「source development」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

A free, open-source Integrated Development Environment for software developers.You get all the tools you need to create professional desktop, enterprise, web,and mobile applications with the Java language, C/C++, and even dynamic languages such as PHP, JavaScript, Groovy, and Ruby.例文帳に追加

NetBeans IDE は、ソフトウェア開発者向けの、無償提供、オープンソースの統合開発環境です。 Java、C/C++、Ruby などを使用した本格的なデスクトップ、エンタープライズ、Web、およびモバイルアプリケーションの作成に必要なツールがすべて揃っています。 - NetBeans

However, if you are dedicated to modeling, and keep aware of what your target output is, you will easily advance in your implementation when you generate the source code, and hence obtain the benefits model driven development. 例文帳に追加

しかし、もしユーザーがモデリングに打ち込み、ターゲット出力が何であるかを理解し続ければ、ソースコード生成時の実装を簡単に進めることができ、モデル駆動型開発の恩恵を得ることができるでしょう。 - NetBeans

To provide a positive photoresist composition which does not cause development defects when far UV, particularly KrF excimer laser light is used as a light source for exposure and has superior stability in a semiconductor producing process.例文帳に追加

露光光源として遠紫外線、特にＫｒＦエキシマレーザー光を用いた場合、現像欠陥の問題を生じず、しかも半導体製造プロセス上、安定性の優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition excellent in residual film ratio and resist profile and not causing the problem of development defects even when deep UV, particularly ArF excimer laser light is used as a light source for exposure.例文帳に追加

露光光源として、深紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光を用いた場合、残膜率、レジストプロファイルが優れるとともに、現像欠陥の問題を生じないポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

ii) As for Site 2, Site 3 and the Reservoir, since the sites are located in the vicinity of the Pathein City, the possibility of residential and industrial development in the surrounding areas and the possibility of future pollution source should be carefully considered.例文帳に追加

ii) 取水源２、取水源３とロイヤル湖に関しては、パテイン市に近接しているため、周辺地域の宅地開発や工業開発の可能性や将来の水源汚染の可能性について留意すべきである。 - 厚生労働省

To reduce the development man-hours, and to provide stable LSIs by avoiding, in advance, the faults in the inspection of functional block units by malfunctions caused by power source drop and performing inspection of the functional block units in batch.例文帳に追加

電源ドロップに起因する誤動作で機能ブロック単体検査不具合を事前に回避し、機能ブロック単体検査を一括実施することで開発工数の削減し、安定したＬＳＩの提供を実現する。 - 特許庁

To provide an excellent photosensitive resin composition having sufficient transmittance when a source of light having ≤160 nm wavelength, specifically F_2 excimer laser light (157 nm) is used and ensuring small line edge roughness and small dependence on development time.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像時間依存性が小さく優れた感光性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

An increasing demand for processing an ever- enlarging wafer or LCD substrate and for imparting a higher level plasma uniformity challenges design of a latest ICP type antenna and promotes the development of a generation source.例文帳に追加

益々大きくなるウェハあるいはＬＣＤ基板を処理し、益々高度のプラズマ均一性を与えることに対する増大する要求は、最近のＩＣＰ形アンテナ設計に挑み、発生源の開発を推し進める。 - 特許庁

From a long-term point of view, it is also needed to promote the development of technologies that will be necessary to utilize petroleum and natural gas, which occur in the waters around Japan, as well as methane hydrate that is expected to become a promising energy source in the future.例文帳に追加

長期的な観点から、我が国周辺海域に賦存する石油・天然ガスや、将来のエネルギー源として期待されるメタンハイドレートなどの活用に向け、必要な技術開発の推進も重要。 - 経済産業省

According to the graphs, the most desired funding source for both SMEs that carry out research and development, and those that do not in every developmental phase was financial institutions.例文帳に追加

これらの図によれば、研究開発に取り組む中小企業も、研究開発に取り組んでいない中小企業も、全ての成長ステージにおいて、金融機関からの資金調達を希望しているところが最も多い。 - 経済産業省

