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substrate layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 39497件
In the optical information recording medium 1 for optically reproducing information by irradiation with a light beam including a substrate 12 on which rugged pits and/or grooves corresponding to the recorded information or a recording layer, a temperature sensitive layer 21 whose transmissivity of the light beam varies in response to temperature rise caused by irradiation with the light beam is provided.例文帳に追加
記録情報に対応した凹凸形状のピットおよび/または溝が形成された基板12を備え、光ビームの照射によって上記情報を光学的に再生するための光情報記録媒体1あるいは記録層を備える光情報記録媒体において、光ビーム照射による温度の上昇に応じて照射された光ビームの透過率が変化する温度感応層21を設ける。 - 特許庁
The organic electroluminescent display element 160 comprises a thin-film transistor array 174 formed on a substrate, a first electrode 200 connected to the thin-film transistor, at least one insulation film 180, 182 to expose the first electrode and partition pixels, an organic luminescent layer 178 overlapping the first electrode 200, and a second electrode 170 formed on the organic luminescent layer.例文帳に追加
【解決手段】本発明の有機電界発光表示素子160は、基板上に形成された薄膜トランジスタアレー174と、該薄膜トランジスターに接続された第1電極200と、該第1電極を露出させると共にそれぞれの画素を分離するための少なくとも一つの絶縁膜180,182と、前記第1電極200に重なる有機発光層178と、該有機発光層上に形成された第2電極170を備えることを特徴とする。 - 特許庁
The method comprises the step of loading a semiconductor substrate into the reaction chamber for performing deposition, the step of charging nitrogen atmosphere gas which contains a nitrogen element decomposable at low temperature into the reaction chamber to generate a nitrogen atmosphere in the reaction chamber, and the step of charging silicon source gas and oxygen source gas into the reaction chamber to deposit a silicon oxide layer on the semiconductor layer.例文帳に追加
半導体基板を蒸着工程の行われる反応チャンバ内にローディングする段階、前記反応チャンバ内に低温で分解可能な窒素元素を含む窒素雰囲気ガスを投入して前記反応チャンバ内を窒素雰囲気に形成する段階及び前記反応チャンバ内にシリコンソースガス及び酸素ソースガスを投入して前記半導体基板上にシリコンオキシド層を蒸着する段階を含む。 - 特許庁
The inductor element is composed of an inductor comprising as least one wiring layer with its wire wound spirally and two pieces of axisymmetrically spiral wire with two pieces of wound wire intersected concentrically, and a shield comprising a conductive layer which is formed without any electrical loop paths and is inserted between the inductor and the silicon substrate at the outer area from the inner side of the spiral wire.例文帳に追加
インダクタ素子は、配線がスパイラル形状に巻かれた少なくとも1つの配線層によって、かつ、2本の配線を同心状に交差させて巻いた線対称の2つのスパイラル形状配線から形成されたインダクタと、電気的なループ経路を持たない形状で、かつ、スパイラル形状の内側配線より外側の部分についてインダクタとシリコン基板との間に挿入された、導電体層からなるシールドとで構成される。 - 特許庁
In the optical information medium having the information recording surface on the disk-like support base body having a center hole and the light transmission layer containing a resin on the information recording surface and used so that the laser beams for recording or reproduction are made incident through the light transmission layer, a plurality of recessed parts are formed at the outer peripheral end part in the information recording surface of the disk-like substrate.例文帳に追加
中心孔を有するディスク状の支持基体上に、情報記録面を有し、この情報記録面上に、樹脂を含有する光透過層を有し、この光透過層を通して記録または再生のためのレーザー光が入射するように使用される光情報媒体であって、ディスク状の支持基体の情報記録面の外周端部に複数の凹部が形成されていることを特徴とする光ディスク。 - 特許庁
The semiconductor module for power conversion comprises an insulating substrate (10), an electrode wiring layer (11A) provided on one major surface thereof, and a switching element (12) and a circulation diode (13) mounted on the electrode wiring layer wherein thermal resistance against diffusion of heat generated from the circulation diode is lower than thermal resistance against diffusion of heat generated from the switching element.例文帳に追加
絶縁基板(10)と、その一方の主面上に設けられた電極配線層(11A)と、その電極配線層の上にマウントされたスイッチング素子(12)及び還流ダイオード(13)と、を備えた電力変換用の半導体モジュールであって、還流ダイオードにおいて生じた熱の拡散に対する熱抵抗が、スイッチング素子において生じた熱の拡散に対する熱抵抗よりも小さいものとする。 - 特許庁
