「surface defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a sanitary tissue paper which does not cause a defect in cutting a sheet and discharging a roll in a process, prevents the sheet from being caught, and has a good surface property.例文帳に追加

工程上のシートカット、ロールの排出等において不具合がなく、シート取られが少なく、表面性の良好な衛生薄葉紙を得ることにある。 - 特許庁

In the surface defect data display management device 3, a risk level calculation part 33 calculates an influence degree of a defect upon yield of the final product on the basis of a defect size of the wafer detected by an appearance inspection device 12 and a review device 10 and a pattern density obtained from design data of a pattern figure corresponding to neighbors of the position of the defect.例文帳に追加

表面欠陥データ表示管理装置３において、危険率算出部３３は、外観検査装置１２やレビュー装置１０によって検出されたウェーハの欠陥サイズと、その欠陥の位置の近傍に対応するパターン図の設計データから得られるパターン密度とに基づき、その欠陥が最終製品の歩留まりに影響を及ぼす影響度を表面欠陥の危険率として算出する。 - 特許庁

To precisely discriminate an anisotropic defect from an isotropic defect to detect precisely the numbers of the both defects, using a measuring instrument for detecting the defect by scanning a laser beam along a fixed direction on a semiconductor wafer surface, and to precisely discriminate the respective defects different in anisotropy to detect precisely the numbers of the defects in every defect different in the anisotropy.例文帳に追加

半導体ウェーハ表面でレーザ光を一定方向に走査することによって欠陥を検出する計測器を用いて、異方性を有した欠陥と等方性を有した欠陥とを高精度に識別して、両者の欠陥の数を高精度に検出できるようにし、また、異方性が異なる各欠陥を高精度に識別して、異方性の異なる欠陥毎に欠陥の数を高精度に検出できるようにする。 - 特許庁

At this time, on the surface side of the substrate, the epitaxial growth proceeds by a CVD method, the gas of SiC sublimated from the vicinity 12b of the back surface of the substrate is recrystalized in the vicinity 12a of the surface of the substrate and the micropipe defect 11 is clogged.例文帳に追加

そして、基板表面側はＣＶＤ法によりエピタキシャル成長が進行しており、基板裏面近傍１２ｂから昇華したＳｉＣの昇華ガスは、基板表面近傍１２ａにて再結晶化し、マイクロパイプ欠陥１１が閉塞する。 - 特許庁

To provide a surface inspection method and surface inspection device capable of improving the accuracy for detecting a defect such as unevenness existing in a surface of an inspecting object without complicating the inspection process and the constitution of the inspection device.例文帳に追加

検査工程および検査装置の構成を複雑化させることなく、検査対象物の表面に存在する凹凸などの欠陥を検出する精度を向上させることができる表面検査方法および表面検査装置を提供する - 特許庁

A focus deviation detection device according to the present invention detects the focus deviation of an imaging device in a surface defect inspection device inspecting surface defects based on image data that is produced by imaging the surface of a test subject being transported with the imaging device.例文帳に追加

本発明の焦点ズレ検出装置は、搬送される被検査体の表面を撮像装置により撮像した画像データに基づいて、表面欠陥を検査する表面欠陥検査装置において、撮像装置の焦点ズレを検出する。 - 特許庁

The confocal differential interference image shows unevenness change of approximately several nm of a sample surface in the form of a luminance distribution, so a crystal defect appearing on the SiC substrate surface or epitaxial layer surface is detected based upon the luminance distribution.例文帳に追加

共焦点微分干渉画像は、試料表面の数ｎｍ程度の凹凸変化を輝度分布として表すので、SiC基板表面又はエピタキシャル層表面に出現した結晶欠陥を、輝度分布に基づいて検出することができる。 - 特許庁

A prescribed image 7 is formed in an image space 15 in such a way that a difference in an image-forming state occurs between a surface part 5 without defects and a defective part 6 with a defect in an object surface 4 at capturing of object surface 4 from the direction of regular reflection A.例文帳に追加

