「strain pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a strain measuring device and a strain measuring method capable of improving the measuring accuracy and reducing an information processing amount while taking account of deformation of a prescribed feature pattern.例文帳に追加

本発明は、所定の特徴パターンの変形を考慮しつつ測定精度の向上と情報処理量の低減とを図ることができるひずみ測定装置およびひずみ測定方法を提供する。 - 特許庁

To bring a picture pattern film into intimate contact with a cavity forming face not so as to have damage and excess extension of the picture pattern film and damage and strain of the picture pattern by heating enough the picture pattern film regardless of depth of a cavity forming face.例文帳に追加

キャビティ形成面の深度の大小にかかわらず、絵柄フィルムの加熱を十分にすることによって、絵柄フィルムの損傷や展延のし過ぎがなく絵柄の損傷や歪みもないように、絵柄フィルムをキャビティ形成面に密着させることができる。 - 特許庁

To match upper and lower patterns by deforming the shape of an exposure pattern according to deviation of a micromachining pattern shape due to strain generated on a substrate.例文帳に追加

パターン転写方法及び露光装置に関し、基板上に発生した歪に起因した微細加工パターン形状のずれに応じて露光パターンの形状を変形して、上下パターンを整合させる。 - 特許庁

This elastic pipe 4 expands to regulate the spacing between the pattern mask 1A and the vacuum frame 3, thereby suppressing the deformation and strain of the pattern mask 1A and the vacuum frame 3 when the pressure in the space M is reduced.例文帳に追加

この弾性管４は、空間Ｍ内が減圧される際に膨張し、パターンマスク１Ａと真空枠３との間隔を規制し、パターンマスク１Ａや真空枠３の変形や歪を抑える。 - 特許庁

An impurity for forming strain and different from the impurities for source and drain is injected into the semiconductor substrate using the gate pattern as a mask (c).例文帳に追加

（ｃ）ゲートパターンをマスクとして、半導体基板内に、ソース及びドレイン用の不純物とは異なる歪形成用の不純物を注入する。 - 特許庁

To provide an emboss processing apparatus capable of certainly forming a pattern having an embossed shape on the surface of a base material and reducing the strain/stress remaining in the pattern, and an emboss processing method.例文帳に追加

基材表面に凹凸形状の絵柄を確実に形成することができ、かつこの絵柄にひずみ応力が残ることの少ないエンボス加工装置およびエンボス加工方法を提供する。 - 特許庁

An aligner 10, mounted on a body 14, is provided with a strain gage 80 that detects deformation of the body and a control system that controls relative position between a mask and a substrate, in transferring a pattern depending on the output of the strain gage 80.例文帳に追加

露光装置１０は、ボディ１４に取り付けられ、該ボディの変形を検出する歪み計８０と、該歪み計の出力に応じてパターン転写の際のマスクと基板との相対位置を制御する制御系とを備える。 - 特許庁

To achieve a display which minimizes the strain of the eyes even in a prolonged continuation of the games by accomplishing the effective pattern displays for the favorable timing of spot button depression.例文帳に追加

目押しのためのタイミングをとる上で効果的な図柄表示を行うとともに、長時間ゲームを続けても、眼が疲れにくくなるような表示を行う。 - 特許庁

A strain gauge 1 for measuring a hot spot stress has a gauge pattern 12 comprising a gauge base 11, a first grid part GA, and a second grid part GB.例文帳に追加

ホットスポット応力測定用ひずみゲージ１は、ゲージベース１１、第１のグリッド部ＧＡおよび第２のグリッド部ＧＢからなるゲージパターン１２を有している。 - 特許庁

To provide a plastic lens which does not require complicated manufacturing steps, is substantially free from an optical strain and does not cause fault in appearance such as a rainbow pattern.例文帳に追加

煩雑な製造工程を必要とせず、光学歪が実質的になく虹模様などの外観上の不具合を生じないプラスチックレンズを提供する。 - 特許庁

To provide a permanent pattern forming method which can form a permanent pattern (insulating film, a protective coat of solder resist pattern or the like) in a printed-circuit board field, including a package substrate in high accuracy and efficiency by suppressing the strain of an image focused on a light-sensitivity layer.例文帳に追加

