「substrate layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(735ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a measuring apparatus which can precisely, simply, and quickly specify measuring pattern species, measure a film thickness and process end points in a film eliminating process and a film forming process, for a substrate having a pattern structure constituted of various pattern species, a substrate in an STI(shallow trench isolation) process and a substrate in a Cu process in which a barrier metal layer exists.例文帳に追加

様々なパターン種から構成されるパターン構造を有する基板、更にＳＴＩ工程の基板及びバリアメタル層の存在するＣｕ工程の基板に対しても、測定しているパターン種（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ）の特定、膜厚の測定、膜の除去工程、成膜工程に於ける工程終了点の測定を精度良く、簡便、且つ高速に行うことができる測定装置及び測定方法及びこの測定装置を用いた研磨装置及びこの測定方法を用いた研磨方法を提供すること。 - 特許庁

The liquid crystal display device is provided with a first substrate, a second substrate, a liquid crystal layer formed between both the first and second substrates, a first sealing material formed between both the substrates so as to surround the liquid crystal layer and having a liquid crystal injection port, and a second sealing material sealing the injection port of the first sealing material.例文帳に追加

第１基板、第２基板、前記両基板間に形成された液晶層、及び前記液晶層を取り囲みながら前記両基板間に形成された第１シール材を備えてなる液晶セルを用意する工程と、前記液晶セル内の液晶量を検査する工程と、前記第１シール材に液晶の注入口を形成する工程と、前記注入口を介して液晶量を調節する工程と、及び前記注入口を封じる工程とを備えてなる液晶表示素子の製造方法及びその方法によって製造された液晶表示素子を提供する。 - 特許庁

The silver halide photographic sensitive material has at least one transparent magnetic recording layer containing magnetic particles and at least one lubricative surface layer on one side of the substrate and at least one photosensitive silver halide emulsion layer on the other side.例文帳に追加

支持体の片側に各々少なくとも一層の磁性粒子を含む透明磁気記録層と表面滑り層を有し、該透明磁気記録層の支持体をはさんだ反対側の面に少なくとも一層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀感光材料において、高湿度、低速度測定条件(２３℃、６５％RH、２cm/分)での該透明磁気記録層側の面とハロゲン化銀乳剤層側の面との静摩擦係数μSおよび動摩擦係数μkが以下の関係式(1)および(2)を満たすことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 - 特許庁

The organic photoreceptor used in an image forming method comprising a charging step for charging an organic photoreceptor using a contact charging member, an exposure step for forming an electrostatic latent image and a developing step for visualizing the electrostatic latent image has a charge generating layer containing an adduct of titanyl phthalocyanine to a diol having hydroxy groups on two adjacent respective carbon atoms on a conductive substrate and a charge transport layer on the charge generating layer.例文帳に追加

有機感光体に接触帯電部材を用いて帯電させる帯電工程、静電潜像を形成させるための露光工程、及び静電潜像を可視化するための現像工程とを有する画像形成方法に用いられる有機感光体において、導電性基体上にチタニルフタロシアニンと２つの隣接する各炭素原子に水酸基を有するジオールとの付加体を含有する電荷発生層及び該電荷発生層上に電荷輸送層を有することを特徴とする有機感光体。 - 特許庁

To give excellent coating appearance by successively forming a color clear primer coating layer, a brilliant clear coating layer, and a top clear coating layer on a substrate for a road wheel.例文帳に追加

基材の素材感を視認可能なスケルトン仕上げの外観と、表面粗度の粗いロードホイール用基材のような基材でも、基材の粗度を隠蔽し、ホログラム顔料自体の塗膜からの突出がなく、塗膜外観が良好で、意匠面ではホログラムクリヤー塗膜層の下層のカラークリヤープライマー塗膜層またはカラーベース塗膜層との複合色による意匠の発現する深みのある光輝感を呈する光輝性塗膜を提供するための光輝性塗膜形成方法およびこの塗膜形成方法によって塗装されたアルミホイールを提供する。 - 特許庁

In the silver halide photographic sensitive material having at least one silver halide emulsion layer containing at least one photosensitive silver halide emulsion on a substrate, solid particles are contained in the silver halide emulsion layer or another hydrophilic colloidal layer in such an amount as to increase the average integrated value of spectral reflectance of a photosensitive material in the wavelength range of 850-1,000 nm by ≥1.5%.例文帳に追加

