「surface defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a medical surface-nanoscale processed titanium promoting the proliferation and the differentiation of osteoblastic cells, which performs osteoanagenesis by being packed into a joining part between an artificial bone and a bone, reinforcing material for a fractured bone part, various types and shapes of dental implant materials, a mesh-type reinforcing material and a screw and further into an osseous defect site of a jawbone.例文帳に追加

人工関節と骨との接合部や骨折部への補強材、各種形状の歯科インプラント材、メッシュ型補強材およびネジ、更には顎骨などの骨欠損部に填入することにより、骨再生を図ることができるようにした骨芽細胞系細胞の増殖と分化を促進する医療用ナノ表面加工チタンを提供する。 - 特許庁

To provide a vehicle floor material that is excellent in wear resistance and shock resistance, exerts durability over a long time and is much lighter than a steel plate, wherein the characteristics can be exerted and repaired in a state that the vehicle floor is placed on the vehicle even when a woody material with defect such as lesions on its surface is used.例文帳に追加

耐摩耗性や耐衝撃性に優れ、長期間に亘って耐久性を発揮し、しかも鋼板に比べて圧倒的に軽い車両用床材であって、表面に傷等の欠陥のある木質材料を用いた場合でも上記特性を発揮させることが可能で、車両に載せた状態で補修することも可能な車両用床材を提供すること。 - 特許庁

To provide parison for a balloon that helps stably manufacture a balloon catheter without causing failure to expand, explosion at the moment of expansion, and does not cause an appearance defect such as a split, a crack, a pinhole, a dent or the like on the surface of a balloon even if the balloon is formed, when carrying out biaxial drawing blow molding in the manufacture of a polyamide elastomer balloon.例文帳に追加

本発明は、ポリアミドエラストマー製のバルーン作製において、二軸延伸ブロー成形をする際に、膨らまなかったり、膨らんだ途端に破裂するようなことがなく、また成形できてもバルーン表面に割れ、ひび、ピンホール、くぼみ等の外観不良を生じない、安定してバルーンカテーテルを作製できるバルーン用パリソンを提供する。 - 特許庁

Resin layers are formed by packing a resin to the circumferences of the elements arranged on the front surface of a release material layer and the elements and the peeling surfaces of the resin layers are formed flush with each other by peeling the resin layers from the release material layer, by which electrode pads and wiring are easily formed while the defect of connection is suppressed.例文帳に追加

本発明は、離型材層の表面に配置された素子の周囲に樹脂を充填して樹脂層を形成し、前記樹脂層を前記離型材層より剥離することにより前記素子と前記樹脂層の剥離面を同一平面に形成することにより、接続不良を極力抑えながら電極パッド及び配線を容易に形成することができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a highly precise elastic roller having a small surface defect by measuring an electric resistance of the roller during a molding process and controlling a molding device by the measured value to possess small irregularity and a uniform resistance value in the elastic roller used for an image forming apparatus using an electrophotographic process.例文帳に追加

本発明は電子写真プロセスを利用した画像形成装置に用いる弾性ローラにおいて、成形工程時にローラの電気抵抗を測定し、その測定値で成形装置を制御することによってばらつきが少なく均一な抵抗値をもち、さらに表面欠陥の少ない高精度な弾性ローラを製造する方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method whereby slag in a tundish can be discharged well without generation of clogging in an immersion nozzle when it is used in hot reuse and steel excellent in cleanliness is obtainable and further a generation of a bubble defect on the casting surface layer can be prevented when steel containing Mn of 0.8 wt.% or more can be cast.例文帳に追加

タンディッシュを熱間再使用する際に、タンディッシュ内のスラグの排出性が良好で、浸漬ノズルの詰まりの発生がなく、また、清浄性に優れた鋼を得ることができ、さらに、Ｍｎ含有率が０．８重量％以上の鋼を鋳造する場合に、鋳片表層部の気泡性欠陥の発生を防止することができる方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask blank substrate and a method for manufacturing a mask blank, which are capable of recycling a mask blank substrate by, if a transfer mask is unavailable because of the existence of a defect or the like, removing traces of a transfer pattern remaining on a principal surface of the mask blank substrate which has been used in the transfer mask.例文帳に追加

