| 意味 | 例文 |
surface defectの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2108件
Thus, since impurities adhered to the surface Si, C of the surface of the substrate can be simultaneously removed for several atom layers by exposing the surface of an SiC substrate with a high temperature and low oxygen partial pressure, a defect is made very small at the oxide film formation time, and the clean surface can be exposed.例文帳に追加
SiC基板表面を高温かつ低酸素分圧下に晒すことにより、表面に付着した不純物と基板表面のSi、Cを数原子層分除去することが同時にできるので、酸化膜形成時には欠陥が少なく極めて清浄な表面を露出させることができる。 - 特許庁
The first light receiving system including a CCD line sensor 21 receives scattered light acquired by scattering the inspection light by a surface/internal defect of the substrate 1 in the focused state onto the substrate 1 surface.例文帳に追加
CCDラインセンサー21を含む第1の受光系は、検査光が基板1の表面又は内部の欠陥により散乱された散乱光を、基板1の表面に焦点を合わせて受光する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a glass substrate for information recording medium which maintains high surface smoothness while suppressing the occurrence of a surface defect and can be rapidly polished, and a method of manufacturing an information recording medium.例文帳に追加
表面欠陥の発生をおさえつつ高い表面平滑性を保ち、かつ、迅速な研磨ができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法を得る。 - 特許庁
To correctly predict whether or not inclusions and bubbles forming a surface defect are present in a slab, and to predict the quality of a surface layer of a cast slab taking into consideration generation of defects caused by degradation of cleanliness of molten steel.例文帳に追加
スラブに表面欠陥となり得る介在物・気泡が存在するか否かを適確に予測し、溶鋼の清浄度低下による欠陥の発生も考慮して鋳片表層の品質を予測すること。 - 特許庁
To provide a defect inspecting device that imparts proper illumination to a surface to be inspected with an object to be inspected which is bent and a surface to be inspected which is bent, and that suppresses the problems of conventional technologies.例文帳に追加
検査対象物の屈曲した被検査面や湾曲した被検査面に対して適正な照明を与えるとともに、従来技術の問題点を抑制する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
To provide a device for removing foreign matter in a snout capable of manufacturing a high-quality plated steel plate in which surface defect is suppressed by discharging the foreign matter sticking on an inner wall surface of the snout to the outside of the snout.例文帳に追加
スナウトの内壁面に付着する異物などをスナウト外に除去し、表面欠陥が抑制された高品質のめっき鋼板が製造できるスナウト内の異物除去装置の提供。 - 特許庁
After adjusting the quantities of the illumination light, an image of the front surface Wa of the perforated plate W is captured, and the front surface Wa of the perforated plate W is inspected for a defect on the basis of the thus captured image.例文帳に追加
そして、光量の調節がなされた状態で、多孔板Wの表面Waを撮像して、その撮像した画像に基づいて多孔板Wの表面Waの欠陥を検査する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a glass substrate for a mask blank which suppresses the generation of a minute convex surface defect on the surface of the substrate even if the mirror polishing of the glass substrate is performed by using silica.例文帳に追加
シリカを用いてガラス基板の鏡面研磨を行っても基板表面に微小な凸状の表面欠陥が発生するのを抑えたマスクブランクス用ガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To efficiently provide a medium carbon steel slab excellent in surface quality without developing the surface defect caused by the longitudinal crack and deoxidation generated material, etc., even in the case of such high speed continuous casting as to exceed 20 m/min.例文帳に追加
2.0 m/min超という高速連続鋳造においても、縦割れや脱酸生成物等に起因した表面欠陥の発生のない、表面品質に優れた中炭素鋼スラブを効率良く提供する。 - 特許庁
To manufacture high quality metallic product by casting an ingot little in acquired bubble, a non-metallic inclusion and segregation of the ingot surface, a surface defect resulting from mold flux, having little inner inclusion.例文帳に追加
捕捉される気泡、非金属介在物及び鋳片表面偏析、モールドフラックス起因の表面欠陥や内部介在物の少ない鋳片を鋳造して、高品質の金属製品の製造を可能とする。 - 特許庁