少なくとも一種の感光性ハロゲン化銀乳剤を有するハロゲン化銀乳剤層を少なくとも一層支持体上に有するハロゲン化銀写真感光材料において、該ハロゲン化銀乳剤層と同一層または別の親水性コロイド層中に、８５０〜１，０００ｎｍの波長範囲における感光材料の分光反射率の積分値の平均値を１．５％以上増加せしめる量の固体粒子を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法。 - 特許庁

The laminate for thermal foaming is constituted of at least an (A) layer, a substrate layer, and a (B) layer.例文帳に追加

少なくとも（Ａ）層／基材層／（Ｂ）層の構成を含む積層体であって、（Ａ）層が低密度ポリエチレンから構成され、（Ｂ）層がエチレンから導かれる繰り返し単位またはエチレンから導かれる繰り返し単位と炭素数３〜８のα−オレフィンから導かれる繰り返し単位からなり、（Ａ）層の低密度ポリエチレンよりも密度が高く、１６０℃で測定した溶融張力［ＭＳ_１６０（ｍＮ）］とＪＩＳ Ｋ６９２２−１（１９９７年）により測定したメルトマスフローレート［ＭＦＲ（ｇ／１０分）］が下式（１）を満たすエチレン系重合体から構成される、加熱発泡用積層体を用いる。 - 特許庁

An adhesive ethylenic resin layer (C layer) which contains an ethylene-acrylic acid copolymer and/or an ethylene-acrylate copolymer and has a main melting peak temperature of 80°C or below and a melt flow rate (MFR) at 190°C of 30-100 g/10 min is laminated on one side of a polypropylene film substrate (A layer).例文帳に追加

ポリプロピレンフィルム基材層（Ａ層）の片面に、エチレン・アクリル酸共重合体およびエチレン・アクリル酸エステル共重合体から選ばれる少なくとも１種を含有し融解の主ピーク温度が８０℃以下かつ１９０℃の溶融指数（ＭＦＲ）が３０〜１００ｇ／１０分であるエチレン系接着性樹脂層（Ｃ層）が積層されたフィルムであって、該フィルムの長手方向のヤング率（Ｅ_ＭＤ）と幅方向のヤング率（Ｅ_ＴＤ）から下記式（１）で計算されるＭＴ値が０．４〜０．７の範囲であることを特徴とする熱融着プリントラミネート用フィルム。 - 特許庁

The semiconductor device has an island-shaped semiconductor layer formed on a substrate and having a first impurity region and a second impurity region at a prescribed interval, a gate insulating film formed on the island-shaped semiconductor layer, and a gate electrode formed in a region on the gate insulating film between the first impurity region and the second impurity region, the island semiconductor layer having a polygonal plane shape whose angles are all obtuse.例文帳に追加

基板上に形成され、所定の間隔を隔てて第１の不純物領域及び第２の不純物領域を有する島状半導体層、前記島状半導体層上に形成されたゲート絶縁膜、及び前記第１の不純物領域及び第２の不純物領域の間の領域に対応する前記ゲート絶縁膜上の領域に形成されたゲート電極を具備し、前記島状半導体層の平面形状は、すべての角が鈍角である多角形であることを特徴とする。 - 特許庁

When a silicon nitride layer 10 is formed on a substrate 4 like a silicon substrate with an oxide film on its surface in a catalytic CVD method, the total pressure of growth atmosphere is set from 1.33×10^-3 Pa to 4 Pa in at least an early stage.例文帳に追加

表面に酸化膜が形成されたシリコン基板などの基板４上に触媒ＣＶＤ法により窒化シリコン層１０を成長させる場合に、少なくとも成長初期に成長雰囲気の全圧を１．３３×１０^-3Ｐａ以上４Ｐａ以下に設定し、あるいは、少なくとも成長初期に成長雰囲気における酸素および水分の分圧を６．６５×１０^-10 Ｐａ以上２×１０^-6Ｐａ以下に設定する。 - 特許庁

A lenticular unit according to the embodiments of the present invention includes: a transparent substrate; first electrodes being transparent and disposed on the transparent substrate; a second electrode being transparent and elastic; and a material layer interposed between the first and second electrodes and being deformable into or from a lens shape depending on a potential applied between the first and second electrodes.例文帳に追加

