「surface d」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

The outer wall surface 11a of the side-ditch upper wall 11 is inclined 6 mm (d=6 mm, gradient 0.3%), and the inner bottom surface 12a of the side-ditch lower wall 12 is inclined 4 mm in the same direction as the side-ditch upper wall 11 (d'=4 mm, gradient 0.2%).例文帳に追加

そして、側溝上部壁１１の外壁面１１ａは６ｍｍ傾斜しており（ｄ＝６ｍｍ、０．３％勾配）、一方、側溝下部壁１２の内底面１２ａは、側溝上部壁１１と同一方向へ４ｍｍ傾斜している（ｄ’＝４ｍｍ、０．２％勾配）。 - 特許庁

If the thickness of a developer layer on a developer carrier 3 in a position opposite to an image carrier 1 is (a) and the distance between the surface of the developer carrier in the position opposite to the image carrier 1 and the surface of the image carrier is d, 0.6≤a/d<1.0 is satisfied.例文帳に追加

像担持体１との対向位置における現像剤担持体３上の現像剤層の厚さをａ、像担持体１との対向位置における現像剤担持体表面と像担持体表面との距離をｄとしたとき、 ０．６≦ａ／ｄ＜１．０ であることを特徴とする。 - 特許庁

An adhesive agent applying surface 10b is formed on one surface of an exterior sheet 10 attached to a group of electric wires D to constitute a wire harness W/H, wherein the dimensions of opposing two edge members 10A-1 and 10A-2 are made so as to suit the dimensions of the wire group D to be sheathed.例文帳に追加

ワイヤハーネスＷ／Ｈを構成する電線群Ｄに取り付ける外装用シート１０の一面に粘着剤塗布面１０ｂを設けると共に、対向する二辺１０Ａ−１、１０Ａ−２の寸法を外装する電線群Ｄの寸法に適合した寸法としている。 - 特許庁

The preset reference wire correction amount d is set so as to correspond to the appropriate value of the wire diameter correction amount on a speed control surface, and an adjustment amount on the upper surface/lower surface of the workpiece is made to be proportional to (1-Lu/Lm), (1-L1/Lm).例文帳に追加

予め設定される基準ワイヤ補正量ｄを速度制御面におけるワイヤ径補正量の適正値に対応するように設定し、そのワーク上面／下面における修正量を、（１−Ｌu／Ｌm）、（１−Ｌl／Ｌm）に比例させる。 - 特許庁

The rear surface part 21b of the 1st elevating guide 21 is arranged to intercept the movement of the tablets D and the front end of the inclined surface part 22a of the 2nd elevating guide 22 is brought into contact with a wall surface part 31 of an apparatus body 3.例文帳に追加

そして、第一の昇降ガイド２１の後面部２１ｂが移動しようとする錠剤Ｄを塞き止めるように配置され、第二の昇降ガイド２２の斜面部２２ａの前端が装置本体３の壁面部３１に当接される。 - 特許庁

Light (D) having an angle α to the liquid crystal display panel 13 is emitted from the inner wall surface 22 to the groove 10d, and enters the light guide plate 10 from the inner wall surface 21 to be emitted from the principal surface 10a at the angle α.例文帳に追加

液晶表示パネル１３に対して角度αを持つ光（Ｄ）は、内壁面２２から溝１０ｄに出射され、内壁面２１から導光板１０内に入射して主面１０ａから角度αで出射される。 - 特許庁

In such a case, when the normal line is gradually inclined from the start point of the track toward the end point, the surface VP is deformed into a curved surface VP1 in a shape where the direction of the surface VP is gradually inclined toward the end point with the line 72 remaining as it is (D).例文帳に追加

この場合、軌跡の始点から終点に向かい法線を徐々に傾けると、曲面ＶＰは基準線７２はそのままで終点に向かい徐々に向きが傾けられた形状の曲面ＶＰ１に変形される（Ｄ）。 - 特許庁

