「source process」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

This method comprises a process of forming a first silicon layer, a process of imparting a second silicon layer superposed on the first silicon layer, a process of oxidizing the second silicon layer at a temperature of <400°C, by using an inductively coupled plasma source, and a process of forming an oxide layer superposed on the first silicon layer.例文帳に追加

本発明の方法は、第１のシリコン層を形成する工程と、第１のシリコン層の上に重なる第２のシリコン層を付与する工程と、誘導結合プラズマソースを用いて、４００℃未満の温度で、第２のシリコン層を酸化する工程と、第１のシリコン層の上に重なる酸化物層を形成する工程とを含む。 - 特許庁

This method for manufacturing a printer head comprises the process of deforming a lens array 5 so as to focus emission light from the light source array 4 to a prescribed position on a photosensitive drum 3, and the process of fixing a relative position between the lens array 5 and the light source array 4 in the condition that the lens array 5 is deformed.例文帳に追加

光源アレイ４からの出射光を感光体ドラム３の所定位置に結像させるべくレンズアレイ５を変形させる工程と、レンズアレイ５を変形させた状態で、レンズアレイ５と光源アレイ４との相対位置を固定する工程とを有するようにした。 - 特許庁

This method includes a process of adhering a film 11, containing ≥70 wt.% zinc oxide and silicon oxide onto compound semiconductor layers 2 to 8 from a diffusion source, and a process of diffusing zinc in the compound semiconductor layers 2 to 8 by heating from the diffusion source.例文帳に追加

酸化亜鉛を７０重量％以上含有する酸化亜鉛と酸化シリコンを含有する膜１１を拡散源を化合物半導体層２〜８上に被着する工程と、加熱により前記拡散源より前記化合物半導体層２〜８内に亜鉛を拡散する工程とを含む。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which is highly adaptable in function process terms for performing shutdown of a commercial power source according to a state of an apparatus, without any inconvenience for an inside device and with high safety without carrying out an unneeded process when the commercial power source is turned off based on a detection result by an illuminance sensor.例文帳に追加

照度センサの検知結果に基づいて商用電源を切る場合に無駄な処理を行わず、装置状態に応じて内部デバイスに対して支障なく安全性高く商用電源遮断を実行できる機能処理面での対応性に富んだ画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a voltage controlled current source capable of reducing transport conductance variations with respect to temperature variations and process variations, and a variable gain amplifier capable of obtaining a stable gain property, even in temperature variations and process variations, using the voltage controlled current source.例文帳に追加

温度変動およびプロセス変動に対する伝達コンダクタンスの変動を低減し得る電圧制御電流源と、前記電圧制御電流源を用いて温度変動およびプロセス変動に対しても安定した利得特性が得られる可変利得増幅器を提供する。 - 特許庁

In these treatments, LDD width WD11, WD13 are each set separately, by setting a source region/drain region implantation process of the Tr 33 after the formation of the first sidewall, and a source region/drain region implantation process of the Tr 35 after the formation of the second sidewall, respectively.例文帳に追加

これらの処理において、第１のサイドウォール形成後にＴｒ３３のソース領域／ドレイン領域インプラ工程を、第２のサイドウォール形成後にＴｒ３５のソース領域／ドレイン領域インプラ工程を、それぞれ打ち込むことにより、各ＬＤＤ幅ＷＤ１１，ＷＤ１３を別個に設定する。 - 特許庁

The method for producing the chlorella having high chlorophyl and carotinoid contents by a synchronous culture method comprises (1) a process for heterotrophically culturing chlorella in a culture medium containing an organic carbon source and (2) a process for culturing the heterotrophically cultured chlorella in a culture medium not containing an organic carbon source.例文帳に追加

（１）有機炭素源を含有する培地で、クロレラを従属栄養的に培養する工程、及び（２）該従属栄養的に培養したクロレラを、有機炭素源を含有しない培地で培養する工程、を含む同調培養方法による、高クロロフィル及び高カロテノイド含有性のクロレラの製造方法。 - 特許庁

The process forming the source-contact electrode 16 includes the processes of: forming a conductor layer to be used as the source-contact electrode 16 on the main surface of the n^-SiC layer 12; and thermally treating the conductor layer as the source-contact electrode 16.例文帳に追加