感光層上に結像させる像の歪みを抑制することにより、パッケージ基板を含むプリント配線基板分野における永久パターン（絶縁膜、ソルダーレジストパターンなどの保護膜）を高精細に、かつ、効率よく形成可能な永久パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a stress light emission analyzer capable of estimating accurately a strain pattern of stress light emission based on a light emission phenomenon of a stress light emitting body.例文帳に追加

応力発光体の発光現象に基づいて、当該応力発光のひずみパターンを精度よく推定することができる応力発光解析装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method capable of producing a three-dimensional blade which has small curvature or strain in an abutted part to a mold (a pattern) to be installed with a blade at high production efficiency.例文帳に追加

ブレードを設置すべき型（原型）との当接部分における曲げ歪みが少ない３次元ブレードを、高い生産効率で生産し得る方法を提供する。 - 特許庁

To improve imprinting accuracy, and to improve a yield, by automatically determining transfer accuracy in a transfer process, by measuring pattern strain in imprinting when press-fitting a mold.例文帳に追加

インプリント時のパターン歪みをモールド圧着時に測定し、転写精度を転写工程中に自動判定することによりインプリント精度の向上、収率の向上を図る。 - 特許庁

Further, even when strain occurs in some degree in cylindricity or roundness of a gravure roll 1, variation of the surface roughness of the pattern of the internal electrode layer can be suppressed.例文帳に追加

また、グラビアロール１に円筒度や真円度による歪みなどが多少生じていたとしても、内部電極層のパターンの表面粗さのばらつきを抑制できる。 - 特許庁

A strain gage unit 5 of the torque detector 10 of the wave motion gearing 1 is provided with a strain gage pattern formed successively with detecting segments A-D circular-arc-likely, and terminal parts 1-4 for external wiring are led out from spaces among the detecting segments A-D.例文帳に追加

波動歯車装置１のトルク検出装置１０の歪みゲージユニット５は、円弧状に検出セグメントＡ〜Ｄが連続して形成された歪みゲージパターンを備え、検出セグメントＡ〜Ｄの間からは外部配線用の端子部（１〜４）が引き出されている。 - 特許庁

In transferring the pattern of a mask R onto a substrate W by moving a mask stage RST and a substrate stage WST, deformation of the body 14 is detected by the strain meter 80, and the relative position between the mask and the substrate is controlled, according to the detected result of the strain meter.例文帳に追加

マスクステージＲＳＴと基板ステージＷＳＴとを移動してマスクＲのパターンを基板Ｗ上に転写する際に、歪み計８０によりボディ１４の変形が検出され、制御系ではその歪み計の検出結果に応じてマスクと基板との相対位置を制御する。 - 特許庁

To prevent a game from becoming monotonous and provide a game full of strain feeling and interest by estimating the results of judgment for winning prize by experience rules to some extent from presentation pattern displayed by a presentation pattern display means by a player.例文帳に追加

演出パターン表示手段によって表示された演出パターンから、遊技者が経験則等により入賞判定の結果をある程度予測可能とすることにより、遊技が単調化せず、緊張感のある興趣あふれる遊技を可能とする。 - 特許庁

To provide a method for molding a thermoplastic resin which restrains the molecular orientation and strain in the inner part of the resin and transfers a fine pattern of a mold onto the resin surface, as well as to provide its molding equipment.例文帳に追加

樹脂内部の分子配向や歪みを抑制し且つ樹脂表面に微細な金型パターンを転写するための熱可塑性樹脂の成形方法及びその成形装置を提供する。 - 特許庁

To avoid the occurrence of the strain of a corrugated pattern in the laminated body of a board material by making an adhesive layer have a flow property when the board material is multilayered, and to enhance a mounting performance of electronic parts.例文帳に追加

基板材の多層化時に接着層が流動性をもつことにより、基板材の積層体に波打ち状の歪みが生じることを回避し、電子部品の実装性能の向上を図る。 - 特許庁

The side faces 17 of the template 13 which are thus formed are clamped with clamp pins 16 of an imprinting device to strain the template 13 so that the position shift of the pattern is corrected and imprinting is performed.例文帳に追加

このように形成されたテンプレート１３の側面１７を、インプリント装置のクランプピン１６によってクランプすることにより、パターンの位置ずれが補正されるようにテンプレート１３を歪ませてインプリントする。 - 特許庁