物体表面４を正反射方向Ａから捕らえたときに物体表面４の欠陥がない表面部分５と欠陥がある欠陥部分６とで結像状態の差が生じるように所定の像７が、像空間１５に形成される。 - 特許庁

For this surface defect checking (S5), defect points on the magnetic disk are checked and registered by determing whether the thermal asperity phenomenon occurs or not based on a sense current applied to a magnetoresistive element included in the magnetic head.例文帳に追加

この表面欠陥検査（Ｓ５）では、ヘッドに含まれる磁気抵抗効果素子に印加されたセンス電流に基づいて、サーマルアスペリティ現象が生じたか否かを判断することで、磁気ディスクに生じている欠陥箇所を検査して登録する。 - 特許庁

To accurately detect as a picture element corresponding to a defect only a pixel, showing the location where a defect actually exists from image data of a surface to be inspected to which a side arm is rectangular wave-like, or designs, such as, beveling are given.例文帳に追加

側辺が矩形波状であったり面取りなどの意匠が施されていたりする検査対象面の画像データから、実際に欠陥が存在する箇所を表す画素だけが、欠陥対応画素として、正確に検出されるようにすること。 - 特許庁

This conveyance inspection device 1 is equipped with this conveyance device 2 for conveying a thin member 5 in the noncontact state by controlling a voltage applied to an electrode surface, and a defect inspection device 3 for inspecting the defect of the thin member 5 during conveyance.例文帳に追加

電極面へ印加する電圧を制御して薄状部材５を非接触の状態で搬送する搬送装置２と薄状部材５の欠陥を搬送中に検査する欠陥検査装置３とを備えた搬送検査装置１である。 - 特許庁

After the semiconductor chip is mounted an each device area followed by bonding using a bonding wire 6, a visual inspection such as on discontinuity of the bonding wire 6, is performed and a defect mark FM is posted onto the surface of the semiconductor chip 4 having a assembly-related defect.例文帳に追加

各々のデバイス領域に半導体チップ４を搭載して、ボンディングワイヤ６によるボンディング後、ボンディングワイヤ６の断線などの外観検査を行い、組み立て不良がある半導体チップ４の表面に不良マークＦＭを貼り付ける。 - 特許庁

To provide a defect detecting method which enables the easy distinguishment of stains from defects by solving the problem that it has been difficult to distinguish stains from defects by conventional defect detecting methods using light transmitted through a plate-like body and light reflected its surface.例文帳に追加

板状体を透過する光と表面で反射する光とを用いる従来の欠陥の検出方法では、欠陥と汚れの区別が困難であり、汚れと欠陥とを容易に区別することができる欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the defective portion exceeding the area ratio limitation on a layout design stage is detected, thereby avoiding the formation defect such as large area wiring disconnection, wiring destruction or surface peeling caused by hillock or a connection defect between wiring and the contact hole.例文帳に追加

このように、レイアウト設計段階で面積比制限を超える不良箇所を検出することにより、ヒロックや配線とコンタクトホールとの接続不良による大面積配線の断線、配線破壊、表面剥離などの形成不良を回避できる。 - 特許庁

Since a thinning stop layer containing silicon grains, silicon oxide and boron is present on a wafer surface layer, an implantation defect of oxygen ions is captured by boron, and the occurrence frequency of film formation defects of an epitaxial film caused due to the implantation defect can be reduced.例文帳に追加

シリコン粒、シリコン酸化物、ボロンを含む薄膜化ストップ層がウェーハ表層に存在するので、酸素イオンの注入欠陥をボロンが捕獲し、この注入欠陥を原因としたエピタキシャル膜の成膜欠陥の発生頻度を低減できる。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a defect in a semiconductor single crystal, which is capable of observing and inspecting a harmful minute crystal defect securely, without generating defects such as color change in a surface of an inspection target like a semiconductor single-crystal wafer.例文帳に追加