To provide a positive resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤160 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm) and to concretely provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when a light source of 157 nm is used and ensuring small line edge roughness, few development defects and little scum.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及びスカムが少ないポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable when an exposure light source at ≤160 nm, in particular, F_2 excimer laser light (157 nm) is used, and specifically to provide a positive resist composition having sufficient transmitting property when a light source at 157 nm is used, and having improved surface roughness, development defect, scum and resolution.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ表面ラフネス、現像欠陥、スカム、解像力が改善されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤160 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm) and to concretely provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when a light source of 157 nm is used and ensuring reduced line edge roughness and development defects.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥が著しく軽減されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition that is suitable for the use of an exposure light source of ≤160nm especially of a F_2 excimer laser beam (157nm), specifically a positive type resist composition that indicates sufficient transparency when a light source of 157nm is used and has little light edge roughness, development defect and scum.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及びスカムが少ないポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is suitably used for a light source for exposure of ≤160 nm, particularly, an F_2 excimer laser beam (157 nm), and specifically to provide a positive resist composition which exhibits sufficient transmissibility when used for the light source of 157 nm and has little line edge roughness, development defect and scum.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及びスカムが少ないポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤300 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to specifically provide a positive resist composition which exhibits satisfactory transmittance when the light source of 157 nm is used and ensures little line edge roughness, few development defects, and little scum.例文帳に追加

３００ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及びスカムが少ないポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Thus, the heat source for heating the material 34 in order to perform the heat development in the developing part 30 and for preheating the material 34 in the fixation part 32 are shared whereby constitution concerning the heat source is simplified, the number of parts is reduced and a device main body is miniaturized.例文帳に追加

これにより、現像処理部３０で熱現像処理を行うため記録材料３４を加熱する熱源と、定着処理部３２で記録材料３４を予熱するための熱源とを共用することにより、この熱源に関する構成を簡素化して、部品点数を少なくし、装置本体の小型化を可能とする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤160 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to specifically provide a positive resist composition which exhibits satisfactory transmittance when a light source of 157 nm is used, ensures good pattern profile and line edge roughness, and produces little residue on development (scum).例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、パターンプロファイルとラインエッジラフネスの特性が良好で、現像残渣（スカム）の少ないポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

When any source code 12 is selected, a program development apparatus 10 assigns an ID to each character string in the source code 12, and records it in a component management table 18 and, if an internal identifier is declared or defined by another character string, in association with the ID of the declaring or defining character string.例文帳に追加

プログラム開発用装置１０は、何れかのソースコード１２が指定されると、そのソースコード１２の各文字列にＩＤを割り当てるとともに、その内部の識別子が他の文字列によって宣言又は定義されている場合に、その宣言又は定義している文字列のＩＤを対応付けて、構成要素管理テーブル１８に記録する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is suitable for application to an exposure source of ≤160nm, in particular, F_2 excimer laser beam (157nm) and, specifically, which exhibits sufficient transmissivity and hardly causes line edge roughness, defective development and scum, when the light source of 157nm is used.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及びスカムが少ないポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a simulcast distribution apparatus capable of carrying out real-time broadcast communication to a partner, desired by a distribution request source with a timing desired by the distribution request source, and improving user's convenience, without reducing the development efficiency of business application, in linking with the business application.例文帳に追加

配信要求元の意図する相手に配信要求元の意図するタイミングでリアルタイムに同報通信を行なうことができるとともに、業務アプリケーションとの連携において、業務アプリケーションの開発効率を低下させることなくユーザの利便性を向上させることができる、同報配信装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition showing sufficient transmitting property when a light source at ≤160 nm wavelength, specifically, F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used, having excellent coating property on a substrate and high sensitivity, and suppressing development defects.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の光源使用時に十分な透過性を示し、基板塗布性に優れ、高感度であり、且つ現像欠陥性が抑制されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The developing device gives a regulation bias voltage Vrb with a regulation bias power source 141 so as to be negative potential rather than a development roller 44 on a regulation blade 46, including a metal plate-like member 461 and an elastic member 462 made of conductive rubber.例文帳に追加

金属製の板状部材４６１と導電性ゴム製の弾性部材４６２とよりなる規制ブレード４６に、現像ローラー４４よりも負電位となるような規制バイアス電圧Ｖrbを規制バイアス用電源１４１により付与する。 - 特許庁

For conducting a development test, etc. on an electric vehicle which employs a motor as a power source, a test measuring system for the electric vehicle 1 reproduces a driving state of the electric vehicle to be tested by using a reproduction object testing device 10.例文帳に追加

モータを動力源とする電動車両の開発試験等を行うために試験対象電動車両の走行状態を再現対象試験装置１０において再現する電動車両用試験測定システム１である。 - 特許庁

To provide a reference light source device which can shorten the time necessary for calibration and can be used for development of a display device, such as, transmittance of illuminating light of a display part or the printing density of a display section.例文帳に追加

較正に必要とされる時間を短縮することが出来ると共に、表示部分の照明光の透過度や表示部分の印刷濃度等、表示装置の開発に用いることが出来る基準光源装置を提供する。 - 特許庁