The optical element has at least one layer made of low refractive index material 105 and a layer made of high refractive index material 107 formed alternately as a damage suppression film, on a substrate 101 made of a thermoplastic transparent resin cycloolefin polymer having oxidation preventive function, wherein at least the layers made of high refractive index material are formed on the condition that the plasma is generated.例文帳に追加
低屈折率材料(105)から成る層および高屈折材料(107)から成る層を、交互に少なくとも一層ずつ、酸化防止機能を有する熱可塑性透明樹脂シクロオレフィンポリマーから成る基板(101)上に損傷抑制膜として形成した光学素子であって、少なくとも高屈折率材料から成る層がプラズマ状態を発生させた条件で成膜されたものである。 - 特許庁
This tacky adhesive label for the hard disk drive having an information displaying part on one side of a substrate and an adhesive layer on the other side, capable of reducing the generated sound at the time of driving the hard disk drive by being stuck to the outside of a casing of the hard disk drive, has a function of reducing the adhesive strength of the adhesive layer by heating.例文帳に追加
ハードディスクドライブ用粘着ラベルは、基材の片面に情報表示部を有し、且つ他面に粘着剤層を有しており、ハードディスクドライブの筐体外面に貼付されることでハードディスクドライブ駆動時の発生音を低減することが可能なハードディスクドライブ用粘着ラベルであって、前記粘着ラベルは、粘着剤層による粘着力が加熱により低減する機能を有していることを特徴とする。 - 特許庁
The member has the surface coating layer and is to be used in electrophotography, and the surface coating layer is formed by coating the cylindrical or columnar substrate with a paint composition containing solid particles by an air spray method and has an arithmetic average roughness Ra of 0.4 to 3.5μm, and the paint composition induces ultrasonic waves by oscillation when being made particulate by the air spray method.例文帳に追加
表面被覆層を有する電子写真法に用いられる部材であって、該部材は、円筒状もしくは円柱状の基体上に固体粒子を含有する塗料組成物をエアースプレー法により塗布し、算術平均粗さRaが0.4〜3.5μmの表面被覆層を形成したものであり、該塗料組成物は該エアースプレー法により微粒子化される際に超音波が発振されていることを特徴とする。 - 特許庁
The image display device for the photon emission suppressing element base board is equipped with a substrate which has one one surface an array of subpixels each equipped with two opposite electrodes and a light emission layer interposed between the electrodes and capable of photon emission with light emitted by an exciting light source and the photon emission of the light emission layer can be suppressed under the control of an electric field produced by the electrodes.例文帳に追加
互いに対向する二つの電極、及び前記電極間に介在されて励起光源から照射された光による光子発光が可能な発光層を具備したサブピクセルが一面に配列された基板を具備するが、前記発光層の光子発光は前記電極によって形成される電場によって制御可能に抑制できる光子発光抑制素子基盤の画像表示装置。 - 特許庁
To provide a method whereby a porous structural body can be manufactured, wherein the porous structural body has a good texture such as flexibility, elasticity, resilience and fuzzy texture, has a polyurethane layer uniformly dispersed in a fibrous substrate and has a dense, uniform porous structure excellent in stability (heat resistance and wet heat resistance) formed in the polyurethane resin layer, despite the use of an aqueous polyurethane resin.例文帳に追加
水系ポリウレタン樹脂を用いているにも拘らず、繊維基材内部にポリウレタン樹脂層が均一に分散しており、しかもそのポリウレタン樹脂層中に緻密かつ均一で安定性(耐熱性及び耐湿熱性)にも優れた多孔性構造が形成されており、柔軟性、弾力性、反発感及び立毛感といった風合いの良好な多孔性構造体を製造することが可能な方法を提供すること。 - 特許庁
In the recording material for ink jet having a constitution wherein at least one ink receiving layer containing inorganic particulates, a cationic compound and a hydrophilic binder is provided on a substrate, the ink receiving layer contains a basic metal compound A hard to dissolve in water and printing is made with ink containing a complex salt forming compound B reacting to form a complex salt with the basic metal compound A.例文帳に追加
支持体上に無機微粒子、カチオン性化合物、および親水性バインダーを含有するインク受容層を少なくとも一層設けたインクジェット用記録材料において、該インク受容層が、水に難溶な塩基性金属化合物(A)を含有しており、該塩基性金属化合物(A)と錯塩形成反応する錯塩形成化合物(B)を含有するインクにより印字されることを特徴とするインクジェット用記録材料。 - 特許庁
The antireflection laminate has a low refractive index layer on a transparent substrate, wherein the low refractive index layer is a cured product of a coating agent containing a monomer (a) having an acryloyl or methacryloyl group and an epoxy or amino group, an acryl or methacryl modified and amino or epoxy modified dimethylsilicone oil (b) and hollow silica fine particles (c).例文帳に追加