本発明の実施形態に係るレンチキュラーユニットは、透明な基板と、前記透明な基板上に配置された透明な第１電極と、透明で伸縮可能な第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に配置され、前記第１電極と前記第２電極との間に印加された電位に応じて、レンズ状又は前記レンズ状から変形可能な物質層と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The substrate coating method for lithography includes the steps of coating the top of a substrate with a film in a lithography process and disposing a topcoat layer on the film, wherein the film is formed using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that contains a resin (P), having a repeating unit (A) which decomposes due to irradiation with actinic rays or radiation, and which generates an acid.例文帳に追加

リソグラフィプロセスにおいて基板上に膜を被覆する工程と、該膜上にトップコート層を設ける工程を含むリソグラフィ用基板被覆方法であって、前記膜が、活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物を用いて形成されることを特徴とする、リソグラフィ用基板被覆方法。 - 特許庁

To provide a design method of an organic electroluminescent element, which enhances an amount of components of light emitted to the outside by setting a dimension between a light-emitting source and the surface of a light reflecting electrode in a wide range, when improving light extraction efficiency by extracting light guided in a substrate to the outside by providing a light diffusion layer between the substrate of the organic EL element and the atmosphere.例文帳に追加

有機ＥＬ素子の基板と大気との間に光拡散層等を設けることで本来基板内を導波する光を外部に取り出して光取り出し効率を向上するにあたり、発光源と光反射性の電極の表面との間の寸法を広い範囲のなかで設定することで、外部に出射する光の成分の量を向上することができる有機エレクトロルミネッセンス素子の設計方法を提供する。 - 特許庁

The liquid crystal display panel 10A includes an array substrate AR having a pixel electrode 16 and a thin film transistor TFT in each pixel region enclosed by scanning lines and signal lines arranged in a matrix, and a color filter substrate CF having a black matrix BM and a color filter 26, wherein a light absorbing layer 30 is formed over the surface of the thin film transistor TFT with an insulating film 20 interposed therebetween.例文帳に追加

マトリクス状に配列した走査線と信号線とで囲まれる各画素領域に画素電極１６及び薄膜トランジスタＴＦＴを配置したアレイＡＲ基板と、ブラックマトリクスＢＭ及びカラーフィルタ２６を備えたカラーフィルタ基板ＣＦとを有する液晶表示パネル１０Ａにおいて、前記薄膜トランジスタＴＦＴの表面に絶縁膜２０を介して光吸収層３０を形成したことを特徴とする。 - 特許庁

The reflective liquid crystal display device is provided with glass substrates 581, 582, a transparent electrode 60 arranged on the glass substrate 581, an insulation film 44 arranged on the glass substrate 582 and with the projecting and recessing structure 50 formed on the surface, a reflection electrode 51 arranged on the insulation film 44 and a liquid crystal layer 61 held between the transparent electrode 60 side and the reflection electrode 51 side.例文帳に追加

本発明の反射型液晶表示装置は、ガラス基板５８１，５８２と、ガラス基板５８１上に設けられた透明電極６０と、ガラス基板５８２上に設けられるとともに表面に凹凸構造５０が形成された絶縁膜４４と、絶縁膜４４上に設けられた反射電極５１と、透明電極６０側と反射電極５１側とで挟み込まれた液晶層６１とを備えたものである。 - 特許庁

To provide a low reflection film negligible in surface glaring by suppressing interference unevenness (irregular color ) caused by involvement of incident light from a surface, particularly reflected light reflected on the interface between a transparent substrate film and a layer adjacent to it, when visual information such as a character and a graphic image used for various displays or the like to be recognized through a transparent substrate film, is observed.例文帳に追加

各種ディスプレイ等に使用して透明基板を通して認識する文字や図形画像などの視覚情報を観察する場合に、表面からの入射光が、特に透明基材フィルムとこれに隣接する層との界面で反射される反射光が関与することにより発生する干渉ムラ（色ムラ）を抑制することができると共に面ギラの問題とならない低反射フィルムを提供することである。 - 特許庁

In the photoelectric conversion device 1 which has a stacked structure of a lower electrode 20, a photoelectric conversion layer 30, and an upper electrode 50 on the anodic oxidation substrate 10 formed with an anodic oxidation film 12 on at least one face of a metal base 11 having Al as a main component, the anodic oxidation substrate 10 is formed by doping at least one kind of alkaline metal onto the anodic oxidation film 12.例文帳に追加