Using of the pattern can reduce an exposure step or a development step in a process for forming a conductive pattern (a gate wiring or a source wiring) and reduce the amount of used materials, and remarkable cost reduction can be achieved.例文帳に追加

前記パターンを用いることより、導体パターン（ゲート配線、またはソース配線など）を形成するプロセスにおいて、露光工程や現像工程などが短縮でき、材料の使用量の削減も図れるため大幅なコストダウンが実現できる。 - 特許庁

When a user B makes a request for purchase, the software development source converts the data γof the data 5 into characteristic data δ of a computer 2 and supplies the data 5' after the conversion to the user B, and then collects the charge from the user B.例文帳に追加

ソフト開発元ではユーザＢから購入要請があった場合に、データ５の固有データγをコンピュータ２の固有データδに変換して、変換後のデータ５’をユーザＢに供給し、ユーザＢから手数料を徴収する。 - 特許庁

Such a restriction bias voltage Vrb that a negative potential is set more than a development roller 44 is applied to a restriction blade 46 composed of a metallic tabular member 461 and an elastic member 462 made of conductive rubber by a restriction bias power source 141.例文帳に追加

金属製の板状部材４６１と導電性ゴムによる弾性部材４６２とよりなる規制ブレード４６に、現像ローラー４４よりも負電位となるような規制バイアス電圧Ｖrbを規制バイアス用電源１４１により付与する。 - 特許庁

To provide an EMI design verification method for a circuit board, designing the board hardly causing resonance between a power source layer and ground layer to reduce a development period and to reduce cost by thereafter executed EMI measures.例文帳に追加

電源層とグラウンド層間の共振が発生しにくい基板を設計し、その後に実施されるＥＭＩ対策によるコストの削減と開発期間の短縮とを実現する回路基板のＥＭＩ設計検証方法を得ること。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition which does not cause the problem of development defects and has excellent line edge roughness, resist shape, sensitivity and resolving power when deep UV, particularly ArF excimer laser light, is used as the light source for exposure.例文帳に追加

露光光源として、深紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光を用いた場合、ラインエッジラフネス、レジスト形状、感度、解像力が優れるとともに、現像欠陥の問題を生じないポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

A sound source is provided to generate a sound wave having a phase opposite that of a developing sound during airbag development, and a partition 2 for partitioning the passenger room and the trunk room of an automobile is provided with a partition opening plate 9 to be selectively opened/ closed.例文帳に追加

エアバッグ展開時の展開音と逆位相の音波を発生する音源が設けられ、自動車の客室とトランクルームとの間を仕切る仕切り２には選択的に開閉する仕切り開口板９が設けられている。 - 特許庁

To reduce an automatic variable area from information about static relation wherein a function inside a source file calls a function inside another file, or from the whole function dependency relation information when executing a program, in a program development support system.例文帳に追加

プログラム開発支援システムにおいてソースファイル内関数が他ファイル内関数を呼び出す静的関係の情報から、若しくはプログラム実行時の全体の関数依存関係情報から、自動変数領域を低減化する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition suitable when an exposure light source at ≤160 nm, in particular, F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used, and specifically, to provide a positive photosensitive composition having little development defect.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には現像欠陥の少ないポジ型感光性組成物を提供することにある。 - 特許庁

Therefore, when developing an application program, an application program development source is capable of providing an epoch-making novel resident type application program without being restricted by a predetermined common specification regarding temporary stop operation.例文帳に追加

よって、アプリケーションプログラムの開発元は、アプリケーションプログラムを開発するに際し、予め決められた一時停止動作に関する共通の仕様に制限されずに、今までにない新規な常駐型アプリケーションプログラムを提供することが可能となる。 - 特許庁

By the inflation and development of the inflator bag 29, the seat cushion body is lifted, the buckle pretensioner 24 pulls the buckle 37 with the inflator bag 29 as a power source, and the tightening force of the lap belt 32b is increased.例文帳に追加

このように、インフレータバッグ２９の膨張展開によって、シートクッション本体が持ち上げられるとともに、インフレータバッグ２９を動力源として、バックルプリテンショナ２４がバックル３７を引っ張り、ラップベルト３２ｂの締付力を増加させる。 - 特許庁

The composition contains: (A) an alkali-soluble polymer substance having at least one carboxyl group in the molecule; (B) a photo-thermal conversion substance which absorbs IR rays of a development exposure light source into heat; and (C) a thiol compound.例文帳に追加

（Ａ）分子中に少なくとも１つのカルボキシル基を有するアルカリ可溶性高分子物質、（Ｂ）現像露光光源の赤外線を吸収して熱に変換する光熱変換物質、及び（Ｃ）チオール化合物、を含有するようにした。 - 特許庁

