「surface defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, the intermediate part of this hole 3a arranged under the surface of an inner ring orbit 5 is made work as an artificial defect.例文帳に追加

そして、この孔３ａの中間部を上記内輪軌道５の表面下に配置して、この中間部を上記人工欠陥として機能させる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an uniform electrogalvanized steel plate having no surface defect of an original plate and an excellent appear ance.例文帳に追加

原板の表面欠陥に起因するムラの発生が無い、優れた外観を有する電気亜鉛めっき鋼板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ultrasonic inspection method capable of inspecting accurately a defect on a work by suppressing generation of bubbles on the work surface.例文帳に追加

ワークの表面での気泡の発生を抑えることにより、ワークの欠陥を精度良く検査することができる超音波検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a silicon carbide single-crystal substrate with high surface cleanness from which sticking particles causing a crystal defect are removed.例文帳に追加

結晶欠陥を引き起こす付着粒子を除去した表面清浄度が高い炭化珪素単結晶基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

Ar^+ ions are injected from an opening of a mask 50 to introduce a fine grating defect etc., in a desired area in the surface of the SOI layer 12.例文帳に追加

マスク５０の開口部からＡｒ^+イオンを注入してＳＯＩ層１２面内の所望領域に微細な格子欠陥等を導入する。 - 特許庁

To prevent a door from warping and twisting while a defect in appearance is avoided without impeding the degree of freedom in a design of a door surface.例文帳に追加

ドアの反りや捻りを防止すると共に、外観上の不具合も生ずることなく、ドア表面のデザイン設計の自由度を阻害しない。 - 特許庁

To provide a method capable of manufacturing a mask blank without any minute projecting defect on a thin film surface formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成された薄膜表面に微小な凸状の欠陥のないマスクブランクを製造できるマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

Since an oxygen defect in the thin film 13 is restored and the surface of the thin film 13 is cleaned, the luminance of an organic EL element is increased and service life of the element is prolonged.例文帳に追加

ＩＴＯ薄膜１３の酸素欠陥が修復され、また、表面がクリーニングされるので、輝度が高くなり、寿命が長くなる。 - 特許庁

To provide a semiconductor multilayer film having an Si_1-XGe_X film of low surface defect density on an Si single crystal substrate.例文帳に追加

Ｓｉ単結晶基板上において、表面欠陥密度の少ないＳｉ_１−ＸＧｅ_Ｘ膜を有する半導体多層膜を提供する。 - 特許庁

The lens has the film composed of polythiourethane on the lens base material as main component whose surface defect can be observed by a visual inspection shown by JIS-T7313.例文帳に追加

JIS-T7313に示される視覚的な検査により表面欠陥が観察されるレンズ基材上にポリチオウレタンを主成分とする被膜を有するレンズ。 - 特許庁

To provide a method for cleaning immediately after the final polishing of a semiconductor crystal wafer, which has no linear mirror surface defect and the semiconductor crystal wafer.例文帳に追加

ライン状の鏡面欠陥が無い半導体結晶ウェハの最終研磨直後の洗浄方法及び半導体結晶ウェハを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate for semiconductor element provided, on the surface thereof, with a silicon carbide epitaxial film having a high crystallinity and a low defect density.例文帳に追加

高い結晶性と結晶の欠陥密度の低い炭化珪素エピタキシャル膜を表面に有する半導体素子用基板を提供する。 - 特許庁

To provide a surface inspection method of a magnesium containing material capable of visually recognizing even a minute defect without using an expensive machine.例文帳に追加

高価な機械を用いることなく微小な欠陥でも目視で確認することができるマグネシウム含有材の表面検査方法の提供。 - 特許庁

To provide a polyoxymethylene molding composition which is stable during processing, and has negligible formaldehyde release, negligible surface defect, and high color fastness.例文帳に追加

加工中に安定で、無視できるホルムアルデヒド放出、表面欠陥、及び高い色堅牢度を有するポリオキシメチレン成形用組成物を提供する。 - 特許庁

Therefore, composite processing device 4 compositely processes the binarization data, and can detect a defect on the surface of the inspecting object by light-dark detection.例文帳に追加

このため、複合処理装置４は、前記２値化データを複合処理し、明暗検出により、前記被検査物の表面の欠陥を検出できる。 - 特許庁

To provide a surface coated cutting tool with a hard coating layer exhibiting excellent chipping resistance and defect resistance in high-speed intermittent cutting machining.例文帳に追加

高速断続切削加工において硬質被覆層がすぐれた耐チッピング、耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。 - 特許庁

To provide a surface defect evaluation method of silicon wafers capable of simply detecting the regions where minute crystal defects exist.例文帳に追加