The associate method of polishing is such that a polishing fluid is fed to the surface of the pad 10 attached to a rotary surface plate D via a nozzle N and the work to be polished 11 sucked by a rotary head H is pressed to the surface of the pad 10.例文帳に追加

ノズルＮを通じて、回転定盤Ｄ上に貼り付けた研磨パッド１０の表面に研磨液を供給し、回転ヘッドＨに吸着した研磨対象物１１を研磨パッド１０の表面に押し付ける研磨方法。 - 特許庁

The flaws and cracks of various sizes exist on the surface of the glass substrate 10 (a) and therefore after the surface is polished by a precision polishing process (b) and (c), a prescribed amount of the surface layer is removed by anisotropic etching, and thereby the latent flaws are removed (d) and (e).例文帳に追加

ガラス基板１０の表面には大小の傷やクラックが存在するので（ａ）、表面を精密研磨工程により研磨した後（ｂ）、（ｃ）、異方性エッチングにより表層を所定量除去し、潜傷を取り除く（ｄ）、（ｅ）。 - 特許庁

At least one section of either one or all of the working surface 31, the releasing surface 32, the rear surface 33 and the slope 34 of the squeegee is covered with non-adherent substance layers A, B, C and D, and thus, the adhesion of the cream solder 19 may be avoided.例文帳に追加

スキージの作用面３１、逃げ面３２、裏面３３、傾斜面３４のいずれか、もしくは全ての面の少なくとも一部を不粘着物層Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄで覆い、クリーム半田１９の粘着を回避してもよい。 - 特許庁

Then suitable panels are selected from the prepared panels according to the variation of the inside measurement (P_o/Q_o) of the existing waterproof pan 6, and a difference (d) between a surface (front surface) of the wall panel and an inner surface of the water proof pan is adjusted to fall in a predetermined value (e.g. 2.5 mm or less).例文帳に追加

既設防水パン６の内法（Ｐ_０／Ｑ_０）のバラツキに合わせて、それらから適当なものを選んで、壁パネルの表面（前面）と防水パン内法面との差（ｄ）を所定値以内（例えば、２．５ｍｍ以内）に調整する。 - 特許庁

A stereo processing part 8 calculates a distance d from a flying object to the ground surface part for every ground surface part obtainable by dividing the ground surface within an observation range in a matrix form based on stereo images imaged by a stereo camera 5.例文帳に追加

ステレオカメラ５により撮像されたステレオ画像に基づいて、ステレオ処理部８は、観測範囲内の地表を行列状に分割することに得られる地表部分毎に、飛行体から地表部分までの距離ｄを算出する。 - 特許庁

A method for forming the sputtering target comprises: (a) providing a target surface component; (b) providing a core backing component; (c) providing at least one surface area feature which increases the effective surface area of the core backing plate; and (d) coupling the surface target material to the coupling surface of the core backing material.例文帳に追加

スパッタリングターゲットの形成方法は、ａ）ターゲット表面要素を提供することと、ｂ）芯裏打要素を提供することと、ｃ）芯裏打板の有効表面積を増大させる少なくとも１つの表面積形状を提供することと、ｄ）表面ターゲット材料を芯裏打材料の連結面に連結することを備えている。 - 特許庁

The flexion member L5 has an incident surface L5 g on which the light flux passing through the first lens enters, a reflection surface L5 a which bends the light flux incident from the incident surface in a direction along the second optical axis, and an emission surface L5 d which emits the light flux bent by the reflection surface.例文帳に追加

屈曲部材Ｌ５は、第１レンズを通過した光束が入射する入射面Ｌ５ｇと、入射面から入射した光束を第２の光軸に沿った方向に屈曲させる反射面Ｌ５ａと、反射面により屈曲された光束を出射する出射面Ｌ５ｄとを有している。 - 特許庁

A length dimension L in the width direction of the tapered surface 18 is set to 5% or more and less than 11% of an average diameter D of the conical rollers 14.例文帳に追加