透明基材上に低屈折率層を有する反射防止積層体であって、前記低屈折率層が、アクリロイル基若しくはメタクリロイル基、及び、エポキシ基若しくはアミノ基を、有するモノマー(a)、アクリル変性若しくはメタアクリル変性、及び、アミノ変性若しくはエポキシ変性の、ジメチルシリコーンオイル(b)、並びに中空シリカ微粒子(c)を含有する、コーティング剤の、硬化物であることを特徴とする反射防止積層体。 - 特許庁
To realize a method of manufacturing a semiconductor device, where a layer which is liable to adhere uniformly to the surface of a high permittivity oxide film, and an NSG film of a TEOS material can be uniformly grown in a manufacturing method, where a lower electrode layer, a high permittivity oxide film, and an NSG film of TEOS material material are successively formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板上に下部電極層、高誘電率酸化膜、TEOS原料を用いたNSG膜を順次形成する工程を含む半導体素子の製造方法において、高誘電率酸化膜表面に均一に吸着しやすい層を形成することができ、そのためTEOS原料を用いたNSG膜を均一に成長させることが可能となる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
By pressing this circular arc with a fine pattern 3 formed for the circumstance of the mask substrate 2 to a photosensitive resin layer to which this fine pattern 3 is transferred by exposure, the interval between the fine pattern 3 and photosensitive resin layer can be controlled to be shorter than the wavelength of exposure light so that the fine pattern 3 can be transferred satisfactorily by exposure.例文帳に追加
マスク基体2の外周面の微細パターン3が形成された円弧形状部分をこの微細パターン3を露光転写しようとする感光性樹脂層に押し当てることにより、微細パターン3と感光性樹脂層との間隔を露光光の波長以下に抑えることができ、露光光として近接場光を用いた露光転写を行うことができ、微細パターン3の露光転写を良好に行うことができる。 - 特許庁
The method for manufacturing the semiconductor device having a structure with a crystalline semiconductor layer with a catalitic element added, a gate insulating film, and a gate electrode laminated on an insulating substrate in this order includes a light irradiating process for irradiating the light that passes through the crystalline semiconductor layer and is absorbed by the gate electrode to the gate electrode.例文帳に追加
絶縁基板上に、触媒元素が添加された結晶性半導体層、ゲート絶縁膜及びゲート電極がこの順に積層された構造を有する半導体装置の製造方法であって、上記製造方法は、結晶性半導体層を透過し、かつゲート電極に吸収される光をゲート電極に対して照射する光照射工程を含む半導体装置の製造方法である。 - 特許庁
In an MIS(Metal Insulator Semiconductor) type semiconductor device by the manufacturing method of forming a mixed layer composed of Si and one or more kinds of metal elements, oxidizing the mixed layer, and forming a gate insulation film; a high capacity MIS transistor element with suppressed low dielectric constant SiO_2 formation is manufactured between an Si single crystal substrate and the gate insulation film.例文帳に追加
本発明は、MIS(Metal Insulator Semiconductor)型半導体装置において、Siと一種以上の金属元素からなる混合層を形成し、前記混合層を酸化処理しゲート絶縁膜を形成する製造方法により、Si単結晶基板とゲート絶縁膜間に低誘電率なSiO_2形成を抑制した高容量なMISトランジスタ素子を作製することができるものである。 - 特許庁
The liquid crystal display is provided with gate electrode wiring 2 formed on a transparent insulating substrate 1, a gate insulating film 3 covering the gate electrode wiring 2, a semiconductor layer 10 formed on the gate insulating film 3, a source electrode 6b, source wiring 6a and a drain electrode 7 which are formed on the semiconductor layer 10 and a pixel electrode 9 connected to the drain electrode 7.例文帳に追加
本発明に係る液晶表示装置は、透明絶縁基板1上に形成されたゲート電極・配線2と、ゲート電極・配線2を覆うゲート絶縁膜3と、ゲート絶縁膜3上に形成された半導体層10と、半導体層10上に形成されたソース電極6b、ソース配線6a及びドレイン電極7と、ドレイン電極7に接続された画素電極9とを備えたものである。 - 特許庁
In the method of manufacturing the while light emitting organic electroluminescent element which has an anode, a cathode, and a light emitting layer including at least one layer of phosphorescent light emitting dopant between the anode and cathode formed on a substrate, a direct current having current density 5-50 times that during drive is applied for one second or longer to ten minutes or shorter to actualize aging.例文帳に追加
基板上に少なくとも陽極、陰極、及び該陽極と陰極間に少なくとも1層のリン光発光ドーパントを含む発光層を有する白色発光有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、駆動時の5〜50倍の電流密度の直流電流を1秒以上10分以下印加することでエージングすることを特徴とする白色発光有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 特許庁
