulses in a growing process are grown.例文帳に追加

この光クロックパルスと合波器22によって第1経路10を伝播してきた光パルス信号19とを合波してQPM光導波路16に入力し、信号19のSH波を成長させつつ、かつ成長途上のこのSH波と光クロックパルスとのDF波を成長させ、QPM光導波路16から出力させる。 - 特許庁

A writing process of applying one writing voltage pulse out of writing voltage pulses, having a plurality of voltages in a first polarity, to a variable resistance element 10 (S101, S102) and a reading process of sequentially providing the variable resistance element 10 in the ascending order of voltage value with reading voltage pulses having a plurality of voltages in a second polarity different from the first polarity (S205 to S209) are executed.例文帳に追加

第１の極性の複数の異なる電圧値の書き込み電圧パルスのうちの一つの書き込み電圧パルスを抵抗変化素子１０に与える（Ｓ１０１、Ｓ１０２）書き込み工程と、第１の極性とは異なる第２の極性の複数の異なる電圧値の読み出し電圧パルスを電圧値が小さい方から順次抵抗変化素子１０に与える（Ｓ２０５〜Ｓ２０９）読み出し工程とを実行する。 - 特許庁

The method of obtaining the porous body includes a process for preparing a target containing an inorganic material and the porous base material and a process for forming the porous film by arranging the target and the porous base material under 1-200 Pa atmospheric pressure, irradiating the target with pulse laser having 5-500 Hz frequency to produce the vapor of the inorganic material, and depositing the vapor on the surface of the porous base material.例文帳に追加

この多孔質体を得る方法は、無機質材料を含むターゲット及び多孔質基材を用意する工程と、１〜２００Ｐａの雰囲気圧下にターゲット及び多孔質基材を配置し、周波数が５〜５００Ｈｚの範囲内にあるパルスレーザを該ターゲットに照射して該無機質材料の蒸気を発生させ、多孔質基材の表面上に該蒸気を堆積させて多孔質膜を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

A sliding member has, on its sliding surface, a thin coating film having a hydrogen content of less than 30 atomic %, the thin film being composed of a diamond-like carbon film or an amorphous carbon film, that are prepared by the plasma source ion injection process, wherein ions are injected by forming a plasma around a base material 3 and applying a negative pulse voltage to the base material.例文帳に追加

基材３の周囲にプラズマを形成し、基材に負のパルス電圧を印加することによってイオン注入を行うプラズマソースイオン注入法により作製したダイヤモンドライクカーボン膜あるいは非晶質カーボン膜であって、水素含有量が３０原子％未満である薄膜を摺動面に被覆した。 - 特許庁

To provide a method for dividing a wafer capable of establishing a process for forming a deterioration layer along a predetermined division line using a pulse laser beam, dividing a wafer into individual chips along the deterioration layer, applying an adhesive film for die bonding to the rear surface of individual chips and picking up the individual chips.例文帳に追加

パルスレーザー光線を用いて分割予定ラインに沿って変質層を均一に形成し、この変質層に沿って個々のチップに分割するとともに、個々のチップの裏面にダイボンディング用の接着フィルムを装着し、個々のチップをピックアップするプロセスを確立することができるウエーハの分割方法を提供する。 - 特許庁

In manufacture of the thermoplastic resin film including the process where a traveling film touches at least one of rolls, intermittent irradiation of a laser beam having a frequency of 1,000-7,000 Hz and a pulse width of 100-280 nanoseconds is conducted on at least one of the rolls touched by the traveling film.例文帳に追加

走行するフィルムが少なくとも１本のロールに接する工程を含む熱可塑性樹脂フィルムの製造において、走行するフィルムが接するロールのうち少なくとも１本のロールに周波数１０００〜７０００Ｈｚ、パルス幅１００〜２８０ナノ秒のレーザー光を間欠照射することを特徴とする。 - 特許庁

A drilling is performed after a reforming process is applied by making the silicone substrate irradiated with the laser beam of which the energy density on the machined surface is 6,500 to 55,000 J/m2 in the region to be machined of the surface of the silicone substrate when the silicone substrate which composes a semiconductor device is drilled by being irradiated with the laser beam of pulse oscillation.例文帳に追加

半導体デバイスを構成するシリコン基板をパルス発振によるレーザー穴あけ加工する際に、レーザーを照射して前記シリコン基板表面の加工想定領域に加工表面におけるエネルギー密度が6,500〜55,000J/m^２であるレーザーを照射して改質処理を施した後、穴あけ加工を行う。 - 特許庁

In an extremely low speed area where it can not be judged with which cylinder respective pulsars generated by the crank shaft sensor are coped, the ignition action is carried out by the crank shaft sensor 4 near the upper dead point in the compression process of respective cylinders simultaneously in the entire cylinder at every time when the standard position detection pulse is generated.例文帳に追加

クランク軸センサが発生する各パルサがいずれの気筒に対応するものであるのかを判別できない極低速領域では、各気筒の圧縮工程における上死点付近でクランク軸センサ４が基準位置検出パルスを発生する毎に全ての気筒で同時に点火動作を行わせる。 - 特許庁