ソースコンタクト電極１６を形成する工程は、ソースコンタクト電極１６となるべき導電体層をｎ^−ＳｉＣ層１２の主表面上に形成する工程と、導電体層をソースコンタクト電極１６とするため熱処理する工程とを含む。 - 特許庁

Moreover, a light source control part 140 makes the first light source 121 whose power is small in two light sources to be in a lighting state throughout respective processes and the second light source 122 whose power is large to be in a lighting state only in the second alignment process.例文帳に追加

光源制御部１４０は、２つの光源のうち、パワーの小さな第１の光源１２１については各工程を通じて点灯状態とし、パワーの大きな第２の光源１２２については第２の位置合わせ工程においてのみ点灯状態とする。 - 特許庁

As the Li source, the Fe source, and the P source, the raw material is used in which remaining elements is C when elements which become gas or steam under a temperature of the reaction process are further taken out from residual elements when Li, Fe and PO_4 are taken out from constituting elements of the raw material.例文帳に追加

Ｌｉ源、Ｆｅ源及びＰ源としては、構成元素からＬｉ、Ｆｅ、及びＰＯ_4を差し引いた残りの元素から、反応工程の温度下においてガス又は蒸気となる元素をさらに差し引いた残りの元素がＣとなるような原料を用いる。 - 特許庁

The magnitude of the voltage applied between the drain and the source of the field effect transistor in the process read out data is set in a range, in which the current between the drain and the source of the field effect transistor is increased, accompanying the increase of voltage between a drain and a source.例文帳に追加

データを読み出す工程において電界効果型トランジスタのドレイン・ソース間に印加する電圧の大きさは、電界効果型トランジスタのドレイン・ソース間の電流がドレイン・ソース間の電圧の増加に伴って増加するような範囲内に設定する。 - 特許庁

To provide a method of disposing a thermoelectric generation module, and converting thermal energy to electric energy and collecting it by utilizing a temperature difference between a heat source temperature in a process and an atmospheric temperature around the process in collecting sensible heat and waste heat generated in the manufacturing process.例文帳に追加

製造プロセスにおいて発生する顕熱や廃熱の回収するに際し、熱電発電モジュールを設置して、プロセス内の熱源温度とプロセス周辺の雰囲気温度との温度差を利用し、熱エネルギーを電気エネルギーに変換して回収する方法を提供する。 - 特許庁

An order receiving process part 122 performs a process for receiving the on-line input of order information regarding a specific transaction from an ordering source and a process for obtaining payment certificate information showing that money has been paid for the order.例文帳に追加

注文受付処理部１２２により、注文元からの、特定の取引に関する注文情報のオンライン入力を受け付ける処理と、当該注文について代金の支払いを証明するための支払証明情報を取得する処理とを行う。 - 特許庁

To property set the starting time of the warming-up process at the time of remote-starting of a warming-up process in a warming-up device 50 comprising constituent elements 51-54 for carrying out a warming-up process without the need of starting a power source 1 loaded on a vehicle.例文帳に追加

車両に搭載される動力源１を始動することなく暖機する処理を実行するための構成要素５１〜５４を有する暖機装置５０において、暖機処理を遠隔始動させる際に、暖機処理の始動時期を適切に設定可能とする。 - 特許庁

A log output instruction generation and insertion part 20 inserts a log output instruction, for recording the execution process of the relative places into the source codes.例文帳に追加

ログ出力命令生成・挿入部２０が、関係箇所について実行過程を記録するためのログ出力命令をソースコードに挿入する。 - 特許庁

To supply appropriate internal power source voltage so that performance of a semiconductor memory can be brought out to the utmost limit even when process variation is caused.例文帳に追加

プロセス変動が発生した場合でも、半導体装置の性能を最大限に引き出せるように、適切な内部電源電圧を供給する。 - 特許庁

Thus, the power source shutting off process is prevented from being performed when the game machine is under the unstable state, and commands can be surely received.例文帳に追加

よって、遊技機が不安定な状態で電源断処理が実行されることを防止することができ、コマンドを確実に受信できるようになる。 - 特許庁

A process gas supplied from a supply source 2 is ionized into plasma in a plasma discharging space 1a and blown upon the semiconductor substrate 90 coated with the tungsten film to be etched.例文帳に追加