To provide a surface inspection device and method, capable of suppressing an effect of light generated by reflection of a light source, when inspecting a surface defect of a specimen by which light is regularly reflected.例文帳に追加
光が正反射する被検体の表面欠陥を検査する際に、光源が映り込んで発生する光の影響を抑制できる表面検査装置及び表面検査方法を提供する。 - 特許庁
Consequently, the deformation of the lower surface edge of the Si layer 2 due to the oxidation hardly occurs, so that generation of leakage current caused by the defect generated by the deformation of the lower surface edge of the Si layer 2 can be suppressed.例文帳に追加
そのため、Si層2の下面エッジ部の酸化による変形が起こりにくくなり、Si層2の下面エッジ部が変形して欠陥が生じることによるリーク電流の発生を抑制できる。 - 特許庁
To manufacture high quality metallic product by casting an ingot having little acquired bubble, a non-metallic inclusion and segregation of the ingot surface, a surface defect caused by mold flux, and an inner inclusion.例文帳に追加
捕捉される気泡、非金属介在物及び鋳片表面偏析、モールドフラックス起因の表面欠陥や内部介在的の少ない鋳片を鋳造して、高品質の金属製品の製造を可能とする。 - 特許庁
To accurately and efficiently detect only a surface defect such as small irregularities and projections without erroneous detection even if there are contamination, stain, and dust on a surface to be inspected of a body.例文帳に追加
被検査体の被検査面に、汚れ、しみ、埃等があったとしても誤検出することなく、微小な凹凸や突起などの表面欠陥のみを精度よく、高能率に検出することができる。 - 特許庁
To obtain a silicon cast block in which the surface defect such as longitudinal crack and lateral crack as to develop on the surface of the silicon cast block, is not developed, in a cutting-off process of the silicon cast block.例文帳に追加
シリコン鋳塊の切断工程においてシリコン鋳塊表面に発生する縦割れや横割れといった表面欠陥が発生しないシリコンの鋳塊を得ることを目的としている。 - 特許庁
To eliminate or disperse lattice defects such as a hole type grow-in defect present not only on the surface but also in the interior of single crystal regardless of the size of single crystal and to prevent contamination of the single crystal with a volatile material, etc., on the surface and in the interior of the single crystal body.例文帳に追加
単結晶体の大きさに拘わらず、単結晶体の表面のみならず内部に存在する空孔型グローイン欠陥等の格子欠陥を消滅又は分散させる。 - 特許庁
An element isolation insulating film 15 is formed on a surface layer of the non-defect layer 13, a p- or n-type active region 16 is formed, and an element is formed on a surface side of the active region 16.例文帳に追加
無欠陥層13の表面層に、素子分離絶縁膜15を形成すると共にp型やn型の活性領域16を形成し、活性領域16の表面側に素子を形成する。 - 特許庁
To provide a cutting tool made of a surface-coated cubic boron nitride based ultra-high pressure sintered material which exhibits superior resistance to defect and finished surface accuracy in high-speed cutting of a hard material.例文帳に追加
高硬度材の高速切削加工で、すぐれた耐欠損性と仕上げ面精度を発揮する表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。 - 特許庁
To provide a DNA chip substrate that compensates for the defect of glass used as the substrate for DNA chips, has high surface accuracy, especially flatness, and eliminates the need for surface treatment for immobilization.例文帳に追加
DNAチップ用基板として使われているガラスの欠点を補い、高い表面精度、特に平坦性を有し、かつ固定化のための表面処理が不要であるDNAチップ基板を提供する。 - 特許庁
This manufacturing method is for manufacturing a semiconductor wafer, wherein both surfaces of the surface and rear of a chamfered semiconductor wafer are lapped over, and then when the wafer is subjected to alkali etching with an alkaline solution, a defect which is generated in the surface of this wafer is removed.例文帳に追加
面取りされた半導体ウェーハの表裏両面をラップし、次に半導体ウェーハをアルカリ性溶液でアルカリエッチングすると、このウェーハ表面に発生していた欠陥が除去される。 - 特許庁
To provide a fabric for abrasive cloth capable of further flattening the surface of an object to be polished, and reducing the rate of occurrence of defect (scratch) of the surface of the object to be polished, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加