An inlay lens 109 having a convex lens shape only downward is formed without increasing a distance between an on-chip micro lens 112 and a silicon substrate as a lens formation region, by realizing high refractive index in a metallic ion implantation region alone in a first flattening layer 108 by injecting metallic ion into the first flattening layer 108 of an existing interlaminar film without using an inlay lens material.例文帳に追加
層内レンズ材料を用いずに、既存層間膜の第1平坦化層108中に金属イオンを注入することによって、第1平坦化層108中の金属イオン注入領域のみ高屈折率化してレンズ形成領域として、オンチップマイクロレンズ112とシリコン基板間の距離を増加させることなく、下にのみ凸形状のレンズ形状を持つ層内レンズ109を形成する。 - 特許庁
The method of manufacturing a silicon carbide semiconductor device includes a deteriorated layer removal step, wherein the deteriorated layer formed by annealing for activating impurities ion-implanted to the silicon carbide substrate is removed by executing, in order, a first etching step of anisotropic plasma etching using an inert gas and a second etching step of isotropic plasma etching using an inert gas.例文帳に追加
炭化珪素基板にイオン注入された不純物を活性化するためのアニールを行う際に形成された変質層を、不活性ガスを用いた異方性プラズマエッチングによる第1エッチング工程と、不活性ガスを用いた等方性プラズマエッチングによる第2エッチング工程とをこの順序で実施することにより除去する変質層除去工程を含むことを特徴とする炭化珪素半導体装置の製造方法。 - 特許庁
In the method of manufacturing the wiring board, the oxidized film on the outermost surface of the tantalum nitride layer provided on the substrate is etched and, at the same time, the azole compound is stuck to the surface of the tantalum nitride layer by treating the oxidized film with a mixed aqueous solution of an acidic etchant and the azole compound.例文帳に追加
アゾール化合物と酸性溶液とを混合したエッチング剤兼防錆剤、基体上に窒化タンタル層、不可避的窒化タンタル酸化物層及びアゾール化合物からなる防錆層を順次有する配線用基板、及び基体上の窒化タンタル最表面の酸化膜を酸性エッチング液とアゾール化合物の混合水溶液で処理して、酸化膜のエッチングと同時にアゾール化合物を表面に付着させる配線用基板の製造方法。 - 特許庁
The optical laminate provided with at least a hard coat layer on a light transmission substrate comprises a first resin and a second resin, wherein the first resin has a refractive index and a hardening speed respectively different from those of the second resin, and the uppermost surface of the hard coat layer has the rugged shape formed by a hardened material of the first resin and the second resin.例文帳に追加
本発明は、光透過性基材の上に、ハードコート層を少なくとも有してなる光学積層体であって、第1の樹脂と第2の樹脂とを含んでなり、第1の樹脂と第2の樹脂とは、屈折率と硬化速度がそれぞれ相違するものであり、前記ハードコート層の最表面が、第1の樹脂と第2の樹脂との硬化物により凹凸形状を有してなる、光学積層体を提案する。 - 特許庁
In the thermal recording material wherein a thermal coloring layer comprising a normally colorless or light-colored coloring compound and a developing compound capable of developing the color of the coloring compound in heating is provided on a substrate, the thermal coloring layer comprises a compound shown by formula (1) or the like and 3,5-di(α-methylbenzyl)zinc salicylate, as the developing compound.例文帳に追加
通常無色ないし淡色の発色性化合物、該発色性化合物を熱時発色させうる顕色性化合物を含有する感熱発色層を支持体上に設けた感熱記録材料において、該感熱発色層が顕色性化合物として下記式(1)等で示される化合物のいずれかと、3,5−ジ(α−メチルベンジル)サリチル酸亜鉛を含有することを特徴とする感熱記録材料。 - 特許庁
When a photosensitive insulating resin is used as the surface protective layer of a circuit wiring pattern on the substrate, or when the photosensitive insulating resin is used as an insulation layer between circuit wiring conductor layers; multivalent metal substitutes for Na ions adsorbed to the photosensitive insulating resin by subjecting to a treatment process containing the Na ions performed after a thermosetting process of the photosensitive insulating resin.例文帳に追加
回路基板に於ける回路配線パタ−ンの表面保護層として感光性絶縁樹脂を用いる場合、又は回路配線導体層間の絶縁層として感光性絶縁樹脂を用いる場合、その感光性絶縁樹脂の熱硬化処理工程以後に行われるNaイオンを含む処理工程を経由することにより感光性絶縁樹脂に吸着されるNaイオンを多価金属に置換する。 - 特許庁
The hard coat film or sheet is characterized by preparing two tier hard coat lamination of first and second hard coat layers in sequence on at least one surface side of a transparent plastic film or sheet substrate; wherein the first hard coat layer is a cured resin film comprising a blend of a radical polymerization resin and a cationic polymerization resin, and the second hard coat layer is a cured resin film comprising solely the radical polymerization resin.例文帳に追加
透明プラスチックフィルムもしくはシート基材の少なくとも一方の面に、第1のハードコート層としてラジカル重合型樹脂とカチオン重合型樹脂のブレンドから成る硬化樹脂層を設けた後、さらに、その上に第2のハードコート層としてラジカル重合型樹脂のみで構成される硬化樹脂の薄膜からなる2層構成のハードコート層を設けることを特徴とするハードコートフィルムもしくはシートである。 - 特許庁