In addition to overseas development of the culture industry itself, a strategic measure using Japan's charm as a source of competitiveness shall be sought, for example, a promotion of Japan's life style as a whole aiming for maximize synergy of culture and other industry.例文帳に追加

文化産業そのものの海外展開に加え、文化と他産業のシナジー最大化を目指した我が国ライフスタイル全体のプロモーションなど、日本の「魅力」を競争力の源泉とする戦略的な対応が求められる。 - 経済産業省

Type of utilization of nuclear energy determines the ministry in charge: METI is in charge of utilization of nuclear power as an energy source and MEXT is in charge of utilization of nuclear energy regarding research and development.例文帳に追加

我が国では、エネルギー源としての原子力利用については、経済産業省、研究開発に係る原子力利用については文部科学省など、原子力技術の利用形態に応じて、関係する省が所管している。 - 経済産業省

Firstly, in all three developmental phases, more than 80% of SMEs that carry out research and development as well as those that do not source their funds from financial institutions primarily in the form of loans.例文帳に追加

第一に、全ての成長ステージにおいて、研究開発に取り組む中小企業も、研究開発に取り組んでいない中小企業も、8割以上の中小企業が金融機関から資金調達（主に借入金）を行っている。 - 経済産業省

Recognizing agglomerations as the source of Japan’s economic dynamism and the possibility of also achieving regional economic development through the stimulation of agglomerations, the Kanto Bureau became increasingly interested in the wider Tama region (TAMA16).例文帳に追加

その中で、関東通産局は集積が我が国経済の活力の源泉であり、地域経済の発展も集積の活性化によって実現が可能であるとの認識に達し、広域多摩と呼ばれる地域（ＴＡＭＡ16）への関心を深めた。 - 経済産業省

To provide a chemically amplified resist composition suitable for use of an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to more specifically provide a chemically amplified resist composition excellent in sensitivity and dissolution contrast when using a light source of 157 nm and improved in development defects and density distribution dependency, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

２５０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適な化学増幅型レジスト組成物、より具体的には１５７ｎｍの光源使用時の感度、溶解コントラストに優れており、尚且つ、現像欠陥、疎密依存性が改良された化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The photoresist composition is effectively used for lithography using a light source of a far- ultraviolet range especially an ArF (193 nm) or VUV (157 nm) light source, because of being not only excellent in etching-resistance, thermostability and an adhesive property and capable of development with tetramethyl ammonium hydroxide(TMAH) in aqueous solution but also low in absorbance at 193 nm and 157 nm.例文帳に追加

該フォトレジスト組成物はエッチング耐性、耐熱性、及び接着性が優れ、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液に現像可能であるだけでなく193nm、及び157nm波長での光吸収度が低いので遠紫外線領域、特にＡｒＦ（193nm）及びＶＵＶ（157nm）光源を利用したリソグラフィー工程に非常に有効に用いることができる。 - 特許庁

The image forming apparatus having the high voltage power source device for supplying high voltages to an electrification means, a development means, a transcription means, and a separation means which are loads for forming image, is characterized in having a detection means for confirming the connection of each load to at least one or more outputs of the high voltage power source device.例文帳に追加

画像形成のための負荷である帯電手段、現像手段、転写手段、分離手段に高電圧を供給する高電圧電源装置を有する画像形成装置において、当該高電圧電源装置の少なくとも１つ以上の出力に対して、各負荷との接続を確認する検知手段を有することを特徴とする画像形成装置。 - 特許庁

Heat development is performed by heating recording material 34 on which a latent image is formed with heat from a hat source in a developing part 30, and fixation is performed by irradiating the material 34 with a light beam for fixation in a state where the material 34 is preheated by utilizing the heat source in the developing part 30 in a fixation part 32.例文帳に追加

現像処理部３０で、潜像が形成された記録材料３４を熱源の熱で加熱して熱現像処理を行い、定着処理部３２で、この現像処理部３０の熱源を利用して現像処理済みの記録材料３４を予熱した状態で、記録材料３４に定着処理用の光線を照射して定着処理を行う。 - 特許庁

To provide an original plate for a planographic printing plate, which enables printing to be done by performing on-machine development after image recording using a light source emitting light within the range of a 250-420 nm wavelength and which is excellent in sensitivity and white light safety, and a planographic printing method.例文帳に追加

波長２５０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲内の光を放射する光源を用いた画像記録後、機上現像して印刷が可能であり、感度および白灯安全性に優れた平版印刷版原版、および、平版印刷方法を提供する。 - 特許庁