テーパ面１８の幅方向の長さ寸法Ｌを、円すいころ１４の平均直径Ｄの５％以上で、１１％未満とする。 - 特許庁

Letting the value obtained by dividing the surface area of the resin substrate by the number of the concave parts be A m^2, the value A/D is at most 1.0×10^-5 m^2/m.例文帳に追加

樹脂基材の表面積を凹部の数で割った値をＡｍ２としたときに、Ａ／Ｄの値が１．０×１０−５ｍ２／ｍ以下である。 - 特許庁

The rugged pattern D is formed by embossing on the outer peripheral surface 1a of the thread, wherein the embossing is performed during molding of the resin fiber thread 1.例文帳に追加

凸凹模様Ｄは、糸外周表面１ａにエンボス加工により形成され、エンボス加工は、樹脂繊維糸１の成形時に行う。 - 特許庁

While the second discharge drive roller 15 is rotated in the forward rotation direction D, such a state that the circumferential surface of the second discharge drive roller 15 is exposed to the discharge path for the recording paper P is maintained.例文帳に追加

その間は、第２排出駆動ローラー１５の外周面が記録紙Ｐの排出経路に露出する状態が維持される。 - 特許庁

The printing machine includes shutters 24 and 25 to enable opening/closing of spaces between a platen 16 and the pressure rollers 17 and 18 or the like of a surface treating device D.例文帳に追加

圧胴１６と表面処理装置Ｄの押圧ローラ１７,１８等との間隙を開閉可能とするシャッター２４，２５が設けられている。 - 特許庁

The first projection part 148 is resiliently deformed and abutting on the left side wall surface of the set holding frame when setting the game board D to the set holding frame.例文帳に追加

この第１突部１４８は、遊技盤Ｄをセット保持枠にセットした際に該セット保持枠の左側壁面に弾性変形して当接する。 - 特許庁

The resin fiber thread 1 is used for bristle material for brushes and has a rugged pattern D on the outer peripheral surface 1a of the thread.例文帳に追加

ブラシ用具のブラシ毛材に用いる樹脂繊維糸１であり、樹脂繊維糸１は、糸外周表面１ａに凸凹模様Ｄを有する。 - 特許庁

Roughness of a surface in the each groove 25 is flattened thereafter by etching to a size of 1/4 or less of wavelength of the light incident into the optical path (Fig.(d)).例文帳に追加

次いで、溝２５の表面の粗さを、エッチングによって、光路に入射される光の波長の１／４以下のサイズに平坦化する（図２（ｄ））。 - 特許庁

The printing machine 1 has the inking units 8a-d equipped with a roller with an ink-repellent coating consisting of a material with a low surface energy.例文帳に追加

印刷機１は、表面エネルギーの低い材料からなる疎インキ性コーティングを持つローラを備えたインキ装置８ａ−ｄを有している。 - 特許庁

The spatula 17 is moved with a pressing force of approximately 3 kg in the state of the retaining angle D of the spatula 17 maintained at approximately 15° relative to the surface of a building material.例文帳に追加

ヘラ１７のおさえ角Ｄは建材の面に対し約１５°に維持した状態で３ｋｇ程度の押圧力でヘラ１７を移動する。 - 特許庁

Since the base pad 100 can suck dust D on the surface plate 12 without using a special suction device, the base pad has a simple structure.例文帳に追加

ベースパッド１００は、特別な吸引装置などを用いることなく、定盤上１２の塵Ｄを吸引できるので構造が簡単である。 - 特許庁

A displacement detection circuit 601 detects the displacement of the height on the surface of the wafer 100 on the basis of detection signals by A/D converters 504, 505.例文帳に追加

変位検出回路６０１は、Ａ／Ｄ変換器５０４，５０５の検出信号からウェーハ１００の表面の高さの変位を検出する。 - 特許庁

The lower side of the second guide surface (54) extends in nearly parallel to a needle dial (D) to prevent the yarn from detouring the back of the cylinder needle (1).例文帳に追加