半導体単結晶ウェハのような被検査物の表面に変色などの欠陥を生じせしめることなく、有害な微細結晶欠陥を確実に観察・検査することが可能な、半導体単結晶中の欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ultrasonic flaw detection method, an ultrasonic flaw detection device, and a pipe material manufacturing method capable of detecting even a recessed defect generated on the inner surface of a pipe material of metal such as a steel pipe, and a wrap-shaped shallow defect.例文帳に追加

鋼管などの金属の管材の内側表面上に生じた凹み欠陥や、ラップ状の浅い欠陥であっても検出することができる超音波探傷方法、超音波探傷装置、および管材製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a polarizer plate lamination protection film facilitating detection of bright point defect caused by a polarizer plate and having no bright point defect even when flaws or the like adhere on a surface, and to provide a protection film lamination polarizer plate laminated with the protection film.例文帳に追加

偏光板起因の輝点欠陥検出を容易とし、また、表面に疵等が付着しても輝点欠陥となることがない偏光板積層用保護フィルム、およびその保護フィルムを積層してなる保護フィルム積層偏光板を提供する。 - 特許庁

To obtain a large glass substrate without a melting defect by properly testing the melting defect over the entire surface of the glass substrate when the substrate size is 1,100 mm×1,250 mm or more, particularly 2,000 mm×2,000 mm or more.例文帳に追加

基板寸法が１１００ｍｍ×１２５０ｍｍ以上、特に２０００ｍｍ×２０００ｍｍ以上である場合に、ガラス基板の全面に亘って、溶融欠陥検査を適正に行うことにより、溶融欠陥がない大型のガラス基板を得ること。 - 特許庁

To actualize an electronic display inspecting device which can accurately detect an inspection area, easily detect a linear defect, and easily correct the tilt of an electronic display display surface even if the electronic display has the linear defect.例文帳に追加

電子ディスプレイにライン状欠陥があった場合でも、正確に検査領域を検出し、ライン状欠陥を容易に検出し、電子ディスプレイ表示面の傾きも容易に補正することのできる電子ディスプレイ検査装置の実現を目的とする。 - 特許庁

To accurately detect a defect irrespective of writing power during recording, disk reflectance or a variance in amplifier gain, and to determine whether a defect in the surface of an optical disk causes the recording mistake of optical information in one RUB.例文帳に追加

記録時のライトパワー、ディスクの反射率やアンプゲインのばらつきに左右されることなく正確な欠陥検出を可能にし、光ディスクの表面に付けられた欠陥が１ＲＵＢ内で光情報の記録ミスを生じさせる欠陥か否かを判定する。 - 特許庁

To detect a fine welding defect of approximate 50 μm in the vicinity of a pipe surface which occasionally occurs in a welded part of an electric resistance welded steel pipe and to prevent the electric resistance welded steel pipe having such a fine welding defect from occasionally being mixed into a resultant product.例文帳に追加

電縫鋼管溶接部に稀に発生する管体表面近傍の５０μｍ前後の微小な溶接欠陥を検出し、かかる微小な溶接欠陥を有する電縫鋼管が製品の中に稀に混入する事態を防ぐ。 - 特許庁

In a defect inspection according to the magnetic powder flaw detection method for applying ultraviolet rays to a test piece 1 and emitting fluorescence by a crack defect 2a, the image of the surface of the test piece 1 is picked up by a color television camera 3 via an ultraviolet ray cut filter 5.例文帳に追加

ここでは、試験体１に紫外線を照明し、割れ欠陥２ａで蛍光を発光させる磁粉探傷法による欠陥検査であるが、かかる試験体１の表面を、紫外線カットフィルタ５を介して、カラーテレビカメラ３で撮像する。 - 特許庁