転写用マスクに欠陥が存在するなどのために使用が不可能な場合、転写用マスクに使用されていたマスクブランク用基板の主表面に残る転写パターンの痕跡を除去することにより、マスクブランク用基板の再生を可能にする、マスクブランク用基板の製造方法及びマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

The visual inspection method conducted in the inspection of the construction work comprises establishing plane coordinates on the surface or on the floor of the object to be inspected such as individual room or a section of the divided partition, and the position of a defect found in the inspection is specified by numerals according to the coordinates.例文帳に追加

建築工事の検査において実施する目視検査方法であって、検査の対象となる１室ごとに、または分割された１区画ごとにその床面に、あるいは検査の対象となる面ごとに平面座標を設定し、検査にて発見された不具合の位置を前記座標上の数値で特定することを特徴としている。 - 特許庁

To reinforce adhesive force between organic polymer layers by performing cleaning and reforming of the surface of a lower side organic polymer layer without losing economical properties and productivity for the purpose of preventing a display defect caused by insufficient adhesive force between the organic polymer layers, in a method for manufacturing a color filter wherein the organic polymer layers are superposed on a substrate.例文帳に追加

基板上に有機高分子層を重ね合わせたカラーフィルタの製造方法において、有機高分子層間の密着力不足に起因する表示不良の発生を防止するために、下側有機高分子層表面の洗浄・改質を経済性・生産性を損なうことなく実施し、有機高分子層間の密着力を強化する。 - 特許庁

To provide a medical surface-nanofabricated titanium promoting the proliferation and the differentiation of osteoblastic cells performing and the osteoanagenesis by filling a joining part between an artificial bone and a bone, and further an osseous defect site of a jawbone with a reinforcing material, various types and shapes of dental implant materials, a mesh-type reinforcing material and a screw.例文帳に追加

人工関節と骨との接合部や骨折部への補強材、各種形状の歯科インプラント材、メッシュ型補強材およびネジ、更には顎骨などの骨欠損部に填入することにより、骨再生を図ることができるようにした骨芽細胞系細胞の増殖と分化を促進する医療用ナノ表面加工チタンを提供する。 - 特許庁

The polymer film to be used as the liquid crystal orientation support base plate capable of outstandingly reducing a defect of orientation of the liquid crystal film can be manufactured by feeding out the polymer film and a polishing film at an unequal speed and polishing a film surface of the polymer film by contacting it such that both films have a relative speed on a guide roll.例文帳に追加

高分子フィルムおよび研磨フィルムを非等速で送り出し、ガイドロール上で両フィルムが相対速度を持つように接触させることによって高分子フィルムのフィルム表面を研磨することにより、液晶フィルムの配向欠陥を極めて低減することができる液晶配向支持基板となる高分子フィルムを製造することができる。 - 特許庁

To provide a vacuumizing mold structure rich in durability, removing such a defect that a conventional vacuumizing mold structure has no durability and it is difficult to bring a cavity to a high vacuum degree for a short time and performing molding in such a state that the cavity is brought to a high vacuum degree to obtain a molded product having a highly accurate dimension and excellent in surface transfer properties.例文帳に追加

従来の真空引き用金型構造にあった耐久性の無い短時間でキャビティを高真空度にすることが困難であったという欠点を取除き、キャビティを高真空度にして成形し、高精度寸法で表面転写性の優れた成形品を得る耐久性に富んだ真空引き用金型構造を提供すること。 - 特許庁

To remove defect causing objects of edge sections while maintaining friction force and sliding durability of a magnetic recording medium without removing the top coating of the surface of a magnetic recording medium 12 which is made by successively forming a ferromagnetic and metallic thin film layer, a protective film layer, and a top coating layer on a non-magnetic supporting body.例文帳に追加

非磁性支持体上に強磁性金属薄膜層、保護膜層およびトップコート層を順次形成して成る磁気記録媒体１２において、磁気記録媒体の表面のトップコートを除去することなく、磁気記録媒体としての摩擦力、摺動耐久性を維持しながらエッジ部の欠陥原因物を除去することができるようにする。 - 特許庁

When a defect such as peeling occurs on a covered sheet 4 by the circulating movement of the handrail 3 by the operation of the passenger conveyor, reflected energy wave is not detected though projected energy wave from the projection part 13 of a detector 12 is reflected on a projection surface 10 to automatically detect the occurrence of the abnormality of the covered sheet 4.例文帳に追加