Ａｌを主成分とする金属基材１１の少なくとも一方の面側に陽極酸化膜１２が形成された陽極酸化基板１０上に、下部電極２０、光電変換層３０および上部電極５０の積層構造を有する光電変換素子１において、陽極酸化基板１０が、陽極酸化膜１２に少なくとも１種のアルカリ金属がドープされたものとする。 - 特許庁

To provide a method of obtaining high connection reliability by connecting all bumps definitely, and a member for a circuit substrate for the same without causing a big deformation by a pressure unevenness in the bump series formed on an electronic part to the member for the circuit substrate in which highly precise connection pattern excellent in the dimensional accuracy is formed by laminating a flexible film on a reinforced plate through an organic layer.例文帳に追加

可撓性フイルムを有機物層を介して補強板に貼り合わせた、寸法精度に優れた高精度な回路パターンを形成した回路基板用部材に、電子部品上に形成されたバンプ列に圧力ムラによる大きな変形を引き起こすことなく、かつ確実に全てのバンプを接続させることで高い接続信頼性が得られる方法とそのための回路基板用部材を提供すること。 - 特許庁

The oxide superconductive thin film composed of a copper oxide super conductor, in which the atomic ratio of Y:Ba:Cu is 1:2:3, and having crystallinity c-axis-oriented in a direction vertical to the substrate is formed through the platinum(Pt) buffer layer having ≥40 Å, particularly ≥140 Åto <420 Å, particularly ≤400 Å thickness on the SiO2 substrate.例文帳に追加

ＳｉＯ_２基板上に、４０オングストローム以上、特に１４０オングストローム以上であって、４２０オングストローム未満、特に４００オングストローム以下の厚みの白金（Ｐｔ）バッファー層を介して、Ｙ：Ｂａ：Ｃｕの原子比が実質上１：２：３である銅酸化物超電導体から成り、且つ基板と垂直方向にｃ軸配向した結晶性を有する酸化物超電導薄膜が形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

After a dielectric substrate 1 is formed by thermoplastic liquid crystal polymer where palladium is mixed, a resin mask 2 is formed (B) to expose a surface part where a conductive layer 4 with a specific pattern is formed and the other surface parts are covered, and the resin mask and the entire surface of the dielectric substrate 1 that is exposed from the resin mask are subjected to roughening treatment 3 (C).例文帳に追加

パラジウムを混入した熱可塑性の液晶ポリマーで誘電体基板１を成形（Ａ）した後、この誘電体基体の表面のうち、所定パターンの導体層４が形成されるべき表面部分を露出させ、これ以外の表面部分を覆うように樹脂マスク２を形成（Ｂ）し、この樹脂マスク及びこの樹脂マスクから露出している誘電体基体１の全表面を粗面化処理３する（Ｃ）。 - 特許庁

In this bipolar transistor formed on a silicon substrate 1, the basic structure is constituted of an intrinsic base 6 having a one conductivity type impurity formed on the surface of a semiconductor substrate, and an emitter 10 having the opposite conductivity type impurity embedded in the intrinsic base 6, and single crystal silicon 9a having an opposite conductivity type impurity and a second poly silicon 11 formed in a layer stack on the emitter 10.例文帳に追加

シリコン基板１上に形成されるバイポーラトランジスタであって、その基本構造では、半導体基板表面に一導電型不純物を有する真性ベース６が形成され、真性ベース６に埋め込まれて逆導電型不純物を有するエミッタ１０が形成され、エミッタ１０上に逆導電型の単結晶シリコン９ａと第２のポリシリコン１１が積層して形成されている。 - 特許庁

The magnetite thin film containing Co is deposited on a long-length substrate consisting of polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN), its substrate side is made to run while being brought into contact with a drum whose circumferential surface is cooled and the side of the magnetite thin film containing cobalt is subjected to thermal oxidation treatment to deposit the magnetic layer consisting of the maghemite thin film containing cobalt having 1 to 10 wt% cobalt content.例文帳に追加

ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、又はポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）よりなる長尺状の基体上にコバルト含有マグネタイト薄膜を形成し、続いて周面を冷却させたドラム上に基体側を接触させて走行させ、かつコバルト含有マグネタイト薄膜側に対し加熱酸化処理を施し、コバルトの含有量１〜１０重量％のコバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層を形成する。 - 特許庁

To provide an optical disk wherein changing quantity of warpage of a substrate due to the change of environmental humidity is reduced by suppressing the change in water content distribution across the thickness direction of a disk substrate in the optical disk having a information signal part on the principal surface thereof and which has a light transmission layer having low double refraction, satisfactory transparency and uniform thickness and can be made in larger capacity while having high reliability.例文帳に追加