簡便に微小な結晶欠陥の存在する領域を検出することが可能なシリコンウェーハの表面欠陥評価方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mold surface treatment method and device that can reduce the occurrence of a defect of a molded article by deoxidizing fouling, in particular, an oxide film, deposited on a molding surface of the mold so that an original material surface of a mold is exposed.例文帳に追加

金型の成形面に付着する汚れ、その中でも酸化膜を還元処理し、本来の金型素材面を露出させることによって成形品の不良発生を低減できる金型の処理方法と処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a uniform sheet-like molding without defect in the molding having excellent releasability even by laminating, and smoothing the front surface and the releasing surface (rear surface) of the molding and a method for manufacturing an electronic component.例文帳に追加

薄層化しても剥離性に優れ、且つシート状成形体の表面、剥離面（裏面）とも平滑にし、またシート状成形体内部にも欠陥のない均一なシート状成形体の製法および電子部品の製法を提供する。 - 特許庁

There provided are the method for processing a semiconductor surface by using the etchant, and the new etchant suitable for featuring a defect on the surface of a semiconductor containing silicon germanium on the surface.例文帳に追加

本発明は、本明細書で開示されたようなエッチング液を用いて半導体表面を処理する方法だけでなく、シリコンゲルマニウム表面を含んだ半導体表面の欠陥を特徴付けるのに適した新規なエッチング液に関する。 - 特許庁

To eliminate the defect that bubbles concentrate to the outside surface of an arc plate-shaped concrete liner to cause the deterioration in appearance and dimensional precision of the outside surface in a method for producing the liner in which a non-concrete layer is formed on the side of an inside surface.例文帳に追加

内周面側に非コンクリート層を設けた円弧板状のコンクリートライナの製造方法に当り、気泡がライナ外周面に集中し、外観も不良で外面寸法精度が低いという欠点を解消する。 - 特許庁

To provide a biaxially oriented polyester film, which exhibits low rough rate of its surface, excellent optical property (appropriate transparency), excellent characteristic features in production/processing, does not have large projection on the film surface and forms no surface defect in coating.例文帳に追加

表面粗度が低く、優れた光学的性質（適度な透明性）を有し、製造・加工特性に優れ、フィルム表面に大きな突起が無く、塗布を行った際に表面欠陥が生じない二軸延伸ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

The electron microscope 5 for observing a defect detected by the optical defect inspection device or the optical appearance inspection device has a constitution wherein an optical microscope 14 for re-detecting the defect is loaded, and a distribution polarization element and a space filter are inserted onto a pupil surface when performing dark field observation by the optical microscope 14.例文帳に追加

光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布偏光素子及び空間フィルタを挿入する構成とする。 - 特許庁

To prevent generation of a defect on a layer formed on a layer caused by a level difference and a defect of a grain boundary in the surface of the layer formed in a multi-layer structure and reduction of a hydrogen permeation performance of the hydrogen permeable membrane by the generated defect in the hydrogen permeable membrane having the multi-layer structure.例文帳に追加

多層構造を有する水素透過膜において、多層構造内に形成される層の表面における粒界段差や欠陥に起因して、この層上に形成される層に欠陥が発生すること、および、発生した欠陥により水素透過膜の水素透過性能が低下すること、を防止する。 - 特許庁

To provide a defect inspection method of an optical film constituted such that adhesion of an adhesive on a mold releasing film or roughening of the surface of a mold releasing agent is inhibited during defect inspection of a part of the mold releasing film by peeling while remaining a part of the mold releasing film in the defect inspection of the optical film.例文帳に追加

光学フィルムの欠点検査において、離型フィルムの一部を残して剥離して欠点検査を行なう場合に、離型フィルムの剥離に際し、離型フィルムに粘着剤が付着したり、粘着剤表面が荒れることがないように構成した光学フィルムの欠点検査方法を提供することにある。 - 特許庁

The surface defect detecting method and device is constituted so that whether it is defect or not is discriminated by using an optical system constituted of a belt like light source 1 used for both dark field lighting and bright field lighting and a light receiving element 3 for detecting the defect in the dark field and bright field and comparing the taken image with a prescribed value.例文帳に追加

暗視野照明及び明視野照明を兼用する帯状光源１と、暗視野及び明視野で欠陥を検出する受光素子３とから構成した光学系を用い、取り込んだ画像を所定値と比較して欠陥か否かを判定するようにした表面欠陥検出方法及び装置。 - 特許庁

To provide a template adjustment method for adjusting a template described with the features of a defect distribution pattern as the reference of classification for classifying defect distribution on the surface of a substrate, and for automatically adjusting a template set by a person so that it can be more accurately fitted for the actual defect distribution.例文帳に追加