乗客コンベヤーの運転による移動手摺３の循環移動により被覆シート４に剥がれ等の不具合が発生している状態では、検出器１２の投射部１３からの投射エネルギー波が反射面１０で反射するものの反射エネルギー波が検出されず、これにより被覆シート４の異常発生を自動的に検出する。 - 特許庁

In electron irradiation observation from a normal direction on the surface of a wafer WF using a first column 8 of a scanning electron microscope; when it is determined that a defect is caused by releasing, an edge of the wafer WF is moved to an imaging position of the second column 16 of the scanning electron microscope by an XYθ stage 24, and the edge of the wafer WF is observed obliquely.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡の第一カラム８によるウェハWF表面の法線方向からの電子照射観察において、欠陥がはがれに起因すると判定される場合に、ＸＹθステージ２４によってウェハWFのエッジを走査型電子顕微鏡の第二カラム１６の撮像位置に移動し、斜方からウェハWFのエッジを観察する。 - 特許庁

To provide a method for measuring defects in a polymer film which can correctly reflect the planarity required for the quality, if the polymer film is used as a product, can permanently and frequently maintain the accuracy, prevents the planarity from being altered, even if an area of a to-be-inspected surface is large, and conveniently and efficiently measures the defect.例文帳に追加

ポリマーフィルムを製品として使用する場合の品質として求められる平面性を正しく反映することができ、恒常的に高頻度で精度を保つことができ、大面積の検査面であっても、その平面性を変質させずに簡便に効率良く測定することができるポリマーフィルムの欠陥の測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a diaphragm for an air spring by which durability and molding accuracy of the diaphragm is considerably improved by satisfactorily preventing the occurrence of a defect such as a bare spot on the outer surface of the diaphragm without requiring the disposition of a vent hole in a vulcanization mold, that is, without causing a vent spew on a product diaphragm.例文帳に追加

加硫金型にベントホールを設ける必要なしに、いいかえれば、製品ダイアフラムにベルトスピューを発生させることなしに、そのダイアフラムの外表面へのベア等の欠陥の発生を十分に防止することで、ダイアフラムの耐久性および成形精度を大きく向上させた空気ばね用ダイアフラムの製造方法を提供する。 - 特許庁

To enhance the productivity of a thermoplastic resin sheet excellent in its thickness uniformity and reduced in its surface defect to a large extent by increasing the rotational speed of a cooling drum at a time of the extrusion molding of a thermoplastic resin and suppressing the generation of deteriorated resin increased in generation frequency as an increase in the rotational speed of the cooling drum.例文帳に追加

熱可塑性樹脂を押出し成形するに際し、冷却ドラム回転速度を上げることができ、しかも冷却ドラム回転速度を上げるに従いその発生頻度が高くなる目やにの発生を抑制することで、厚み均一性に優れた表面欠点の少ない熱可塑性樹脂シートの生産性を大幅に向上できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed circuit board in which a damage, a dirt does not occur on the surface of a photoresist layer from the contact of a board for a printed circuit board with a member in a conveying step or the like, and which has excellent followability of the photoresist layer to a ruggedness such as a nick or the like on a conductive board and very little defect.例文帳に追加

搬送工程等の部材とプリント配線板用基板の接触から生じるフォトレジスト層表面のキズ、汚れが発生せず、またフォトツールの汚れが生じず、また、導電性基板上の打痕等の凹凸部に対するフォトレジスト層の追従性が優れ、欠陥が非常に少ない、プリント配線板の作製方法を提供しようとするものである。 - 特許庁

In an optical element 1 having optical function surfaces 7, 8 including optically effective regions 10, 11, there are provided comparison standard parts 12, 14 for the visual inspection, that become comparison references when performing the visual inspection of surface defect of the optically effective regions 10, 11 based on their appearances, outside the optically effective regions 10, 11.例文帳に追加

光学有効領域１０、１１を含む光学機能面７、８を有する光学素子１において、前記光学有効領域１０、１１の外側に、前記光学有効領域１０、１１の表面欠陥を外観に基づいて検査する外観検査を行う際の比較基準となる外観検査用比較基準部１２、１４を有すること。 - 特許庁