一主面に情報信号部を有する光ディスクにおける、ディスク基板の厚さ方向に生じる含水率分布の変化を抑制して、環境湿度変化による基板の反り変化量を低減し、対物レンズの高ＮＡ化に十分対応可能で、小複屈折で、透明性良好で厚さも均一な光透過層を有し、高信頼性を有しつつ大容量化可能な光ディスクを提供する。 - 特許庁

A front panel 10 having a display electrode and a dielectric layer formed in pair on a glass substrate is set on a substrate holder 32 in a vacuum chamber 31, the vacuum chamber is evacuated, a panel 10 is heated by a heater 35, and a film material (MgO) in a crucible 38, irradiated with a thermionic current 36 via a filament 37, is evaporated to form a MgO film.例文帳に追加

ガラス基板上に対となる表示電極と誘電体層を形成してなる前面側パネル１０を真空チャンバ３１内の基板ホルダー３２にセットし、真空チャンバ３１の内部を排気し、ヒータ３５にてパネル１０を加熱し、るつぼ３８内の膜材料（ＭｇＯ）にフィラメント３７より熱電子流３６を照射させてＭｇＯを蒸発させて前面側パネル１０の誘電体層上にＭｇＯ膜を成膜する。 - 特許庁

The solid state imaging device comprises the photodiode PD and the floating impurity diffusion area 22 which are formed on the surface layer of a pixel area of a silicon (semiconductor) substrate 1 with an interval and a transfer gate 12 formed on the silicon substrate 1 between the photodiode PD and the floating impurity diffusion area 22 through a gate insulating film 5c and having ruggedness turned to the side of the floating impurity diffusion area 22.例文帳に追加

シリコン（半導体）基板１の画素領域の表層に、互いに間を隔てて形成されたフォトダイオードPD及び浮遊不純物拡散領域２２と、フォトダイオードPDと浮遊不純物拡散領域２２との間のシリコン基板１上に、ゲート絶縁膜５ｃを介して形成され、浮遊不純物拡散領域２２側に向けて凹凸を有する転送ゲート１２とを有する固体撮像装置による。 - 特許庁

The intermediate plate B used in the state held between the prepreg 22 and the hot plate 16 or in the state held between the prepregs 22 when the resin base substrate is manufactured by applying hot press treatment to the prepreg 22, is obtained by forming a release layer 2 comprising a fluoroplastic resin consisting of a fluorine-containing polyol, amino acid type high melting point wax and a polyisocyanate compound on a substrate 20 comprising an aluminum alloy.例文帳に追加

本発明は、プリプレグ２２に熱プレス処理を施して樹脂ベース基板を製造する際にプリプレグ２２と熱板１６の間、あるいはプリプレグ２２どうしに挟まれて使用される中間板Ｂであって、アルミニウム合金からなる基板２０上にフッ素系ポリオールとアミノ酸系高融点ワックスとポリイソシアネート化合物とを具備してなるからなる離型層２１が形成されてなることを特徴とする。 - 特許庁

The method for producing the optical recording medium includes: a step of coating a dye solution on a substrate by a spin coating method to form a dye recording layer, wherein the substrate is rotated at a rotation speed lower than during a period from the beginning to the end of the supply of the dye solution in the sequence from beginning to the end of the supply of the dye solution.例文帳に追加

基板上に、スピンコート法により色素溶液を吐出して塗布し、塗布後乾燥させ色素記録層を形成する工程を有する光記録媒体の製造方法であって、前記色素溶液吐出開始から乾燥完了までのシーケンスに、基板を、前記色素溶液の吐出開始時又は吐出終了時の回転速度よりも低速とするステップを含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法である。 - 特許庁

A method of manufacturing a substrate holder for use in a lithographic apparatus includes: providing a main body having a surface, and a plurality of burls projecting from the surface and having end surfaces to support a substrate; providing a carrier surface adjacent to the main body surface; and forming a conductive layer on at least a part of the main body surface and an integral part on at least a part of the carrier surface.例文帳に追加

リソグラフィ装置で使用する基板ホルダの製造方法であって、方法は、表面を有する本体と、表面から突出して基板を支持する端面を有する複数のバールとを提供することと、本体表面に隣接するキャリア表面を提供することと、本体表面上の少なくとも一部上に導電層を、キャリア表面の少なくとも一部上の一体部分を形成することとを含む。 - 特許庁