基板の表面上の欠陥分布を分類するために、分類の基準となる欠陥分布パターンの特徴が記述されたテンプレートを調整するテンプレート調整方法であって、人が設定したテンプレートを、実際の欠陥分布により正確に適合するように自動的に調整できるものを提供すること。 - 特許庁

To provide a highly reliable defect inspection device detecting defects without omission by forming, in a clear contrast image, an image of a rugged defect with small curvature changes formed on a transparent body sheet-like material surface.例文帳に追加

透明体シート状物表面に発生した曲率変化の小さな凹凸状欠陥を、最も鮮明な明暗像になる状態で結像させることにより、欠陥を漏れなく検出し、信頼性の高い欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To manufacture a coil having a defect marking which can reliably and easily discriminate harmful defects irrespective of presence/absence the adhesion of the rust preventive on a surface of a steel plate without generating any flaws in the steel plate by the defect marking.例文帳に追加

欠陥マーキングによって鋼板に疵を発生することなく、鋼板表面に防錆油等の油付着の有無にかかわらず有害欠陥を確実かつ容易に識別可能とする欠陥マーキングしたコイルを製造する。 - 特許庁

To provide a defect inspecting method using a scanning charged particle beam system, capable of precisely inspecting a defect over a short period of time, which exists on a surface of a sample to be inspected such as a semiconductor LSI or the like, by using a pattern matching technique.例文帳に追加

半導体ＬＳＩなどの被検査試料の表面に生じた欠陥の検査を、パターンマッチング技術を用いて高い精度で短時間に行なうことができる走査型荷電粒子ビーム装置を用いた欠陥検査方法 - 特許庁

To practically use a surface defect inspection device by robot grasping, by reducing rotation deflection in an open end when inspecting a defect while rotated under the condition where one side of an inspected object is grasped and where the other side is opened.例文帳に追加

被検査物の一方を把持し、他方を開放した状態で回転させながら欠陥検査を行う上で、開放端側の回転振れを小さくし、ロボット把持による表面欠陥検査装置を実用化できるようにする。 - 特許庁

To provide a method for evaluating a crystal defect of a silicon single-crystal wafer, evaluating a minute DSOD (Direct Surface Oxide Defect) or the like accurately and easily, without incurring wasteful cost, which is once evaluated only by a Cu deposition method.例文帳に追加

従来Cuデポジション法でしか評価できなかった微小なＤＳＯＤ等を簡便でかつ無駄なコストをかけることもなく、更に精度良く評価可能なシリコン単結晶ウエーハの結晶欠陥の評価方法を提供する。 - 特許庁

To provide a crystal defect evaluating method of a silicon single crystal substrate for quickly evaluating a crystal defect of the p-type low resistance silicon single crystal substrate at a low cost with higher accuracy, by reducting roughness at the front surface of the substrate.例文帳に追加

Ｐ型低抵抗のシリコン単結晶基板の結晶欠陥を、低コストで基板表面の面あれを小さくして高精度で迅速に評価することができるシリコン単結晶基板の結晶欠陥評価方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method by which an operator can select defects having the possibility of exerting a fatal influence upon the operation of an integrated circuit from many pieces of defect data of a wafer surface by his or her easy operation so as to display defect images of the selected defects.例文帳に追加

ウェーハ上の多数の欠陥データの中から集積回路の動作に致命的な影響を与える可能性のある欠陥を、オペレータの容易な操作で選択し、選択した欠陥の欠陥画像を表示できる方法の提供。 - 特許庁

To provide a defect inspection device for a plate-like transparent body and a method thereof capable of detecting a minute defect with a length of about 10 μm in a major axis which is present on a surface of the plate-like transparent body without microscope inspection.例文帳に追加

板状透明体の表面に存在している長径１０μｍ程度の微細傷を、顕微鏡精査を行うことなく検出することができる板状透明体の欠陥検査装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

To detect a condition of a wetted face in a pool 6, a leakage defect, a very small defect or the like on a water surface from a remote site by remote control, without discharging water of the pool in a nuclear power plant.例文帳に追加

原子力発電所内のプール６水を排出することなく、かつ遠隔で水面上から遠隔操作によりプールの接液面の状況、漏洩欠陥や極めて小さい欠陥等を検出する水中点検装置を提供する。 - 特許庁

In a defect inspection device 10, light-receiving directions of optical receivers 22, 24 are set at a light-receiving angle θ_1 (0°<θ_1≤60°, preferably 30°≤θ_1≤45°) having high light-receiving sensitivity to a minute defect which is present on a lower surface of a glass substrate G.例文帳に追加

欠陥検査装置１０は、ガラス基板Ｇの下面に存在している微細傷に強い受光感度を有する受光角度θ_１（０°＜θ１≦６０°、好ましくは３０°≦θ_１≦４５°）に、受光器２２、２４の受光方向を設定した。 - 特許庁