被研磨物表面をより平坦にすることが可能で、かつ被研磨物表面の欠点(スクラッチ)発生率を低減させることが可能な研磨布用布帛およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To suppress the defect in a process caused by static electricity in the surface of a substrate by suitably controlling the electrified state of the substrate in accordance with the kind of a wet process.例文帳に追加
基板の帯電状態を、湿式プロセスの種類に合わせて適切にコントロールすることで、基板表面の静電気によるプロセス不良を抑制する。 - 特許庁
To prevent an occurrence of a linear defect on the surface of a product which is caused by intervening matters existing below the outer layer of a piece of a cast for continuous casting in the method of continuous casting for steel.例文帳に追加
鋼の連続鋳造法において、連鋳鋳片の表皮下に存在する介在物に起因する製品表面の線状欠陥防止を図る。 - 特許庁
To restrain occurrence of defect at a joined part in the case of applying a butt-joint with a friction-stir welding method under a state having the difference of the surface levels in the joining materials.例文帳に追加
被接合材を段差を有する状態で摩擦攪拌接合方法により突き合せ接合する場合に、接合部に欠陥が生じるのを抑制する。 - 特許庁
To provide a laminate which is superior in handling properties, processability, and peelability of a base film after being laminated and is free from the occurrence of a defect in the surface after being laminated.例文帳に追加
ハンドリング性、加工性に優れ、ラミネート後の基材フィルムの剥離性に優れ、ラミネート後の表面に欠陥が発生しない積層体を提供する。 - 特許庁
To provide a method and a tool, for preventing the occurrence of surface treatment defect while avoiding gathering of air even in a recessed part opened downward in a bath liquid.例文帳に追加
浴液中において下方へ開口する凹部であっても、気体の溜まりを回避でき表面処理不良の発生を防止する方法および治具の提供。 - 特許庁
To detect a shape defect projecting on a boundary part between each front/rear surface and a chamfered part, forming an end face relating to a disk member.例文帳に追加
ディスク部材について,表裏各面と端面を形成するチャンファ部との境界部分において突起した形状欠陥を検出することができること。 - 特許庁
To provide a flush toilet bowl, in which a defect such as a crack is not generated and the generation of dirt on the whole bowl surface can be prevented surely.例文帳に追加
クラック等の欠陥が生じることなく、ボール面全体の汚れの発生を確実に防止することができる水洗式便器を提供すること。 - 特許庁
To provide a conductive member which causes no development failure due to surface defect of a cover layer and has a small resistance irregularity in the circumferential direction, and to provide a manufacturing method of the conductive member.例文帳に追加
被覆層表面欠陥に起因した現像不良が無く、周方向抵抗ムラが小さい導電性部材およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To secure a good quality in a cast slab by reducing occurrence ratio of the most serious vertical crack among the surface defect occurring in a continuous casting.例文帳に追加
連続鋳造において発生する表面欠陥のうちで最も深刻な縦割れの発生率を低減し、良好な鋳片品質を確保する。 - 特許庁
To implement a defect inspection by accurately discriminating bubble-caused projection defects and foreign-matter-caused projection defects from surface roughness on a substrate to be inspected.例文帳に追加
検査対象基板の気泡起因の突起欠陥と、異物起因の突起欠陥と、表面のうねり(ラフネス)を、正確に判別して、欠陥検査を行う。 - 特許庁
To provide a continuous casting method of high-carbon/high-manganese steel blooms and billets which are free from the occurrence of breakout, and also there is no blow hole defect in the strand surface.例文帳に追加
ブレークアウトの発生がなく、鋳片表層部にブローホール性欠陥の発生がない高炭素高マンガン鋼のブルームやビレットの連続鋳造方法の提供。 - 特許庁
OPTICAL INSPECTION DEVICE HAVING LENS UNIT WITH AT LEAST A PAIR OF BEAM PATHS INSIDE, AND METHOD OF DETECTING SURFACE DEFECT OF SUBSTRATE USING SAME例文帳に追加
内部に少なくとも一対のビーム経路を有するレンズユニットを具備する光学的検査装置及びこれを用いて基板の表面欠陥を検出する方法 - 特許庁
To provide an ultrasonic wave probe that can evaluate deterioration in a subject and soundness of a subject surface layer part and detect the directionality of a defect.例文帳に追加
被検体の劣化度評価と被検体表層部の健全性評価と欠陥の方向性を検出することができる超音波プローブを提供する。 - 特許庁
To coat a substrate with a resist and subject it to developing processing to prevent residues from being deposited and remaining as a defect on the surface of the resist of the substrate.例文帳に追加
レジストを塗布し、露光後に現像処理を行った基板のレジスト表面に残渣が付着したまま残る残渣欠陥の発生を抑えること。 - 特許庁
The second insulating layer 14 is formed on the low-defect region 10b on the principal surface 10a of the GaN layer 10, and has an opening formed.例文帳に追加