In the photosensitive element having a plastic film A, a photosensitive resin layer and a plastic film B in this order for forming a photosensitive resin pattern on a substrate, the plastic film A is a polyethylene terephthalate film or a polypropylene film and is removed in sticking to the substrate and the thickness of the plastic film A is larger than that of the plastic film B.例文帳に追加

基板上に感光性樹脂パターンを形成するための、プラスチックフィルムＡ、感光性樹脂層、プラスチックフィルムＢをこの順で有する感光性エレメントにおいて、前記プラスチックフィルムＡがポリエチレンテレフタレートフィルム又はポリプロピレンフィルムであり、前記プラスチックフィルムＡは基板貼り合わせ時に除去されるフィルムであり、前記プラスチックフィルムＡの厚さが前記プラスチックフィルムＢの厚さよりも厚い感光性エレメント。 - 特許庁

The reflection type liquid crystal display device has glass substrates 581 and 582, transparent electrodes 60 disposed on the substrate 581, insulating films 44 disposed on the substrate 582 and formed with the rugged structures 50, the reflection electrodes 51 disposed on the films 44 and a liquid crystal layer 61 sandwiched by the electrode 60 side and the electrode 51 side.例文帳に追加

本発明の反射型液晶表示装置は、ガラス基板５８１，５８２と、ガラス基板５８１上に設けられた透明電極６０と、ガラス基板５８２上に設けられるとともに表面に凹凸構造５０が形成された絶縁膜４４と、絶縁膜４４上に設けられた反射電極５１と、透明電極６０側と反射電極５１側とで挟み込まれた液晶層６１とを備えたものである。 - 特許庁

To provide a resist stripper which can rapidly and easily strip a photoresist membrane applied on a substrate, a photoresist layer remaining after etching of the photoresist membrane applied on the substrate or the photoresist residues etc., remaining by performing ashing after etching of the photoresist film at a low temperature, permits microfabrication of various kinds of the materials and permits manufacturing of circuit wiring of high accuracy.例文帳に追加

基板上に塗布されたフォトレジスト膜、または基板上に塗布されたフォトレジスト膜をエッチング後に残存するフォトレジスト層、あるいはフォトレジスト層をエッチング後にアッシングを行い残存するフォトレジスト残査物等を低温でかつ短時間で容易に剥離でき、その際種々の材料を全く腐食せずに微細加工が可能であり、高精度の回路配線を製造できるフォトレジスト剥離剤を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive conductive paste composition that can form a circuit pattern achieving high-definition patterning, having stable adhesiveness to a substrate or a lower layer in each process of drying, exposure, development and baking, having excellent baking property, excelling in adhesiveness to the substrate and adhesiveness between layers after baking, suppressing the formation of edge curls and showing a low sheet resistance value.例文帳に追加

高精細パターン化が可能であり、乾燥、露光、現像、焼成の各工程において基板もしくは下層に対して安定した密着性を有すると共に、優れた焼成性を有し、焼成後の基板への密着性、層間の密着性に優れ、エッジカールの発生を抑制でき、かつ低いシート抵抗値を示すような、回路パターンを形成することができる、感光性導電性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁

The semiconductor device includes: a semiconductor substrate having a semiconductor device on a surface thereof; an interconnection formed on the semiconductor substrate; a via connected to the under side of the interconnection; a first insulating film formed on the same layer of the via; and a second insulating film integrally formed between the first insulating film and the interconnection, and between the first insulating film and the via.例文帳に追加

本発明の実施の形態による半導体装置は、表面に半導体素子を有する半導体基板と、前記半導体基板上に形成された配線と、前記配線の下側に接続されるビアと、前記ビアと同じ層に形成された第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜と前記配線との間、および前記第１の絶縁膜と前記ビアとの間に一体に形成された第２の絶縁膜と、を有する。 - 特許庁

The color filter comprises: a substrate for color filter which has at least base material and a colored layer formed in a patterned shape and plurally on the base material; and the spacer part which is formed on the substrate for color filter and contains beads and binder, wherein the spacer part is made to be in such a shape that the beads are coated with the binder.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基材、および前記基材上にパターン状に、複数形成された着色層を少なくとも有するカラーフィルタ用基板と、前記カラーフィルタ用基板上に形成され、ビーズおよびバインダを含有するスペーサ部とを有するカラーフィルタであって、 前記スペーサ部は、前記ビーズが前記バインダにより覆われた形状とされていることを特徴とするカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