前記第２案内面（５４）の下辺は、ニードルダイヤル（Ｄ）とほぼ平行に延びており、糸がシリンダー針（１）の背後に廻り込むのを防ぐ。 - 特許庁

On the outer peripheral surface of the cup-side connection terminal 20 provided at the suction type electrode D and consisting of a conductive member, an engaging recessed part 23 is formed.例文帳に追加

吸引式電極Ｄに設けた導電性部材からなるカップ側接続端子２０の外周面に、係合凹部２３が形成される。 - 特許庁

The plane antenna 11 is square and a horizontal distance d is 0.2 times a surface dimension c or larger in the extended direction of the dial 52.例文帳に追加

文字板５２の延在方向において、平面アンテナ１１は正方形であり、平面距離ｄは平面寸法ｃの０．２倍以上である。 - 特許庁

A design face D including an outer surface of the design lip 18 is fitted with a decorative layer 25 consisting of a TPO foamed material.例文帳に追加

意匠リップ１８の外表面を含む意匠面Ｄに、ＴＰＯを発泡させた発泡材料よりなる加飾層２５が取着される。 - 特許庁

The portable information processor 10 is provided with solar cells 11-A to 11-D corresponding to specific wave length on its external surface.例文帳に追加

携帯型情報処理装置１０は、その外側面に特定波長対応太陽電池セル１１−Ａ乃至１１−Ｄが設けられている。 - 特許庁

A voltage signal in a prescribed waveform is given in every prescribed cycle to a pair of electrodes D attached to the surface of a patient body K.例文帳に追加

患者体Ｋの表面に装着される一対の電極Ｄに対して所定波形の電圧信号が所定周期毎に与えられる。 - 特許庁

High transmittance is required for an objective lens 108, and the depth (d) of a blaze-shaped lattice groove affects diffraction efficiency on a diffraction surface.例文帳に追加

対物レンズ１０８は高い透過率が求められ、ブレーズ形状の格子溝深さｄにより、回折面における回折効率に作用する。 - 特許庁

A center distance (d) of the receiving surface of the receiving elements 4a and 4b can be set in a range of a half wavelength (λ/2) from a wavelength (λ) of an ultrasonic wave.例文帳に追加

受信素子４ａ、４ｂの受信面の中心間距離ｄを超音波の波長（λ）から半波長（λ／２）の範囲に設定できる。 - 特許庁

A coating layer C having a photocatalyst is provided on a surface of a part immersed in water of the outboard motor body O in the tilt-down position D.例文帳に追加

チルトダウン位置Ｄに在る船外機本体Ｏの水に浸る部分の表面に，光触媒を有する被覆層Ｃが設けられている。 - 特許庁

The suction part 11 sucks the foam D generated when a photosensitive resist C is dissolved in the alkali treatment liquid B, from the surface treatment apparatus 1.例文帳に追加

吸引部１１は、表面処理装置１から、アルカリ処理液Ｂに感光性レジストＣが溶解する際に発生した泡Ｄを、吸引する。 - 特許庁

A solution of a noble metal is brought into contact with the surface of a measuring object to allow the surface to adsorb noble metal atoms, and a change with time of an absorbance of the noble metal atoms is measured, and activation energy of the noble metal atoms is determined from the change with time of the absorbance, and a surface fractal dimension D of the measuring object is determined from the activation energy.例文帳に追加

貴金属の溶液を測定対象物の表面に接触させることにより貴金属の原子を表面に吸着させ、貴金属原子の吸光度の時間変化を測定し、吸光度の時間変化より貴金属原子の活性化エネルギーを求め、活性化エネルギーより測定対象物の表面フラクタル次元Dを求める。 - 特許庁

An expression L=D×n (n is a natural number) is satisfied, where L (mm) represents a distance between a plurality of stationary spots arrayed on the surface emission laser 43 photoreceptor 11, and D (mm) represents a prescribed interpixel distance on the photoreceptor 11.例文帳に追加