The manufacturing method has a voltage application process for sequentially stacking the transparent electrode 3, an insulation layer 3, the organic layer 5 and the back electrode 6 on the glass substrate 2, and thereafter separating a part where at least the back electrode 6 is in contact with the transparent electrode 3 from the transparent electrode 3 by applying a reverse bias voltage between both electrodes 3 and 6 in a nitrogen environment having a predetermined oxygen concentration.例文帳に追加
ガラス基板2上に透明電極3,絶縁層3,有機層5及び背面電極6を順次積層した後、所定の酸素濃度を有する窒素雰囲気中にて、両電極3,6間に所定の逆バイアス電圧を印加することで、少なくとも背面電極6が透明電極3に接触している部分を透明電極3から剥離させる電圧印加工程を有している。 - 特許庁
A dicing adhesive sheet is constituted by sequentially bonding a first adhesive layer having the property of allowing adhesive strength to be hardly changed by ultraviolet irradiation, a transparent base sheet having high light resistance relative to ultraviolet or visible laser light, a second adhesive layer having the property of allowing adhesive strength to be extremely deteriorated by the ultraviolet irradiation, and a peeling sheet to one surface side of a hard substrate having light transparency.例文帳に追加
透光性を有する堅固な基板上の一方の面側に順次、紫外線照射で接着強度がほとんど変化しない特性を有する第一粘着層、紫外線あるいは可視光のレーザ光に対して高い耐光性を有する透明基材シート、紫外線照射で接着強度が著しく低下する特性を有する第二粘着層、および剥離シートを接合してダイシング用粘着シートを構成した。 - 特許庁
A luminescence section 16 constituted of a transparent electrode formed with a transparent electrode material such as ITO, a luminescent layer laminated on the transparent electrode and made of an EL material and a back electrode laminated on the luminescent layer to face the transparent electrode and a sealing body 20 covering and sealing the luminescence section 16 from the outside are provided on the surface of a transparent substrate 12 made of glass or a resin.例文帳に追加
ガラスや樹脂等の透明な基板12の表面にITO等の透明な電極材料により形成された透明電極と、この透明電極に積層され、EL材料からなる発光層と、この発光層に積層され、透明電極に対向して形成された背面電極から成る発光部16を有し、発光部16を覆い外界から密封する封止体20とを備える。 - 特許庁
To provide a production method wherein a manufacturing process is simplified more greatly compared with a conventional physical magnetic layer processing type by eliminating a magnetic layer removal step and a contamination risk is small, and a useful discrete track type magnetic recording medium having high head floating characteristics, regarding a magnetic recording medium having a magnetically separated magnetic recording pattern in at least one surface of a nonmagnetic substrate.例文帳に追加
非磁性基板の少なくとも一方の表面に、磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体において、従来の物理的な磁気層加工型と比較しその磁性層除去工程を排除することにより格段に製造工程を簡略化し、かつ汚染リスクがすくない製造方法と、ヘッド浮上特性に優れた有用なディスクリートトラック型磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition which, when a photosensitive resin composition layer comprising a photosensitive resin composition is formed on a substrate, forms a photosensitive resin composition layer which has low tackiness and excellent workability, is alkali-developable with high resolution, can form a cured film having small warpage and excellent flexibility after curing, and can impart flame retardancy, and to provide a photosensitive element using the composition.例文帳に追加
基板上に感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層を形成した際に、感光性樹脂組成物層のタック性が小さく作業性に優れ、また高解像度でアルカリ現像可能であり、また硬化後に、反りが小さく可撓性に優れた硬化膜を形成でき、また難燃性を付与することも可能な感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメントを提供する。 - 特許庁
The radiation image detector where the voltage application electrode 1 applied with the voltage, the semiconductor layer 2 irradiated with radiation to generate electric charges, and a substrate 7 provided with electrodes 8 and 9 for detecting an electric signal corresponding to a dose of radiation are stacked is provided with a charge injection inhibition layer 15 on upper surfaces of the electrodes 8 and 9 provided at positions opposed to ends of the voltage application electrode 1.例文帳に追加
電圧が印加される電圧印加電極1と、放射線の照射を受けて電荷を発生する半導体層2と、放射線量に応じた電気信号を検出するための電極8,9が設けられた基板7とが積層された放射線画像検出器において、電圧印加電極1の端部に対向する位置に設けられた電極8,9の上面に電荷注入阻止層15を設ける。 - 特許庁