A defect inspection device 1 includes a light source 2 for irradiating an inspection target surface 10 of a box B with a plurality of beans of slit light L; a camera 3 for photographing the slit light L emitted from the light source 2; and an image processing part 4 for determining the quality of the box B by processing an image G photographed by the camera 3.例文帳に追加

不良検査装置１は、箱Ｂの検査対象とする面１０に対して複数本のスリット光Ｌを照射する光源部２と、光源部２により照射されたスリット光Ｌを撮像するカメラ部３と、カメラ部３によって撮像された画像Ｇを処理して箱Ｂの良・不良を判定する画像処理部４と、を備えている。 - 特許庁

Therefore, even if the heater plate has slight unevenness or projections on its surface, the mounting jig is placed in secure contact, temperature tracking characteristics of the mounting jig for the temperature of the heater plate are improved, and the mounting jig can be brought under temperature control suitable for liquid crystal injection through the heater plate, so defect generation during the liquid crystal injection are reduced to improve the yield.例文帳に追加

従って、ヒータ・プレートの表面に多少の凹凸や突起があっても接触は確実となり、ヒータ・プレートの温度に対する搭載治具の温度の追従性がよく、ヒータ・プレートを経て前記搭載治具を液晶注入に最適な温度制御を行うことができるので、液晶注入時の不良発生が少なくなり歩留まりが向上する。 - 特許庁

To provide an inexpensive high performance supported copper foil laminate wherein the defect of a conventional CAC(copper-aluminum-copper) laminated article is improved, that is, workability is enhanced, the generation of a defective article is prevented, handling is made easy and a contaminant such as a resin powder or the like is not bonded to the surface of a copper foil and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

従来のＣＡＣ（銅−アルミニウム−銅）積層品の欠点を改善する、すなわち作業性を高め、不良品の発生を防止しするとともに、取扱いを容易にし、しかも銅箔表面に樹脂の粉等の汚染物が付着しないようにした安価で高性能な支持体付き銅箔積層体及びその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor excellent in surface mechanical durability and oxidation resistance, suppressing an image defect caused by deposition of a discharge product, while having excellent sensitivity, having low friction against sliding and high water repellency, and easily maintaining the characteristics at a high level with time, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus using the photoreceptor.例文帳に追加

表面の機械的耐久性や耐酸化性に優れ、放電生成物の付着に起因する画像欠陥も抑制できると共に感度にも優れ、摺動に対する低摩擦や高撥水性、さらにこれらの特性を経時的に高いレベルで維持することが容易な電子写真用感光体、並びに、これを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することである。 - 特許庁

To provide glass fiber for reinforcement capable of being excellently bound and processed, excellent in shaping characteristics, mechanical strength, water resistance, hot water resistance and the like, and particularly excellent in color tone change resistance, surface appearance without defect of appearance, and to provide a fiber-reinforced unsaturated polyester resin composition using the glass fiber for reinforcement.例文帳に追加

集束性および作業性に優れた強化用ガラス繊維であって、成形性、機械的強度、耐水性および耐熱水性などに優れ、特に前記外観欠点がなく、色調劣化や表面外観に優れた繊維強化不飽和ポリエステル樹脂成形体を実現できる強化用ガラス繊維と、かかる強化用ガラス繊維を用いた繊維強化不飽和ポリエステル樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a conductive resin cube which has high electrostatic chargeability, makes it possible to stably obtain an adequate resistance value even during impression of a high voltage, has the strength to withstand repetitive and continuous use and more particularly good bending durability and does not give rise to a surface defect, etc., with lapse of time and a conductive roller which makes it possible to stably obtain a high-quality image.例文帳に追加

高い帯電能力を有し、高電圧印加時にも適正な抵抗値を安定して得ることができるとともに、繰り返し連続使用に耐える強度、特には良好な屈曲耐久性を備え、さらには経時による表面欠陥等の発生もない導電性樹脂チューブ、および、高品質な画像を安定して得ることができる導電性ローラを提供する。 - 特許庁

To detect defects, such as surface cracks, generated in a large steel structure, such as a bridge and each kind of cargo handling equipment, remotely, easily, and reliably by a simple apparatus configuration without assembling a scaffold for defect detection work, without requiring any heating means of the steel structure, and without requiring any means for applying a load to the steel structure, such as a shaking apparatus.例文帳に追加