In the method of depositing the diamond-like carbon film on a substrate by the plasma CVD process, a bipolar DC pulse voltage is used as a voltage applied to the substrate, a toluene-containing gas is used as a gas supplied into the chamber and the diamond-like carbon film is deposited by setting the total pressure of gas in the chamber to be 4 Pa to 7 Pa.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法で基材上にダイヤモンドライクカーボン膜を形成する方法であって、基材に印加する電圧をバイポーラＤＣパルス電圧とすると共に、チャンバ内に供給するガスとしてトルエン含有ガスを用い、かつ、チャンバ内のガスの全圧を４Ｐａ以上７Ｐａ以下にしてダイヤモンドライクカーボン膜を形成する。 - 特許庁

In the laser beam machining process, a plurality of times of the shots are performed while shifting the irradiation position in such a manner that a first irradiation region F1 which is irradiated with the pulse laser and a second irradiation region F2 which is irradiated succeeding to the first irradiation region F1 in the machined surface of the work substrate are overlapped with each other.例文帳に追加

該レーザ加工工程においては、任意の孔形成に関し、ワーク基板の加工面におけるパルスレーザの照射される第一照射領域Ｆ１と、該第一照射領域Ｆ１の次に照射される第二照射領域Ｆ２とが互いに重なり合うように照射位置をずらしながら複数回のショットを行う。 - 特許庁

To obtain a rotation sensor, capable of generating a proper signal such as a pulse related to the rotation of a rotor and obtaining reliable rotation information, even if initializing process is performed, based on the variations in the output signal of a detecting element, caused by factor which is other than rotation.例文帳に追加

回転以外の要因に起因する検出素子の出力信号に変動に基づいて初期化処理が行われた場合であっても、回転体の回転に関連するパルスのような適切な信号を生成することができ、信頼性の高い回転情報を得ることができる回転検出センサを得る。 - 特許庁

This MRI apparatus executes pulse sequences including a saturation recovery sequence impressing a high frequency magnetic field to a test subject to excite a nuclear magnetization; and an image acquisition sequence impressing the high frequency magnetic field and a gradient magnetic field to the test subject in a predetermined process and allowing a predetermined slice to emit MR signals for use in an image formation.例文帳に追加

検査対象に高周波磁場を印加して核磁化を励起する飽和回復シーケンスと、前記検査対象に所定の手順で前記高周波磁場と傾斜磁場とを印加して画像作成に使用するMR信号を所定のスライスから発生させる画像取得シーケンスとを含むパルスシーケンスを行う。 - 特許庁

In the high-pressure and low-pressure transfer process of an operation gas, the middle-pressure opening/closing valve 51 is closed and at the same time the orifice opening/closing valve 52 is opened for connecting the pulse tube 4 to the middle-pressure gas reservoir 5, thus preventing the displacement of the operation gas from increasing excessively due to the resistance of the orifice 53.例文帳に追加

作動ガスの高圧及び低圧移送過程（過程ｃ及び過程ｆ）において中圧開閉弁５１を閉とするとともにオリフィス開閉弁５２を開としてパルスチューブ４と中圧ガス溜め５とを連通することで、オリフィス５３の抵抗により作動ガスの変位が大きくなり過ぎるのを防止する。 - 特許庁

The production process comprises arranging a handicraft made of pottery or porcelain in a chamber filled with hydrocarbon plasma and baking diamond-like carbon of 0.05-5 μm thickness on a part or the whole of the surface of the handicraft 2 by applying a high pulse voltage of 10 Hz to 10 kHz frequency.例文帳に追加

その製造は、陶磁器製工芸品を炭化水素プラズマで満たされたチャンバー内に配置し、その陶磁器工芸品の表面に１．０〜５ｋＶ、周波数１０Ｈｚ〜１０ｋＨｚの高圧のパルス電圧を印加することにより、陶磁器工芸品の表面の一部又は全部に厚みが０．０５〜５μmのダイアモンドライクカーボン層を焼き付ける。 - 特許庁

To provide a table top ELID(electrolytic in-process dressing) processing device capable of high precision machining of hard brittle materials or carbide metals, miniaturizing both necessary driving power and a pulse power supply, and thereby being operated by small electric power using low voltage (100 V) and being miniaturized to an extent that it can be placed on a desk.例文帳に追加

硬質脆性材料や超硬金属の高精度加工ができ、駆動用の必要動力とパルス電源の両方を小型にでき、これにより低電圧（１００Ｖ）を用いた小電力で稼働でき、かつ机上に載るような小型化が可能である卓上ＥＬＩＤ加工装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a radar system capable of acquiring accurate range information of a target in a target tracking process by a radar using a transmitting wave of a pulse repetition frequency, without mistaking any unexpected received wave from an outside space for a received wave from the target, thereby stably tracking the target.例文帳に追加

パルス繰り返し周波数の送信波を用いたレーダの目標追尾処理において、外部空間から期待しない受信波があった場合においても、その受信波を目標からの受信波であると誤認識することなく目標の正確なレンジ情報を得ることで、安定した目標追尾を行うレーダ装置を得る。 - 特許庁