In the hard coat film having a hard coat layer on a film substrate a hard coat film forming material contains at least one kind of a polyfunctional acrylate and a cationic polymerizable compound, wherein the ratio by mass of the content of a radical polymerizable compound and the content of the cationic polymerizable compound in the hard coat layer forming material is expressed by (radical polymerizable compound):(cation polymerizable compound)=(85:15)-(98:2).例文帳に追加
フィルム基材上にハードコート層を有するハードコートフィルムにおいて、ハードコート層形成材料が多官能アクリレートとカチオン重合性化合物を少なくとも1種含有し、該ハードコート層形成材料のラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物の含有質量比率が、ラジカル重合性化合物:カチオン重合性化合物=85:15〜98:2であることを特徴とするハードコートフィルム。 - 特許庁
The defect detector comprises: XY coordinate transformation means 112 as coordinate transformation means for exciting an epitaxial growth substrate 17 where a compound semiconductor layer is grown epitaxially on a single crystal substrate by applying exciting light from above and then mapping the light emission intensity of photoluminescence over the whole epitaxial growth substrate; and defect detection means 113 for sequentially detecting defective pixels by using the difference between multiple pixels divided into coordinates by the coordinate transformation means 112 and multiple pixels adjacent thereto.例文帳に追加
単結晶基板上に化合物半導体層をエピタキシャル成長させたエピタキシャル成長基板17の上方より励起光を照射して励起した後に、フォトルミネッセンスによる発光強度のマッピングをエピタキシャル成長基板全体に渡って行う座標変換手段としてのXY座標変換手段112と、座標変換手段112により座標に分割された複数のピクセルのそれぞれとこれに隣接する複数ピクセルとの差を用いて、欠陥検出すべきピクセルが欠陥ピクセルかどうかを順次検出する欠陥検出手段113とを有している。 - 特許庁
In the method of manufacturing the patterned media having a substrate, the porous layer existing on the substrate and having a plurality of pores nearly vertical to the surface of the substrate and the magnetic material filled in the pores, the magnetic material is filled in the pores by pouring a supercritical fluid or a subcritical fluid in the pores using the supercritical fluid or the subcritical fluid containing magnetic material containing particles.例文帳に追加
基板と、前記基板上にあり、前記基板面に対して略垂直な複数の細孔を有する多孔質層と、前記細孔内に充填された磁性体と、を有するパターンドメディアを製造する方法であって、前記磁性体を前記細孔内に充填する際に、磁性体含有粒子を含む超臨界流体または亜臨界流体を用い、前記超臨界流体または亜臨界流体を前記細孔内に流入させることで前記磁性体を前記細孔内に充填することを特徴とするパターンドメディア製造方法。 - 特許庁
The method of fabricating the ceramic substrate includes: preparing a firing theta; forming a ceramic laminate comprising an internal confinement layer on the firing theta; forming a temperature-compensation ceramic layer on at least one of a top surface of the ceramic laminate and a bottom surface of the ceramic laminate contacting the firing theta, the temperature-compensation ceramic layer having a different initial firing shrinkage temperature than the ceramic laminate has; and firing the ceramic laminate.例文帳に追加
本発明の一実施例によると、本発明は焼成セッターを設けるステップと、前記焼成セッター上に内部拘束層が備えられたセラミック積層体を形成するステップと、前記セラミック積層体の上部面及び前記焼成セッターと接する前記セラミック積層体の下部面のうち少なくとも1つに前記セラミック積層体とは異なる焼成収縮開始温度を有する温度補償用セラミック層を提供するステップと、前記セラミック積層体を焼成するステップと、を含むセラミック基板の製造方法及びこれを用いて製作したセラミック基板を提供する。 - 特許庁
The optical disk system is provided with the optical disk constituted of forming the image recording layer capable of drawing an image by irradiating a substrate with laser light and having prepits of 0.6 to 0.9 μm shortest pit length on the substrate and a reading means for irradiating the prepits of the optical disk with laser light of 630 to 680 nm wavelength and reading information included in the prepits by return light of the laser light.例文帳に追加
基板上に、レーザー光の照射により画像の描画が可能な画像記録層が形成され、かつ前記基板上に最短ピット長が0.6〜0.9μmのプリピットを有する光ディスクと、前記光ディスクのプリピットに波長630〜680nmのレーザー光を照射するとともに、前記プリピットに含まれる情報を前記レーザー光の戻り光により読み取る読み取り手段と、を備えることを特徴とする光ディスクシステムである。 - 特許庁
In the process for fabricating a solid electrolytic capacitor element comprising a step for forming a masking on a part of a positive electrode substrate having a dielectric film on the surface to section that surface, and forming a solid electrolyte layer in at least a partial region on the surface of the positive electrode substrate sectioned by masking, a step performing formation processing in a region including the fringe of masking after forming the masking is included.例文帳に追加