橋梁や各種荷役機械などの大型鋼構造物に生じた表面亀裂などの欠陥を、欠陥検出作業用の足場を組むことなく、鋼構造物の加熱手段を必要とせず、しかも、加振装置などの鋼構造物への荷重負荷の付与手段を必要とせずに、簡単な装置構成によって、離れた場所から容易かつ確実に検出することができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a three-dimensional circuit board, capable of overcoming the occurrence of an overlap or a gap between both ends of the metal wiring layer, when manufacturing the three-dimensional circuit board by forming a metal wiring layer around an outer circumferential surface of a cylindrical body, and also capable of preventing a conduction defect caused by deposition of an adhesive without creasing the metal wiring layer.例文帳に追加

円筒体外周面に金属配線層を形成して立体的回路基板を製造する際に、金属配線層の両端部で重なりや間隙が発生する問題を解消すると共に、金属配線層にシワなどが発生することなく、また接着剤などの付着による導通不良を防ぐことができる立体的回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

When the diameter of the opening 28 is made, for example, 1 to 2 μm larger than the diameter of the lower columnar electrode 10, fringing of an inner wall surface bottom part of the opening 28 is suppressed by a side face of the lower columnar electrode 10 even in case of occurrence of an exposure defect to the plating resist film 27 for columnar electrode formation, thereby reducing deformation of the shape of the upper columnar electrode 11.例文帳に追加

開口部２８の直径を下部柱状電極１０の直径より例えば１〜２μｍ大きく形成すると、柱状電極形成用メッキレジスト膜２７に露光不良が生じても、開口部２８の内壁面底部に発生する裾引きが下部柱状電極１０の側面で抑制され、上部柱状電極１１の形状が歪になるのを軽減できる。 - 特許庁

In the ultrasonic flaw detection method of solid shaft 1 for detecting a defect occurring from the surface at the step part 12 of a solid shaft 1 using an ultrasonic wave, a variable angle probe 14 capable of varying the incident angle is used when a longitudinal ultrasonic wave enters from the end face 10a of the solid shaft 1 and the refraction angle α satisfies the following conditions.例文帳に追加

段付部１２を有する中実軸１の段付部表面から生じる欠陥を超音波により検査する中実軸の超音波探傷方法において、中実軸１の軸端面１０ａから縦波超音波を入射するに際して、入射角を変化可能な可変角探触子１４を使用するものであり、屈折角αが下記条件式を満足する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device and its method capable of executing inspection by discriminating an adhering foreign matter from scratches having various shapes generated on the surface when abrading or grinding such as CMP or the like is applied to a processing object (for example, an insulating film on a semiconductor substrate) in semiconductor manufacture or magnetic head manufacture.例文帳に追加

半導体製造や磁気ヘッド製造において、被加工対象物（例えば、半導体基板上の絶縁膜）に対してＣＭＰなどの研磨または研削加工を施した際、その表面に生じる様々な形状を有するスクラッチと付着する異物とを弁別して検査することができるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a CMOS image sensor which can improve light efficiency of blue light by reducing the depth of a p-type impurity region to be introduced to isolate a photodiode and the surface of a silicon substrate, reduce a determination defect which may occur during an ion implantation process, and improve light characteristics by forming a high-density p-type impurity region.例文帳に追加

フォトダイオードとシリコン基板の表面との間の隔離のために導入されるＰ型不純物領域の深さを浅くしてブルー系の光の光効率を改善し、イオン注入時に生じる決定欠陥を抑制し、高濃度のＰ型不純物領域を形成することにより光特性を改善させるＣＭＯＳイメージセンサの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing a photomask determines a drawing position of a transfer pattern so that, in a drawing step, at least a part of the defects existing in a thin film of the photomask blank and/or a surface of a resist film is within an area of the transfer pattern and the defects of the part disappear after etching processing on the basis of defect information of the photomask blank grasped beforehand.例文帳に追加

描画工程において、予め把握したフォトマスクブランクの欠陥情報に基づき、フォトマスクブランクの薄膜及び／又はレジスト膜表面に存在する欠陥の少なくとも一部分が、転写パターンの領域内にあって、かつエッチング加工後には該一部分の欠陥が消滅するように、転写パターンの描画位置を決定するフォトマスクの製造方法である。 - 特許庁