そして複数配列された面発光レーザ４３感光体１１上の静止スポット間距離をＬ（ｍｍ）、感光体１１上の所定の画素間距離をＤ（ｍｍ）とすると、Ｌ＝Ｄ×ｎ（ｎ：自然数）が成り立つ。 - 特許庁

A multitude of movement preventing rectangular grooves G for preventing dust collected in the collecting section C from moving to the drainage holes D side is installed below the drainage holes D on the surface of the rear wall R in two horizontal lines in parallel with each other.例文帳に追加

後壁部Ｒの表面部における排液孔Ｄの下方に、収集部Ｃに収集された塵埃類の排液孔Ｄ側への移動を阻害するための移動阻害用横長溝部Ｇを、多数上下平行状に設ける。 - 特許庁

A joining portion 32, which is located near an upper end of the second casing 30, is tapered so that the width d of a joining surface 34, contacting with the first casing 20, in the thickness direction is smaller than thickness D of a casing wall 38.例文帳に追加

第二筐体３０の上端近傍である接合部３２には、第一筐体２０と接触する接合面３４の厚み方向の幅ｄが、筐体壁面３８の肉厚Ｄより小さくなるように、テーパーが形成されている。 - 特許庁

At least one groove part (58) which is larger in width (W) and depth (D) than the thickness of a game token and matches the axial direction of a roller like return means (52) along its length is provided at least at a part of the outer peripheral surface of the return means (52).例文帳に追加

ローラ状の戻し手段(52)の外周面の少なくとも一部に、遊技メダルの厚みよりも大きい幅(W)及び深さ(D)を有し、長さ方向が前記戻し手段(52)の軸方向と一致する溝部(58)を、少なくとも一つ設けた。 - 特許庁

The heat transfer tube 31 for supplying hot water having an inside diameter D of 8 mm is provided on the inner surface with a plurality of protrusions whose height H1 ranges between 0.8-2.0 mm, or H1 is 0.1-0.25 times as large as D.例文帳に追加

内径（Ｄ）が８ｍｍの給湯用伝熱管３１の管内面に、突起の高さ（Ｈ１）が０．８ｍｍ〜２．０ｍｍの範囲内、または高さ（Ｈ１）が内径（Ｄ）の０．１〜０．２５倍である複数の突起が設けられている。 - 特許庁

In the apparatus for continuous surface treatment of the copper foil, a guide roll is placed between conveying rolls, wherein the distance D (mm) between the rolls satisfies the relation: D(mm)≤150×t (wherein t is thickness (μm) of the copper foil).例文帳に追加

銅箔の連続的表面処理における搬送ロール間にガイドロールを配置し、ロール間の間隔Ｄ（ｍｍ）をＤ（ｍｍ）≦１５０×ｔ（ｔ：銅箔の厚さμｍ）とすることを特徴とする銅箔の連続表面処理装置。 - 特許庁

A developer D and pure water P are supplied from a developer nozzle 33 and a pure water nozzle 40 to the center portion of a wafer W respectively, and a mixed liquid of the developer D and pure water P is spread over the entire surface of the wafer (Fig.4(a)).例文帳に追加

現像液ノズル３３と純水ノズル４０からウェハＷの中心部に現像液Ｄと純水Ｐをそれぞれ供給し、現像液Ｄと純水Ｐの混合液ＣをウェハＷ全面に拡散させる（図４（ａ））。 - 特許庁

In a brace A, its cylindrical main body 1 is clamped on a pole D by a band 6, to provide it protrusively on the surface of the pole D, and the base portion of a cylindrical arm metal 10 having a square section is fitted fixedly into the main body 1.例文帳に追加

バンド体６によって電柱Ｄに締付けて筒状の主体部１を前記電柱Ｄ面に突設し、該主体部１に断面方形筒状の腕金１０の基部を嵌挿して止着する受け金具Ａに係る。 - 特許庁