In the laser processing method of removing the residual defect of the photomask, the substrate is set so as to make its surface to be processed face downward, and the surface of the substrate is irradiated with a laser beam from below in an atmosphere containing halogenated hydrocarbon gas (e.g. ethyl iodide gas) to remove the residual defect.例文帳に追加

フォトマスクの残留欠陥をレーザ加工法によって除去するレーザ加工方法において、被加工面を下向きにして、下方からレーザ光を照射する構成として、ハロゲン化炭化水素ガス（一例として沃化エチルガス）を含む雰囲気中でレーザ光を照射して、残留欠陥の除去を行う。 - 特許庁

To provide an electrodeposition apparatus and electrodeposition method which are capable of preventing a continuation defect by detecting the continuation defect by shorting between rear surface electrodes and a conductive substrate and are capable of preventing the occurrence of gouge by early discovering the occurrence of the flow by the film peeling of the oxide sticking to the rear surface electrodes.例文帳に追加

裏面電極と導電性基板との間の短絡による通電不良を検知して、通電不良を防止することができ、また裏面電極に付着する酸化物の膜剥がれによる打痕発生を早期に発見して、打痕発生を防止することができる電析装置及び電析方法を提供する。 - 特許庁

To provide a piezoelectric vibration reed and a manufacturing method of the piezoelectric vibration reed, as well as a piezoelectric vibrator equipped with the piezoelectric vibration reed, an oscillator, an electronic apparatus and a radio wave clock, which can manufacture the piezoelectric vibration reed without a surface defect, suppressing the influence of the surface defect in a previous process to extend over a subsequent process.例文帳に追加

前工程における表面欠陥の影響が後工程に及ぶのを抑制し、表面欠陥のない圧電振動片を製造することができる圧電振動片の製造方法及び圧電振動片、並びに圧電振動片を備えた圧電振動子、発振器、電子機器及び電波時計を提供する。 - 特許庁

In the silicon wafer, a wafer surface portion 1 is a non-defective area in which there is no void defect, and a wafer bulk portion 2 positioned deeper than the wafer surface portion 1 contains a void defect 4 composed of a polyhedron basically forming an octahedron with the polyhedron corners curved and an inner wall oxide film removed.例文帳に追加

ウェーハ表面部１はボイド欠陥が存在しない無欠陥領域であり、ウェーハ表面部１よりも深いウェーハバルク部２は、八面体を基本形状とする多面体で構成され、前記多面体の角部が曲面状であり、かつ、内壁酸化膜が除去されたボイド欠陥４が存在しているシリコンウェーハを提供する。 - 特許庁

To provide a method for retreating a flaw detection head and a flaw detection apparatus with which a surface flaw can be detected even if shape defect exits in a steel plate which is an object to be detected without breakage of the flaw detection head through contact of the shape defect portions with the surface flaw detection apparatus.例文帳に追加

探傷対象の鋼板に形状不良があっても、この形状不良部分と表面欠陥探傷装置とが接触して欠陥探傷ヘッドを破損することがなく表面欠陥の検出を行うことができる、欠陥探傷ヘッドの退避方法および欠陥探傷装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To enable accurate and quick decision on the quality of a glass substrate, by precisely calculating the position of a defect in the depth direction, based on the image of a defect photographed, while moving the focal surface of a camera from the surface of the glass substrate to the inside, to obtain a clear image of a micro defects.例文帳に追加

カメラの焦点面をガラス基板の表面から内部に移動させながら撮影された欠陥の映像に基づいて欠陥の深さ方向位置を正確に算出して、微細な欠陥の鮮明な映像を取得することにより、ガラス基板の良否を正確且つ素早く判断できるようにする。 - 特許庁

To provide an optical film which is free from the problem of a streak defect and a press defect on the film surface, ensures good surface workability of a hard coat layer, an antireflection layer or the like, keeps high contrast, and has excellent durability at high temperature and high humidity, a polarizing plate, and a liquid crystal display using the polarizing plate.例文帳に追加