A semiconductor laser 50 related to this invention comprises a laminated body 38 including: an active layer 34 on the surface of a GaN single crystal substrate 30; a defect cluster 14a on the rear surface of the GaN single crystal substrate 30; and an electrode 44 electrically connected to the defect cluster 14a on the rear surface.例文帳に追加

本発明に係る半導体レーザ５０は、ＧａＮ単結晶基板３０の表面に活性層３４を含む積層体３８が形成されると共に、ＧａＮ単結晶基板３０の裏面に欠陥集合部１４ａが形成され、且つ、裏面の欠陥集合部１４ａと電気的に接続されるように電極４４が形成されている。 - 特許庁

To reliably discriminate a main surface of a magnetic disk substrate, where a defect is detected in a magnetic recording layer in the defect inspection of a process for manufacturing the magnetic disk substrate, in a subsequent film-forming process, and to reduce costs by preventing the use of an expensive material for a substrate surface obviously not to be used as a recording surface.例文帳に追加

磁気ディスク基板の製造工程における欠陥検査で磁気記録層に不適切な欠陥が検出された磁気ディスク基板の主表面を、後の成膜工程において確実に判別することができ、初めから記録面として用いられないことが判っている基板面にまで高価な材料を用いることを回避してコストの削減を図ること。 - 特許庁

To provide an inexpensive method for manufacturing a mask blank substrate with a high yield, by which even when a surface defect occurs in the mask blank substrate, the surface defect of the mask blank substrate can be easily corrected without adversely influencing a flatness degree and surface roughness of the substrate, and to provide a method for manufacturing a mask blank and a transfer mask.例文帳に追加

マスクブランク用基板に表面欠陥が発生した場合でも、簡便にかつ基板の平坦度及び表面粗さに悪影響を及ぼすことなくマスクブランク用基板の表面欠陥を修正することのできる、低コストかつ高い歩留まりのマスクブランク用基板の製造方法、並びにマスクブランク及び転写用マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus adaptable to continuous paper which can achieve excellent transfer free from an image defect even in transfer to rough surface paper whose surface is largely roughened and also transfer to the second surface of a web which is wrinkled by heat when fixing a toner image on its first surface even when it is the web whose surface is comparatively flat.例文帳に追加

表面の凹凸の大きな粗面紙への転写や表面が比較的平坦なウェブであっても、第１面のトナー画像定着時の熱によるシワの発生したウェブの第２面に転写においても、画像欠陥のない良好な転写が可能な連続紙対応の画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an article having a fine relief structure on a surface thereof, which is capable of suppressing transfer of a surface defect which occurs on a surface of a mold when manufacturing an article having a fine relief structure formed on a surface thereof is terminated, to the surface of the article when manufacturing the article is restarted.例文帳に追加

微細凹凸構造が表面に形成された物品の製造を終了する際にモールドの表面に発生する表面欠陥が、物品の製造を再開した際に物品の表面に転写されることを抑制することができる、微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solar cell having a current collection structure in which currents generated by a light receiving surface and a reverse surface of the solar cell are both collected on the reverse surface side, wherein a characteristic defect due to formation of a space in an electrode penetrating a substrate along a thickness, a substrate for leading a light receiving surface-side electrode out to the reverse surface side is improved.例文帳に追加

太陽電池の受光面と裏面で生成された電流をともに裏面側で集める集電構造を有する太陽電池セルにおいて、受光面側電極を裏面側に引き出すための基板を厚さ方向に貫通する電極内部において空間が発生することによる特性不良を改善する。 - 特許庁

To simultaneously obtain images at a number of locations only by imaging from one direction even in each curved surface such as inner/outer sides by application to the acquisition of image information in a surface defect automatic inspection such as the outer surface, inner surface, inner bottom surface, end face, or the like of each kind of cylindrical component or the like.例文帳に追加

各種筒状部品等の外側面、内側面、内底面および端面等の表面欠陥自動検査における画像情報取得に適用することにより、内外側面等の各曲面においても、一方向からの撮像のみにより、多数ヶ所の画像を同時に得ることができるようにする。 - 特許庁

To provide a silicon wafer heat treatment method which can considerably reduce void defect of a surface layer part of a wafer, and improve oxygen concentration of the surface layer part, suppress deterioration of surface roughness of a polished surface, and improve productivity in an RTP.例文帳に追加

ウェーハの表層部のボイド欠陥を大きく低減することができ、表層部の酸素濃度を向上させることができ、研磨面の表面粗さの悪化も抑制でき、かつ、ＲＴＰにおける生産性を向上させることができるシリコンウェーハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