供給源２のプロセスガスをプラズマ放電空間１ａにてプラズマ化し、エッチングすべきタングステンが被膜された基材９０に吹付ける。 - 特許庁

To activate a thread or a process without correcting a source in a processing system comprising embedded software which cannot invoke any processes.例文帳に追加

プロセス起動ができない組み込みソフトウェアよりなる処理システムにおいて、ソースを修正することなくスレッド起動或いはプロセス起動を可能にする。 - 特許庁

To provide a squelch detector which is strong in a fluctuation of a temperature, a process and a power source voltage, and can output a stable squelch detection signal.例文帳に追加

温度、プロセス、電源電圧の変動に強く、安定したスケルチ検出信号を出力することができるスケルチ検出回路を提供する。 - 特許庁

In a voice CODEC processing process 32, voice data whose transmission source is identified are extended in accordance with a voice compression scheme of each of transmission sources.例文帳に追加

音声コーデック処理プロセス３２は、送信元が識別された音声データを各送信元の音声圧縮方式に応じて伸長処理する。 - 特許庁

It is determined in a step 1 whether a power source of a navigation system is ON, and a move process determination processing is performed in a step 2.例文帳に追加

ステップＳ１において、ナビゲーション装置の電源がONであるか否かが判断され、ステップＳ２において、移動方法判断処理が実行される。 - 特許庁

To reduce to the utmost a space occupied by control equipment and wiring, because a large number of accessories such as a process electric power source device are required in a semiconductor manufacturing device.例文帳に追加

半導体製造装置はプロセス電源装置などの補機類が多く、制御機器や配線が占有するスペースを極力低減させたい。 - 特許庁

To provide a full silicide field effect transistor capable of being manufactured through silicide process of one time and provided with small source and drain resistance.例文帳に追加

一度のシリサイド化工程により製造でき、かつ小さなソース及びドレイン抵抗を有するフルシリサイド型電界効果トランジスタを提供する。 - 特許庁

The process gas of the supply source 2 of a normal pressure plasma etching apparatus M is converted to the plasma gas within a plasma discharge space 1a, and this plasma is blown to a processing object W.例文帳に追加

常圧プラズマエッチング装置Ｍの供給源２のプロセスガスをプラズマ放電空間１ａにてプラズマ化し、被処理物Ｗに吹付ける。 - 特許庁

To form a semiconductor island and a source drain electrode just by a single exposure process, and control an optical leakage current that leads to image degradation.例文帳に追加

半導体アイランドとソース・ドレイン電極を１回の露光工程で形成し、かつ画質の劣化につながる光リーク電流を抑制する。 - 特許庁

For example, if you want to see both the source and the design view of a BPEL process at the same time (or the Design and Mapper view) follow the instructions below.例文帳に追加

たとえば、BPEL プロセスのソースビューとデザインビュー (またはデザインビューとマッパービュー) の両方を同時に表示する場合、次の手順に従います。 - NetBeans

To produce molten steel by effectively utilizing Mn-containing dust generated in a production process of ferro-manganese as Mn source in an alloy component for steel.例文帳に追加

フェロマンガンの製造工程で発生するＭｎ含有ダストを、鋼の合金成分のＭｎ源として有効利用して溶鋼を製造する。 - 特許庁

The initial value of the potential difference VGS between a gate and a source of a switching transistor upon a verify process is varied in accordance with the resistance value level of the multi-value information.例文帳に追加

スイッチングトランジスタのゲート・ソース間の電位差ＶＧＳのベリファイ時の初期値を、多値情報の抵抗値レベルに応じて異なる値とする。 - 特許庁

Further, the method includes a process of removing the side wall film and forming a base region and a source region in the semiconductor layer using the mask layer as a mask.例文帳に追加

また、サイドウォール膜を除去し、マスク層をマスクにして半導体層にベース領域及びソース領域を形成する工程を有する。 - 特許庁

In a process of correcting the beam intensity, first, laser intensities at a non-lighting state and a lighting state of a laser light source are measured by an optical sensor (S104).例文帳に追加