本発明の目的は、フィルムの表面のスジ故障と押され故障の問題がなく、ハードコート層や反射防止層などの表面加工性がよく、高いコントラスト、高温高湿時の耐久性に優れた光学フィルム、偏光板、及び該偏光板を用いた液晶表示装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a polishing liquid composition capable of reducing a surface defect such as a pit, a projection, etc. for substrate polishing of a memory hard disc, especially for finish polishing, a reduction method of the surface defect of the substrate using this polishing liquid composition and a manufacturing method of the substrate using this polishing liquid composition.例文帳に追加

メモリーハードディスクの基板研磨、特に仕上げ研磨用として、ピットや突起等の表面欠陥を低減することが可能である研磨液組成物、該研磨液組成物を用いた基板の表面欠陥の低減方法及び前記研磨液組成物を用いた基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a production method of a silicon wafer capable of effectively exercising a gettering effect also in a thin film device while having BMD (Bulk Micro Defect) in a shallow region of, for example, ≤10 μm from a surface layer with high density, but having no defect in an extreme surface layer functioning as a device active layer.例文帳に追加

表層から例えば１０μｍ以内までの浅い領域にＢＭＤ（Ｂｕｌｋ Ｍｉｃｒｏ Ｄｅｆｅｃｔ）が高密度で存在するが、デバイス活性層として機能する極表層には欠陥が存在せず、薄膜デバイスに対してもゲッタリング効果を有効に発揮しうるシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

A glass plate G is sucked and fixed to a table 2 after a defect is detected on the surface of the glass plate G by a detecting means 4, and the position of the defect D detected by the detecting means 4 and its surrounding area are polished by a polishing pad 34 having a smaller outer form size than that of the glass plate G, so that the defect D is removed without an entire polishing to be made.例文帳に追加

検出手段４によりガラス板Ｇ表面の欠陥を検出した後にガラス板Ｇをテーブル２へ吸着固定し、ガラス板Ｇの外形サイズよりも小さい外形サイズの研磨パッド３４により検出手段４により検出された欠陥Ｄの位置とその周囲を研磨することにより、全面研磨せずとも欠陥Ｄを除去する。 - 特許庁

This nitride semiconductor device includes: a first nitride semiconductor layer 107 formed on a substrate 101; a defect introduction layer 108 formed on the first nitride semiconductor layer 107; and a second nitride semiconductor layer 109 formed in contact with a surface of the defect introduction layer 108 and having an opening for exposing the defect introduction layer 108.例文帳に追加

窒化物半導体装置は、基板１０１の上に形成された第１の窒化物半導体層１０７と、第１の窒化物半導体層１０７の上に形成された欠陥導入層１０８と、欠陥導入層１０８の上に接して形成され、欠陥導入層１０８を露出する開口部を有する第２の窒化物半導体層１０９とを備えている。 - 特許庁

This method detects the defect by etching an inspection object until at least a part of the defect existing inside the inspection object appears on a surface of the inspection object, and is the defect detecting method comprising an etching step of etching the inspection object by an anisotropic etching method being an etching method comprising a maximum etching speed in the prescribed direction.例文帳に追加

被検査物の内部に存する欠陥の少なくとも一部が該被検査物の表面に現れるまで該被検査物をエッチングして欠陥を検出する方法であって、所定方向に最大のエッチングの速度を有するエッチング方法である異方性エッチング方法により被検査物をエッチングするエッチングステップを備えてなる、欠陥検出方法である。 - 特許庁

An internal defect 5 dominantly appears as difference of surface temperature because a heat quantity of heat 3 given to an inspection object 1 larger than a heat quantity of heat 7 considerably raises the surface temperature of the inspection object 1, and a heat flow generated thereby is reflected in the internal defect 5, which raises the temperature of a surface 2 of the inspection object 1.例文帳に追加