表面に誘電体皮膜を有する陽極基材の一部にその表面を区画するようにマスキングを形成し、マスキングで区画された陽極基材表面の少なくとも一部の領域に固体電解質層を形成する工程を含む固体電解コンデンサ素子の製造方法において、前記マスキングの形成後にマスキングの縁部を含む領域に化成処理を施す工程を含むことを特徴とする固体電解コンデンサ素子の製造方法。 - 特許庁
A sheet-like substrate, a heat-sensitive recording layer which is formed on the sheet-like substrate and contains a colorless or light-colored dye-precursor and a developer for reversibly coloring and decoloring the same, and further as the developer, a compound containing at least one ethynyl group in one molecule and at least one ≥11C long chain hydrocarbon group contained is provided in a reversible heat-sensitive recording body.例文帳に追加
シート状支持体と、このシート状支持体上に形成され、かつ無色または淡色の染料前駆体、およびこれを可逆的に発色および消色させる顕色剤を含む感熱記録層とを有し、さらに前記顕色剤として、一分子中に少なくとも1つエチニル基と、炭素原子数が11以上の長鎖炭化水素基を少なくとも1つ有する化合物を含むことを特徴とする可逆性感熱記録体。 - 特許庁
To provide a stainless steel sheet suitable for members requiring a minute surface such as a HDD member and a semiconductor layer forming substrate including a thin film silicon type solar battery substrate, and having reduced surface flaws to exhibit excellent detergency in a cleaning step performed in a clean environment as being the naked surface of the stainless steel sheet even without performing surface treatment such as electroless Ni plating by a means suitable for mass production.例文帳に追加
HDD部材や、薄膜シリコン型太陽電池基板をはじめとする半導体層形成基板などの、精緻な表面が要求される部材に適したステンレス鋼板であって、無電解Niめっき等の表面処理を施さなくても、ステンレス鋼板の裸の表面のままで、クリーン環境下で行われる洗浄工程で優れた洗浄性を呈する表面キズが少ないステンレス鋼板を大量生産に適した手法にて提供する。 - 特許庁
The copper foil for the printed wiring board is set to be used while stuck on a surface of the insulating substrate 4, and a flattening copper plating layer 2 which gives a kurtosis Rku of ≤4 and a skewness Rsk of ≤0 to a roughness curve, defined by JIS B0601-2001, of a surface set to be stuck on the insulating substrate 4 is provided on an original foil 1.例文帳に追加
絶縁性基板4の表面に対して張り合わされて用いられるように設定されたプリント配線板用銅箔であって、前記絶縁性基板4に対して張り合わされるように設定された面のJIS B0601−2001で定義される粗さ曲線のクルトシスRkuを4以下にすると共にJIS B0601−2001で定義される粗さ曲線のスキューネスRskを0以下にする平坦化銅めっき層2を、原箔1上に設ける。 - 特許庁
To structure a coolant chamber accurately without generating inconvenient deformation on a substrate even through an assembling process in conjunction with heat treatment of a power conversion circuit part without depending on a shape and arrangement of a heat radiation projection in order to improve cooling performance in manufacturing a power semiconductor module in which a power conversion circuit is formed on a metal-insulating layer bonded substrate and a liquid-cooling type cooling device is structured on a metal base side.例文帳に追加
金属−絶縁層接合基板上に電力変換回路が構成され金属ベース側に液冷式冷却装置が構成されるパワー半導体モジュールを製造するにあたり、放熱突起の形状や配置に依存することなく、電力変換回路部の熱処理を伴う組立工程を経ても当該基板に不都合な変形を生じさせることなく精度よく冷却液室を構成し、もって冷却性能の向上を図る。 - 特許庁
The capacitive touch panel has a structure where at least a transparent conductive film and a dielectric layer are laminated onto a transparent substrate, and a member for position detection comprising at least a wiring portion for position detection and electrodes for position detection is arranged at a substrate frame portion, where the transparent conductive film is composed of oxide having indium oxide as a main component and containing gallium and tin.例文帳に追加
透明基板上に、少なくとも透明導電膜と、誘電体層とが積層されており、該基板額縁部に少なくとも位置検出用配線部並びに位置検出用電極からなる位置検出用部材が配置された構造を有する静電容量式タッチパネルであって、前記透明導電膜が酸化インジウムを主成分とし、ガリウムおよびスズを含む酸化物からなることを特徴とする静電容量式タッチパネルなどによって提供。 - 特許庁
To accurately, efficiently, and inexpensively form a good conductive pattern having excellent adhesibility to a transparent substrate by using ultraviolet curing resin paste at the time of manufacturing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material, by forming the conductive pattern by forming a plated layer by electroless plating on a resin pattern formed by printing resin paste containing an electroless plating catalyst on the transparent substrate and curing the paste.例文帳に追加