ビーム強度補正処理において、先ずレーザ光源が非点灯状態と点灯状態のレーザ強度を光センサで測定する（Ｓ１０４）。 - 特許庁

Therefore, a prize ball control command receiving process is surely completed even if the power source is cut off during reception of the prize ball controlling command from the main base board.例文帳に追加

よって、主基板からの賞球制御コマンド受信中に電源断しても、賞球制御コマンド受信処理が確実に完了する。 - 特許庁

As a determination result, if it is determined that the access right is present, the access right is transferred to the operating system as the operation request and a result is returned to a request source process.例文帳に追加

判定の結果、アクセス権限があれば当該操作要求通りにオペレーティングシステムに渡し、その結果を要求元プロセスに返す。 - 特許庁

At the start of using the process cartridge 1, a photoreceptor drum 10 and the developing roller 12 are rotated, simultaneously, a high voltage is applied by a high voltage power source.例文帳に追加

プロセスカートリッジ１の始用開始に当って、感光ドラム１０、現像ローラ１２を回転して同時に高圧電源から高電圧を加える。 - 特許庁

An approximate function for expressing the lag time of the representative cell as a function of the electric power source voltage is prepared in an approximate function preparing process F1.例文帳に追加

近似関数作成工程Ｆ１では、代表セルの遅延時間を電源電圧の関数として表現した近似関数を作成する。 - 特許庁

An execution reproducing part 116 processes reproduction based on the execution records after the end of the transfer, and acquires synchronization in process between a transfer source and a transfer destination.例文帳に追加

実行再生部１１６は転送終了後に実行記録をもとに再生処理を行って転送元と転送先プロセスの同期をとる。 - 特許庁

When the source material (14, 24) is eroded during the process of physical vapor deposition, the target (10, 20) can be repaired by applying coating again.例文帳に追加

物理的蒸着工程の間ソース材料（１４、２４）が侵食すると再度コーティングを付与することによってターゲット（１０、２０）を改修する。 - 特許庁

A dynamic call profile processing calling process insertion part 19 generates a profile processing-containing source program including dynamic call profile processing.例文帳に追加

動的呼出しプロファイル処理呼出し処理挿入部１９は、動的呼出しプロファイル処理を含むプロファイル処理入りソースプログラムを生成する。 - 特許庁

The address learning process checks a source MAC address in the individual received frames to learn the shortest path route as to the individual MAC addresses.例文帳に追加

アドレス学習プロセスは、それぞれの受信されたフレームにおいてソースMACアドレスを検査し、それぞれのMACアドレスについて最短経路ルートを学習する。 - 特許庁

A back surface exposure process is executed and a photoresist layer 212 is patterned on this passivation layer with the use of the gate and the source/drain terminal as a mask.例文帳に追加

裏面露光プロセスを実行して、このパシベーション層上に、前記ゲート、ソース／ドレイン端子をマスクとして用いて、フォトレジスト層２１２をパターン化する。 - 特許庁

This process is executed by a gateway, and formed by a source device, and includes the reception of a request transmitted via a first data link.例文帳に追加

このプロセスはゲートウェイによって実行され、ソースデバイスによって生成され、かつ第１のデータリンクで伝送される要求を受信することを含む。 - 特許庁

To reduce contaminated source which exists in a mini-environment pod through a process of manufacturing a microelectronic component or a microelectronic machine system.例文帳に追加

微小電子コンポーネントまたは微小電気機械システムを製造する過程を通じて、ミニエンバイロンメントポッドに存在する汚染源を減少させる。 - 特許庁

The voltage impressing region 17 is formed in the same process as a source region 25a and a drain 27a of the PMOS transistor 20.例文帳に追加

電圧印加領域１７はＰＭＯＳトランジスタ２０のソース領域２５ａおよびドレイン領域２７ａと同一工程により形成される。 - 特許庁

The conductance of the passage extending from the gas source via the process chamber is matched with the conductance of the passage extending via the exhaust line.例文帳に追加

またガス発生源から処理容器を経由するときの流路のコンダクタンスと排気路を経由するときの流路のコンダクタンスとを揃えておく。 - 特許庁

Then, an implanting process for selectively implanting impurities to the semiconductor thin film and forming a source area and a drain region is executed.例文帳に追加

この後、半導体薄膜に不純物を選択的に注入してソース領域及びドレイン領域を形成する注入工程を行なう。 - 特許庁