To provide an evaporation source and a thin film formation device forming a highly precise pattern on a large-size film forming object or an easily deflecting film forming object without causing a problem of mask strain.例文帳に追加

マスクの歪みの問題を招くことなく大型の成膜対象物又は撓みやすい成膜対象物に対して高精度のパターンを形成しうる蒸発源及び薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mask for CVD (Chemical Vapor Deposition) where the pattern precision of a thin film layer can be improved by suppressing the strain of a mask stay.例文帳に追加

本発明は、マスクステーの歪みを抑制することにより、薄膜層のパターン精度を向上させることが可能なＣＶＤ用マスク及びそれを用いたディスプレイの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a coated steel sheet in which, after ordinary hot dipping and coating/baking, yield elongation is suppressed to ≤3% to suppress deterioration in appearance due to the occurrence of buckling pattern and stretcher strain at bending.例文帳に追加

通常の溶融めっきと塗装焼付けを行った後に、降伏伸びを３％以下に抑制して曲げ加工時の腰折れ模様やストレッチャーストレインの発生に伴う外観の低下を抑制した塗装鋼板を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a reticle which can reduce a strain generated on a pattern on the reticle at designing time and after its manufacture caused by reversing upside down at the reticle manufacturing time and using time.例文帳に追加

レチクルの作製時と使用時とで、上下の向きが逆になってしまうことに起因する、設計時と作製後のレチクル上のパターンに生じる歪みを低減することのできるレチクルの作製方法等を提供する。 - 特許庁

To ideally correct a master pattern in a mask for exposure by quantitatively grasping the fitting strain of a process model and generating the process model for simulation fitted with high accuracy.例文帳に追加

プロセスモデルのフィッティングの歪み度を定量的に把握し得るようにして、高精度にフィッティングされたシミュレーションのプロセスモデルの生成を可能にし、これにより露光用マスクにおけるマスクパターンの補正も好適に行えるようにする。 - 特許庁

The circuit part 30 has: a base part; a flexible sheet provided on the surface of the base part; bonding pads; bonding wires connecting the bonding pads and a strain gauge; a spacer 35 covering the strain gauge; a board 36 connected with the electric connection means 50; a circuit pattern 37 formed on the surface of the spacer 35, performing electroconduction; and chip capacitors 38.例文帳に追加

回路部３０は、台座部と、台座部の表面に設けられたフレキシブルシートと、ボンディングパッドと、ボンディングパッドと歪ゲージとを接続するボンディング線と、歪ゲージを覆うスペーサ３５と、電気的接続手段５０が接続する基板３６と、スペーサ３５の表面に形成されて電気的導通を図る回路パターン３７と、チップコンデンサ３８と、を備えている。 - 特許庁

In the strain gauge device provided with an insulation member 100 and a resistor 200 contacting with the insulation member 100, the resistor 200 has electric connection with a return pattern 111 going back and forth by turning at the both ends and the resistor control pattern 112 provided with holes C1 to C11 having no resistance and surrounded by resistors electrically connected with the return pattern 11.例文帳に追加

絶縁部材１００と、この絶縁部材１００に接合した抵抗体２００とを具備した歪ゲージ装置において、抵抗体２００が、両側で折り返して往復する往復パターン１１１と、この往復パターン１１と電気的に接続し、周囲が抵抗体で囲まれた抵抗体のない穴Ｃ１〜Ｃ１１を設けた抵抗調整パターン１１２とを有している。 - 特許庁

Scanning transmission type electronography is digitalized to be taken in a computer and subjected to digital two-dimensional Fourier transform to form a diffraction pattern and one or a plurality of diffraction spot positions in the diffraction pattern are calculated to be compared with the position of a diffraction point in the case of an ideal crystal structure to detect the strain of a crystal lattice.例文帳に追加

走査透過型電子顕微鏡像をデジタル化しコンピュータに取り込み、デジタル２次元フーリエ変換をすることによって回折パターンを形成し、回折パターン中の一又は複数の回折スポット位置を求め、理想的な結晶構造の場合の回折点の位置と比較することで、結晶格子の歪みを検出する。 - 特許庁

The imprinting mold has: a substrate; the uneven pattern layer formed on one surface of the substrate and having an uneven pattern on its surface; and a cushion layer formed on the other surface of the substrate and relaxing strain when fixed on the pedestal.例文帳に追加