透明基板上に無電解めっき触媒を含む樹脂ペーストをパターン印刷し、これを硬化させて形成された樹脂パターン上に、無電解めっきによりめっき層を形成して導電性パターンを形成することにより電磁波シールド性光透過窓材を製造するに当たり、紫外線硬化性樹脂ペーストを用いて、透明基材への密着性に優れた良好な導電性パターンを精度良く、効率的かつ低コストに形成する。 - 特許庁
When the source-drain diffusion layer of an MOSFET is formed, a gate electrode 13 having a sidewall is formed at first and In or As ions are implanted from a direction aligned with the orientation face of a substrate 1 using the gate electrode 13 as a mask thus forming a deep SD region 24 having a channeling tail of small concentration gradient in the depth direction of the substrate.例文帳に追加
MOSFETのソース・ドレイン拡散層を形成するにあたって、まず側壁を有するゲート電極13を形成し、これをマスクとし且つ基板11の配向面と整合した方向からIn又はAsイオン注入を行って、基板深さ方向に濃度勾配が小さなチャネリングテールを有するディープSD領域24を形成し、次いで、B又はAsの通常のイオン注入によってソース・ドレイン領域25を形成する。 - 特許庁
A solar cell manufacturing method includes the steps of coating a front surface of a semiconductor substrate with a dispersing agent containing either a p-type dopant or an n-type dopant, performing heat treatment on the dispersing agent to solidify the dispersing agent, partially removing and patterning the solidified dispersing agent, and dispersing the dopant from the patterned dispersing agent to form a dispersion layer on the front surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板の表面上にp型ドーパントまたはn型ドーパントのいずれか一方を含む拡散剤を塗布する工程と、拡散剤を熱処理することによって固化させる工程と、固化した拡散剤の一部を除去して拡散剤をパターンニングする工程と、パターンニングされた拡散剤からドーパントを拡散させることにより半導体基板の表面に拡散層を形成する工程と、を含む、太陽電池の製造方法である。 - 特許庁
The electrode of measuring the thioredoxins is characterized in that a reaction layer having at least thioredoxin reductase and thioredoxin reproducing enzyme is arranged on a conductive substrate and succeedingly detects and measurs the electrical signal of the intensity depending on the concentration of thioredoxin without attenuating the intensity of the electrical signal with the elapse of time so far as a reproducing substrate is present even if the amount of thioredoxin contained in a measuring sample is very little.例文帳に追加
導電性基体上に、チオレドキシンレダクターゼ及びチオレドキシン再生酵素を少なくとも有する反応層を配置したことを特徴とし、測定試料中に含まれるチオレドキシンの量が微量であっても、再生基質が存在する限り、電気的信号強度が時間経過とともに減衰することなく、チオレドキシンの濃度に依存した強度の電気的信号を継続して検出・測定することが出来るチオレドキシン類測定用電極を提供する。 - 特許庁
In the substrate for the magnetic recording medium with the soft magnetic layer, the value of coercive force to a direction of a concentric circle within a substrate plane obtained by measurement of VSM magnetization is smaller than 30 oersted, and a ratio of the saturation magnetization and residual magnetization ranges from 50:1 to 5:1.例文帳に追加
直径90mm以下の基板と、該基板上に設けられ、CoとNiとFeからなる一群から選ばれる二以上を含む合金を含有する軟磁性膜メッキ層とを含んでなる磁気記録媒体用基板であって、VSM磁化測定により得られる基板平面内の同心円方向に対する保磁力の値が30エルステッド未満であり、かつその飽和磁化と残留磁化の比率が50:1から5:1である軟磁性層付き磁気記録媒体用基板を提供する。 - 特許庁
The magnetic recording medium includes a nonmagnetic substrate, an underlayer formed on the substrate and at least one magnetic recording layer formed on the underlayer.例文帳に追加
非磁性支持体と、該非磁性支持体の上方に形成される下地層と、該下地層の上方に形成された磁気記録層を少なくとも1層含む磁気記録媒体であって、前記磁気記録層には、Co(α)Cr(β)Pt(γ)B(δ)Cu(ε)の組成で示されるコバルト、クロム、白金、硼素及び銅を含む合金で形成された合金磁気記録層を少なくとも1層含み、前記合金磁気記録層の層厚tと残留磁束密度Brとの積t・Brが2.0〜7.0nTmである。 - 特許庁
The method of manufacturing the liquid crystal alignment layer having the plurality of the pores formed to vertically or substantially vertically to the substrate has a process for forming a structural thin film dispersed in a member containing silicone, germanium or silicon and germanium obtained by forming eutectic with aluminum by a columnar substance containing aluminum on a substrate, and a process for forming the plurality of pores by removing the columnar substance.例文帳に追加
基板に対して垂直又はほぼ垂直に形成した複数の細孔を有する液晶配向膜の製造方法であって、基板上に、アルミニウムを含有する柱状物質が、前記アルミニウムと共晶を形成し得るシリコン、ゲルマニウムあるいはシリコンとゲルマニウムを含有する部材中に分散している構造体薄膜を形成する工程と、前記柱状物質を除去して複数の細孔を形成する工程を有する。 - 特許庁
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