A defect inspection device is provided with a first irradiating means S for irradiating a sample 9 by emitting primary electron beams, mapping optical mechanisms 11 to 13 or imaging secondary electrons emitted from the surface of the sample 9 irradiated with the secondary electron beams, a detector D for detecting the secondary electrons, and an image treatment mechanism 18 for treating signals from the detector D.例文帳に追加

欠陥検査装置は、一次電子線を放出して試料９を照射するための第１の照射手段Ｓと、一次電子線で照射された試料９の表面から放出された二次電子を結像させるための写像光学機構１１〜１３と、二次電子を検出するための検出器Ｄと、検出器Ｄからの信号を処理する画像処理機構１８とを具備する。 - 特許庁

To provide a method for jointing a ceramic powder molded product which does not need the high accuracy processing of the jointing surface of the molded product, has high jointing strength possible to process similarly to the molded product, and, before and after baking, can make the molded product having a jointing part of characteristics equivalent to a matrix material without a defect, density nonuniformity, etc.例文帳に追加

本発明は、成形体の接合面の高精度の加工が不要であり、成形体と同様の加工が可能な高強度の接合強度を有すると共に、焼成前及び焼成後において、欠陥や密度の不均一等が無い母材と同等の特性の接合部を有する成形体とすることのできるセラミックス粉末成形体の接合方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor capable of preventing the occurrence of an image defect of an interference fringe pattern without performing treatment of surface-roughening or the like even when being used to an electrophotographic apparatus for image forming using coherent light such as semiconductor laser light and forming a satisfactory image and having high performance and satisfactory electric characteristics and to provide an image forming apparatus using the photoreceptor.例文帳に追加

半導体レーザー光等の可干渉光を用いて像形成を行う電子写真装置に用いた場合でも、粗面化等の処理をすることなく干渉縞模様の画像欠陥の発生を防止し、良好な画像を形成することが可能で、且つ、電気特性も良好である高性能な電子写真感光体、および該感光体を用いた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a system and method for defect inspection which can discriminate various shaped scratches from adhered foreign substances, generated on the surface of any processed subject to be inspected, when implementing of grinding or polishing, such as Chemical Mechanical Polishing (CMP) on the processed subject (for example, insulating film on semiconductor substrate) is conducted, in the manufacturing of semiconductor or magnetic head.例文帳に追加

半導体製造や磁気ヘッド製造において、被加工対象物（例えば、半導体基板上の絶縁膜）に対してＣＭＰなどの研磨または研削加工を施した際、その表面に生じる様々な形状を有するスクラッチと付着する異物とを弁別して検査することができるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

(1) This manufacturing method includes processes of: forming polysilicon layers on outer surfaces of a silicon wafer formed with a non-defect region cut out from a silicon single-crystal ingot grown by Czochralski method; applying an RTA process to the wafer with the polysilicon layers formed thereon; and removing the polysilicon layer at least on one-side principal surface of the wafer after the RTA process.例文帳に追加

（１）チョクラルスキー法により育成されたシリコン単結晶インゴットから切り出された無欠陥領域からなるシリコンウェーハの外表面にポリシリコン層を形成する工程と、前記ポリシリコン層を形成したウェーハにＲＴＡ処理を施す工程と、ＲＴＡ処理後のウェーハのすくなくとも一方の主面のポリシリコン層を除去する工程とを有する製造方法。 - 特許庁

To provide a processing apparatus for a CTP printing plate that gives no adverse influence on an automatic platemaking machine caused by an elution defect portion on an end face of a photosensitive material due to pressure fog upon developing, even in a CTP printing plate requiring a chamfering process, and that can carry out stable development for a long period of time without depositing dirt on the surface of a conveyer roll.例文帳に追加

面取り処理を必要とするＣＴＰ印刷版においても現像時に圧力カブリによる感光材料端面部の溶出不良部に起因する自動製版機への悪影響が無く、また搬送ロールの表面に汚れが固着することなく長期に渡って安定な現像処理を行うことが可能なＣＴＰ印刷版の処理装置を提供する事。 - 特許庁

This defect inspecting device is provided with a laser beam source 1 for generating a light beam, a sample table 11 for observation, an objective lens 9 for converging the beam from the light source to irradiate a surface of a sample, a half-mirror 6a for separating a light beam reflected by the sample from the beam incident into the sample, and a wedge 17 for branching the separated light beam.例文帳に追加