内部欠陥５が表面温度の差として顕著に表れているのは、被検査体１に対して与えられる熱３の熱量が熱７の熱量よりも大きいため、被検査体１の表面温度が大きく上昇し、これによって生じた熱流が内部欠陥５において反射することによって、被検査体１の表面２の温度を上昇させているためである。 - 特許庁

Reflected light from the transparent surface layer of the photoreceptor 1 is received by one-dimensional CCD sensor 10 through a polarizer 11 transmitting only an S-polarized light, and it is image-processed to detect a defect in the surface of the photoreceptor 1.例文帳に追加

感光体１の透明表面層からの反射光をＳ偏光のみを透過する偏光子１１を通して１次元ＣＣＤセンサ１０で受光して画像処理し感光体１の表面の欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide superconducting wiring which has small high-frequency loss, and small electric charge noise and magnetic noise by suppressing formation of a surface oxide film having many defect levels on a surface of the superconducting wiring.例文帳に追加

超伝導配線表面における欠陥準位を多数含む表面酸化膜の形成を抑制することで、高周波損失が少なく、電荷雑音および磁気雑音の少ない超伝導配線を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing method that achieves high flatness of a polished surface of a polishing body after CMP processing, and further reduces the defect density of scratches or the like on the polishing surface of the polishing body compared with the conventional one.例文帳に追加

ＣＭＰ処理後に、被研磨体の研磨面が高い平坦性を有するとともに、被研磨体の研磨面におけるスクラッチなどの欠陥密度を従来に比して低減させることができる研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface defect detector capable of reducing cost of the device, simplifying the system constitution and quickly judging good or bad of a body to be tested by shortening the processing time of the whole surface of the body to be tested.例文帳に追加

装置のコストダウン及びシステム構成のシンプル化を図り、かつ被検体表面全体の処理時間を短縮して被検体表面の良否判定を迅速に行える表面欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a masking device for surface treatment of a cylinder block which can be adopted even to the cylinder block having a journal part without the occurrence of defect, such as a difference in level of plating films and plating scorching, on the inside surface of a cylinder bore.例文帳に追加

シリンダボア内面にメッキ皮膜の段差やメッキ焦げ等の不良を発生させず、ジャーナル部を有するシリンダブロックにも採用することができるシリンダブロックの表面処理用マスキング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an epitaxial silicon wafer in which a slip accompanying heating during epitaxial growth is not caused and a decrease in surface roughness of an epitaxial film due to a void defect on a wafer surface is eliminated.例文帳に追加

エピタキシャル成長時の加熱に伴うスリップが発生せず、ウェーハ表面のボイド欠陥に起因したエピタキシャル膜の表面粗さの低下も解消可能なエピタキシャルシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a glass substrate for a flat display capable of firmly bonding a transparent electrode deposited on a surface of a glass substrate to the substrate surface and suppressing generation of peeling defect of the transparent electrode.例文帳に追加

ガラス基板の基板表面に成膜される透明電極を基板表面に堅固に接着させることができ、透明電極の剥離欠損の発生を抑制できるフラットディスプレイ用ガラス基板を提供する。 - 特許庁

Surface 2a of an article 2 is irradiated obliquely from above with a light beam and a shade formed by irregularities on the surface 2a is detected as a defect.例文帳に追加

本発明の不良検出方法は、物品２の表面２ａに対し斜め上方から光線を照射し、その結果表面２ａの凹凸により形成された陰影を上記不良として検出することを特徴としている。 - 特許庁

To suppress such a defect that the light emitted from the rear surface of a laser chip is scattered on the inside wall of a laser stage, and a part of the scattered light passes through a laser window to irradiate the scanning surface as outside disturbance light.例文帳に追加

レーザーチップの裏面から射出された光がレーザー基台の内壁で散乱され、散乱光となってその一部がレーザー窓を通過し、被走査面に外乱光として照射されるという問題を解消する。 - 特許庁