第2の絶縁層14は、GaN層10の主表面10aにおける低欠陥領域10bの上に形成され、開口部が形成される。 - 特許庁
The second insulating layer 14 is formed on the low-defect region 10b on the principal surface 10a of the GaN layer 10, and has an opening formed.例文帳に追加
第2の絶縁層14は、GaN層10の主表面10aにおける低欠陥領域10bの上に形成され、開口部が形成されている。 - 特許庁
To effectively measure a surface shape of a phase defect existing on an exposure mask, and contribute to improvement of production efficiency of the exposure mask.例文帳に追加
露光用マスク上に存在する位相欠陥の表面形状を効率的に測定することができ、露光用マスクの生産効率向上に寄与する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a surface defect-free fiber-reinforced composite material molded product with good appearance by preventing occurrence of a pinhole and fiber meandering.例文帳に追加
ピンホールと繊維蛇行の発生を防止でき、表面欠陥の無い外観に優れた繊維強化複合材料成形品の製造方法を課題とする。 - 特許庁
To provide a polishing liquid composition for an aluminum alloy substrate plated by Ni-P for reducing scratches and nano projection defect on the surface of the substrate after being polished.例文帳に追加
研磨後の基板表面のスクラッチ及びナノ突起欠陥の低減を実現できるNi−Pメッキされたアルミニウム合金基板用研磨液組成物の提供。 - 特許庁
To provide a letterpress plate for letterpress printing, preventing a print defect, minimizing foreign matters sticking to the plate surface, and allowing printing of a high definition pattern with high accuracy.例文帳に追加
印刷不良を防ぎ、版表面に付着する異物を限りなく減らし、高精細パターンを高精度で印刷できる印刷用凸版を提供する。 - 特許庁
To appropriately calibrate a non-destructive inspection apparatus by fully ensuring a reflection strength of defect echoes FE from a hole bottom surface 33 in a flat-bottomed hole 31.例文帳に追加
平底穴31の穴底面33からの欠陥エコーFEの反射強度を十分に確保して、非破壊検査装置を適切にキャリブレーションすること。 - 特許庁
To provide a belt for forming a bent sheet glass with which the defect of the surface occurring in roll traces, belt joints and deformation is suppressed.例文帳に追加
ロール跡や、ベルトの継ぎ目、変形に起因する表面の欠陥が抑制された曲げガラス板を製造するためのガラス板成形用ベルトを提供する。 - 特許庁
To provide a method for molding a glass element capable of obtaining a glass gob free from defect on the surface and having good shape-accuracy to be used for a glass mold method.例文帳に追加
ガラスモールド法に用いられるような、表面に欠陥が無く、形状精度のよいガラスゴブを得ることが可能となるガラス素子の成形方法を提供する。 - 特許庁
To provide an electrooptical device capable of improving humidity resistance of alignment film surface and capable of obtaining high display quality by suppressing the occurrence of alignment defect and alignment irregularity.例文帳に追加
配向膜表面の耐湿性を向上させ、配向不良、配向むらの発生を抑制して、高い表示品質を得ることができるようにする。 - 特許庁
Also, by forming the capacitor 120, the flatness of the mounting surface of the IC 112 is raised and the connection defect of the IC 112 or the like is hardly caused.例文帳に追加
また、コンデンサ120を形成することにより、IC112実装面の平坦度が高くなり、IC112を接続不良などが発生しにくくなる。 - 特許庁
Subsequently, a single crystal silicon layer 8 grows upward from the top surface of the γ-Al_2O_3 layers 4, and thus, an SOI substrate having less crystal defect can be obtained.例文帳に追加
次に、γ−Al_2O_3層4の上面より単結晶シリコン層8が上方向に成長し、結晶欠陥の少ないSOI基板を得ることができる。 - 特許庁
To prevent such a defect from occurring that a crack occurs in and near a stopper surface even if an impact force generated when a hood is closed is large.例文帳に追加
フードを閉める際の衝突力が大きい場合であっても、ストッパ面及びその近傍に亀裂が発生する等の不具合が生じることを防止する。 - 特許庁
To eliminate a defect in a surface layer part of a crystal material such as a thick silicon wafer having a large thermal capacity thereby to enable an efficient improvement of the quality of the crystal material.例文帳に追加
熱容量の大きな厚いシリコンウエハなどの結晶材料表層部の欠陥を除去して改質を効果的に行うことを可能にする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an optical element which improves productivity while suppressing the generation and development of surface defect of the optical elements.例文帳に追加
光学素子の表面欠陥の発生や発達を抑制しつつ、生産性を向上させることが可能な、光学素子の製造技術を提供する。 - 特許庁
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