本発明は、基板と、上記基板の一方の表面上に形成され、表面に凹凸パターンを有する凹凸パターン層と、上記基板の他方の表面上に形成され、台座に固定した際の歪みを緩和する台座側クッション層と、を有することを特徴とするインプリント用モールドを提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

In the substrate 4 for measuring bonding damage for measuring damage to occur in the substrate 4 by bonding, strain gauges 20 are formed via an insulating layer under electrodes of bonding pads 10 formed in a lattice pattern on the surface of the substrate 4, and each strain gauge 20 is connected to a switching circuit 18 built in the substrate 4 by means of signal lines 21.例文帳に追加

ボンディングにより基板４に生じるダメージを計測するためのボンディングダメージの計測用の基板４において、基板４の表面に格子状に形成されたボンディングパッド１０の電極の下方に絶縁層を介して歪みゲージ２０を形成し、それぞれの歪みゲージ２０を信号線２１によって基板４に組み込まれたスイッチング回路１８に接続する。 - 特許庁

To provide a continuous annealing facility with which the development of stretcher strain and wrinkle pattern in a baking-hardened steel sheet can be prevented by eliminating uneven temperature in the width direction of a steel strip in a rapid cooling zone outlet side having a gas-jet cooling facility.例文帳に追加

ガスジェット冷却設備を有する急冷帯出側における鋼帯幅方向の温度むらを解消し、焼付け硬化性鋼板のストレッチャーストレインやしわ模様の発生を防止することができる連続焼鈍設備を提供する。 - 特許庁

To provide an extrusion molding machine constituted so as to continuously form an extrusion molded product having an embossed pattern on its decorative surface without causing strain by the extrusion molding of a raw material comprising an inorganic kneading material, for example, a raw material based on clay.例文帳に追加

本発明は、無機質混練材料よりなる原料、例えば粘土を主成分とする原料を押出成形し、化粧面に凹凸模様を形成した押出成形体を歪み無く連続的に形成する押出成形装置に関するものである。 - 特許庁

By forming a strain superlattice region having a stacked pattern of first and second semiconductor layers between an implanting region and the active region, the semiconductor light emitting device is provided, in which carrier transport toward the active region is enhanced.例文帳に追加

注入領域と活性領域の間に、第１および第２半導体層の積層パターンを有するひずみ超格子領域を形成することによって、活性領域へのキャリヤの移動が向上する半導体発光素子が提供される。 - 特許庁

To provide an extrusion molding machine for continuously forming an extrusion-molded product having an embossed pattern formed to its decorative surface without causing strain by subjecting a raw material comprising an inorganic kneaded material, for example, a raw material based on clay to extrusion molding.例文帳に追加

本発明は、無機質混練材料よりなる原料、例えば粘土を主成分とする原料を押出成形し、化粧面に凹凸模様を形成した押出成形体を歪み無く連続的に形成する押出成形装置に関するものである。 - 特許庁

The vehicle control device controls specified processing by the on-vehicle device mounted on the vehicle in response to an input pattern, by generating the input pattern on the basis of the existence of peak voltage smaller than a first threshold regarded as moving a door knob 101 for opening the door in respective waveforms intermittently outputted from a strain sensor 102.例文帳に追加

本発明の車両制御装置は、ひずみセンサ１０２から断続的に出力される各波形における、ドアを開くためにドアノブ１０１を動かしたとみなす第１の閾値よりも小さいピーク電圧の有無に基づいて、入力パターンを生成し、その入力パターンに応じて特定した、車両に搭載された車載装置による処理を制御するものである。 - 特許庁

The discrimination of the beer turbidity is carried out based on a cleavage pattern by a restriction enzyme, obtained by amplifying a part of a B-gene region of the test Lactobacillus brevis strain by using as DNA gyrase subunit B gene (gyrB)-specific primer, and cleaving the amplified DNA fragment by the restriction enzyme.例文帳に追加

DNAジャイレースサブユニットB遺伝子（gyrB）特異的プライマーを用いて、被検ラクトバチルス・ブレビス菌株の該B遺伝子領域の一部を増幅して、得られた増幅ＤＮＡ断片を制限酵素で切断し、得られた制限酵素切断パターンに基づき、そのビール混濁性の判定を行う。 - 特許庁