There are provided a connection pad 12 formed on a semiconductor substrate 11, a wire 21 electrically connected with the connection pad, a columnar electrode 22 electrically connected with the wire, a resin core 31 formed on the surface of the columnar electrode, solder 32 formed on the columnar electrode around the resin core and covering the resin core, and a sealing layer 26 formed on the semiconductor substrate around the electrode.例文帳に追加

半導体基板１１上に形成された接続パッド１２と、接続パッドと電気的に接続された配線２１と、配線と電気的に接続された柱状電極２２と、柱状電極の表面に形成された樹脂コア３１と、樹脂コアを覆い、樹脂コアの周囲における柱状電極上に形成された半田３２と、電極の周囲における半導体基板上に形成された封止層２６と、を備える。 - 特許庁

The liquid crystal display device includes a plurality of cell regions having a first substrate provided with a pixel electrode, a second substrate provided with a common electrode and a liquid crystal layer interposed between the first and second substrates and a cutting region positioned between the plurality of cell regions and having the first and second substrates extending from the cell regions and at least one peripheral spacer interposed between the first and second substrates.例文帳に追加

画素電極が備えられた第１基板、共通電極が備えられた第２基板、及び第１、２基板に介された液晶層を備えた複数のセル領域と、複数のセル領域の間に位置し、そのセル領域から延びた第１基板と第２基板、及び第１、２基板に介された少なくとも一つの周辺スペーサを備えた切断領域と、を備える液晶表示装置である。 - 特許庁

The coated paper for printing comprises at least one coated layer containing mainly pigment and binder on each side of a substrate, in which coated layers adjacent to the substrate comprise 4 to 30 mass parts of the binder to 100 mass parts of the pigment solid content and have 0.1 to 3.0 kPa of Smooster air permeability according to JAPAN TAPPI No.5-1.例文帳に追加

支持体の両面に主に顔料と接着剤を含有する塗工層を少なくとも一層設けた印刷用塗工紙において、支持体に隣接する塗工層が顔料固形分１００質量部に対して接着剤を４〜３０質量部含み、かつＪＡＰＡＮ ＴＡＰＰＩ Ｎｏ．５−１に準拠するスムースター透気度が０．１〜３．０ｋＰａであることを特徴とする印刷用塗工紙である。 - 特許庁

The protective film for optical films having fine irregularities of a nano-meter order includes a substrate and an adhesive layer formed on the substrate and having a surface roughness Ra of ≤0.030 μm and a logarithmic damping factor rising temperature of ≥-35°C, measured by the rigid pendulum measurement.例文帳に追加

本発明は、ナノメートルオーダーの微細凹凸を有する光学フィルムに用いられる光学フィルム用保護フィルムであって、基板と、上記基板上に形成され、表面粗さＲａが０．０３０μｍ以下であり、剛体振り子測定における対数減衰率上昇温度が−３５℃以上である粘着剤層とを有することを特徴とする光学フィルム用保護フィルムを提供することにより上記課題を解決する。 - 特許庁

The display filter 110 to be disposed in a front side of a display panel includes: a transparent substrate 111; a first polarizing film 112, which is supported by the transparent substrate 111 and which allows only a component of incident ambient light to be transmitted, the component parallel to a first polarization axis; and further an ambient light shield layer, which blocks UV light and IR light included in the incident ambient light.例文帳に追加

ディスプレイパネルの前方に具備されるディスプレイフィルター１１０であって、透明基板１１１、及び前記透明基板１１１に支持され、入射した外部環境光の成分のうち第１の偏光軸に平行な成分のみを透過させる第１の偏光フィルム１１２、を含み、入射した外部環境光に含まれた紫外線と赤外線を遮蔽する外光遮蔽層を更に含む。 - 特許庁

The silicon carbide impregnated carbon material is obtained by impregnating at least a surface layer of a carbon substrate with a curable silicone composition such as an organoperoxide-curable silicone composition, curing the impregnated curable silicone composition, and thermally decomposing the carbon substrate of the obtained curable silicone impregnated states under a non-oxidizing atmosphere which are higher than 1,500°C and within 2,200°C to convert into the silicon carbide.例文帳に追加