本発明にかかる欠陥検査装置は光ビームを発生するレーザー光源１と、観察すべき試料台１１と、前記光源からの光ビームを集束して試料の表面に照射する対物レンズ９と、試料で反射した光ビームを試料に入射する光ビームから分離するハーフミラー６ａと、分離された光ビームを分岐するウェッジ１７を備えている。 - 特許庁

Consequently, since oxidation film can be securely formed even in the part where surface area of the end parts of fins 122, 132 is very small if oxidation film is formed by the anode oxidation film treatment, it is possible to prevent the generation of hydrogen gas securely due to chemical reaction of aluminum and water, even if SiO_2 film cannot be formed and a crack defect occurs in the SiO_2 film.例文帳に追加

したがって、陽極酸化皮膜処理にて酸化皮膜を形成すれば、フィン１２２、１３２の端部等の表面積が非常に小さい部分にも確実に酸化皮膜を形成することができるので、仮に端部にＳｉＯ_２皮膜が形成できなかった場合やＳｉＯ_２皮膜にクラック欠陥が発生していたとしても、アルミニウムと水とが化学反応して水素ガスが発生することを確実に防止できる。 - 特許庁

The method of processing the substrate where the substrate is processed by dividing the same in a depth direction includes the steps of injecting protons from a main surface of the substrate S11; and irradiating to the substrate a light, having a wavelength substantially equal to the absorption wavelength of the defect level formed in the substrate by the proton injection so as to divide the substrate S12.例文帳に追加

基板加工方法は、基板を深さ方向において分断することによって加工する基板加工方法であって、基板の一主面側からプロトン注入を行うプロトン注入工程Ｓ１１と、プロトン注入によって基板中に形成された欠陥準位の吸収波長と略等しい波長をもつ光を基板に照射することにより基板を分断する照射工程Ｓ１２と、を具備する。 - 特許庁

To prevent a generation of a bird's beak on a surface of an element formation region due to a thick element isolation film formed in an element isolation region, to prevent an occurrence of a crystal defect in a semiconductor layer near an end of the element isolation film, and to reduce a stress received by the semiconductor layer, in a semiconductor device having a plurality of element formation regions and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

複数の素子分離領域で分離された複数の素子形成領域を有する半導体装置及びその製造方法において、素子分離領域に形成される膜厚の厚い素子分離膜による素子形成領域の表面のバーズビークの発生を防ぐこと、並びに素子分離膜の端部近傍の半導体層に結晶欠陥が発生することを防止し、且つ該半導体層が受けるストレスの低減を図る。 - 特許庁

To provide an aluminum oxide precursor sol which suppresses a defect in the appearance of a film caused by the flocculation of an organic aluminum compound upon film formation by removing the organic aluminum compound from the aluminum oxide precursor sol, and which enables a surface rugged structure having antireflection performance at low temperature to be produced, and to provide a method for producing the aluminum oxide precursor sol, and a method for producing an optical member using the same.例文帳に追加

有機アルミニウム化合物を酸化アルミニウム前駆体ゾルから除去することで製膜時の有機アルミニウム化合物の凝集による外観不良を抑制し、かつ低温で反射防止性能を有する表面凹凸構造を作製可能な酸化アルミニウム前駆体ゾルおよび酸化アルミニウム前駆体ゾルの製造方法、それ用いた光学用部材の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a hetero epitaxial wafer structured so that an element layer constituted of a compound semiconductor is hetero-epitaxially grown through a buffer layer on the main surface of a substrate capable of reducing a residual stress even when a linear expansion coefficient difference between the substrate and the element layer is large, and effectively suppressing the bending of the wafer or crystal defect generation to the element layer or the like.例文帳に追加

基板の主表面上に、バッファ層を介して化合物半導体よりなる素子層をヘテロエピタキシャル成長させた構造とされるヘテロエピタキシャルウエーハにおいて、基板と素子層との間の線膨張係数差が大きい場合にも、残留する応力を低減することができ、ひいては、ウエーハの反りや素子層への結晶欠陥発生などを効果的に抑制できるヘテロエピタキシャルウエーハを提供する。 - 特許庁