When press-fitting the mold 3 to a transfer object substrate 1, position coordinates of an alignment mark 8 arranged on the mold 3, are measured by an alignment mark detector 12, and a strain quantity of a transfer pattern area on the mold 3 is calculated by performing a recursive analysis from a displacement quantity of the alignment mark 8 in press-fitting.例文帳に追加

被転写基板１にモールド３を圧着させる際に、モールド３上に設けたアラインメントマーク８の位置座標をアラインメントマーク検出器１２により測定し、圧着時のアラインメントマーク８変位量から回帰解析を行いモールド３上の転写パターン領域の歪み量を算出する。 - 特許庁

Since the humidity sensor chip 15 is constituted by forming a humidity-sensitive film on the surface of the electrode pattern printed on a ceramic substrate, the constitution thereof is made simpler than that of a strain gauge for measuring the volumetric change of a substance caused by the reaction of the substance with moisture.例文帳に追加

本発明において、湿度センサチップ１５は、セラミック基板に電極パターンを印刷した表面に感湿性の被膜を形成することにより構成できるため、物質が水分と反応することによる物質の体積変化を測定する歪計よりも構成を簡易にすることができる。 - 特許庁

In a scanning probe microscope, such as a scanning tunnel microscope, one part of the layer 4 is selectively etched away by scanning the surface of the layer 4 with a probe 5 to make the layer 3 partially exposed, and a strain distribution to respond to the shape of the pattern of the layer 4 is formed on the surface of a sample.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡、例えば走査型トンネル顕微鏡において、プローブ５でＧａＡｓ層４の表面を走査することによりＧａＡｓ層４を選択的にエッチング除去してＩｎＧａＡｓ層３を部分的に露出させ、試料表面にＧａＡｓ層４のパターン形状に応じた歪分布を形成する。 - 特許庁

To provide a molding method which reduces the molded object weight difference between the end part and central part of a mold in multi-impression molding of a sheet to suppress the weight/strength fluctuations between molded objects, and is capable of obtaining the molded object reduced in the strain of a printing pattern caused by molding, and a mold therefor.例文帳に追加

複数個取りのシート成形で、金型端部と中央部の成形体重量差を少なくし、成形体間の重量・強度変動を抑えると共に、印刷樹脂フィルムを積層したシートの成形においては、成形による印刷図柄の歪みが少ない成形体をうる成形方法及び金型を提供する。 - 特許庁

Since an intermetallic compound is not produced between tin on the surface and the basic copper due to presence of the underlying film, tin whisker of the film carrier, or the like, can be prevented effectively and since the underlying film and the fine pattern are heated, whisker preventive function is enhanced through removal of strain from the underlying layer and annealing of copper base.例文帳に追加

下地皮膜の介在で表面のスズと素地の銅との間で金属間化合物が生成しないため、フィルムキャリア等のスズホイスカーを有効に防止できるうえ、下地皮膜と微細パターンを加熱するため、下地層の歪みの除去と銅素地の焼なまし作用により、ホイスカー防止機能がより増進される。 - 特許庁

The parameters are predefined as a superposing error caused by the variations in a strain value which is generated on a projecting pattern image of a reticle 16 projected on each layer to be reduced by varying the kind of the illumination iris, when a superposing exposure between defferent layers on the wafer 25 is made.例文帳に追加

このパラメータは、ウエハ２５上の相異なるレイヤー間で重ね合わせ露光をする際に、照明絞りの種類を変えることによって各レイヤー上に投影されるレチクル１６の投影パターン像に生じる歪み量が変化することに起因する重ね合わせ誤差を減じるように予め定められる。 - 特許庁

This strain sensor is manufactured by a patterning process for forming a pattern having a beltlike aperture surrounding a predetermined point in one surface of the substrate, and a process for etching the substrate along the beltlike aperture by a predetermined amount after this patterning process, and integrally forming the diaphragm copying the outline of the beltlike aperture and the needlelike projection supported at the center of the diaphragm on the substrate.例文帳に追加

この歪センサは、基板の一面に、所定の点を取り囲む帯状の窓を設けたパターンを形成するパターニング工程と、このパターニング工程の後に帯状窓に沿って基板を所定量エッチングし、基板に帯状の窓の外形に倣ったダイアフラムとダイアフラムの中央に支持された針状突起とを一体に形成する工程によって製造される。 - 特許庁