炭素基材の少なくとも表面層に有機過酸化物硬化性シリコーン組成物等の硬化性シリコーン組成物を含浸させ、こうして含浸した前記硬化性シリコーン組成物を硬化させ、こうして得られた硬化性シリコーン含浸状態の炭素基材を、非酸化性雰囲気下において、１５００℃を越え、２２００℃の範囲内で熱分解させて炭化ケイ素に転化させて得られる炭化ケイ素含浸炭素質材料。 - 特許庁

A drying apparatus and a drying method are characterized in that a lid for suppressing drying is arranged directly above each pixel when drying a coating film in a method of manufacturing a functional element including a drying step in which a solvent-containing coating solution for forming the functional layer is applied to the inside of the partition wall formed on a substrate to form the coating film on the substrate and then the coating film is hardened by drying.例文帳に追加

溶媒を含む機能層形成用塗工液を、基板上に形成された隔壁内部に塗布することにより基板上に塗膜を形成した後、前記塗膜を乾燥させて固化させる乾燥工程を有する機能性素子の製造方法において、乾燥時に各画素の直上に乾燥を抑えるための蓋を配置することを特徴とする乾燥装置および乾燥方法である。 - 特許庁

A VCSEL 10 includes: an n-type GaAs substrate 100; an n-type lower DBR 102 formed on the substrate 100; an active region 104; a p-type upper DBR 106 formed on the active region; a p-type current constriction layer 108 formed in the upper DBR 106; a p-side electrode 112 electrically connected to the upper DBR 106; and an n-side electrode 120.例文帳に追加

ＶＣＳＥＬ１０は、ｎ型のＧａＡｓ基板１００と、基板１００上に形成されたｎ型の下部ＤＢＲ１０２と、活性領域１０４と、活性領域上に形成されたｐ型の上部ＤＢＲ１０６と、上部ＤＢＲ１０６内に形成されたｐ型の電流狭窄層１０８と、上部ＤＢＲ１０６と電気的に接続されたｐ側電極１１２と、ｎ側電極１２０とを有する。 - 特許庁

The method for manufacturing a laminated film includes a process of delivering and carrying a rolled substrate film and a sealant film each and continuously, a process of applying a solvent to only one side of the sealant film delivered, a process of wiping away the solvent-applied surface and a process of adhering the sealant layer with the lubricant removed in the preceding cleaning processes to at least one side of the substrate film carried continuously.例文帳に追加

ロール状の基材フィルムおよびシーラントフィルムをそれぞれ送り出し連続搬送する工程と、送り出されたシーラントフィルムの片面側のみの表面に溶剤を塗布する工程と、溶剤を塗布した面を拭き取る工程と、連続搬送された基材フィルムの少なくとも一方に先の洗浄工程において滑剤を除去したシーラント層を貼り合わせる工程とを備えた積層フィルムの製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the ZnO-based semiconductor device includes the processes of: preparing a substrate; supplying Zn, O and N on the upper side of the substrate; supplying an element which is added to ZnO when necessary to change a band gap; and forming a ZnO-based semiconductor layer doped with N to exhibit n-type conductivity with increased n-type carrier concentration as compared with the case that doping with N is not performed.例文帳に追加

ＺｎＯ系半導体装置の製造方法は、基板を準備する工程と、基板上方に、Ｚｎ、Ｏ、及びＮを供給するとともに、必要に応じて、ＺｎＯに添加することによりバンドギャップを変化させる元素を供給し、Ｎをドープすることにより、Ｎをドープしない場合に比べてｎ型キャリア濃度が増したｎ型伝導性を示すＺｎＯ系半導体層を形成する工程とを有する。 - 特許庁

The liquid crystal display device includes a light source, a first polarizer, a first transparent film, a liquid crystal cell having a pair of transparent substrates and a polymeric stabilized blue phase liquid crystal disposed therebetween, a second transparent film, and a second polarizer, disposed in this order, and is characterized in that one of the pair of transparent substrates is an array substrate and that no color filter layer is disposed on the other transparent substrate.例文帳に追加

光源、第１の偏光子、第１の透明フィルム、一対の透明基板とその間に配置される高分子安定化ブルー相液晶とを有する液晶セル、第２の透明フィルム、及び第２の偏光子がこの順に配置され、一対の透明基板のいずれか一方が、アレイ基板であり、且つ他方の透明基板にカラーフィルタ層が配置されていないことを特徴とする液晶表示装置である。 - 特許庁