「surface defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing a highly precise elastic roller having a small surface defect by measuring an electric resistance of the roller during a molding process and controlling a molding device by the measured value to possess small irregularity and a uniform resistance value in the elastic roller used for an image forming apparatus using an electrophotographic process.例文帳に追加

本発明は電子写真プロセスを利用した画像形成装置に用いる弾性ローラにおいて、成形工程時にローラの電気抵抗を測定し、その測定値で成形装置を制御することによってばらつきが少なく均一な抵抗値をもち、さらに表面欠陥の少ない高精度な弾性ローラを製造する方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method whereby slag in a tundish can be discharged well without generation of clogging in an immersion nozzle when it is used in hot reuse and steel excellent in cleanliness is obtainable and further a generation of a bubble defect on the casting surface layer can be prevented when steel containing Mn of 0.8 wt.% or more can be cast.例文帳に追加

タンディッシュを熱間再使用する際に、タンディッシュ内のスラグの排出性が良好で、浸漬ノズルの詰まりの発生がなく、また、清浄性に優れた鋼を得ることができ、さらに、Ｍｎ含有率が０．８重量％以上の鋼を鋳造する場合に、鋳片表層部の気泡性欠陥の発生を防止することができる方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask blank substrate and a method for manufacturing a mask blank, which are capable of recycling a mask blank substrate by, if a transfer mask is unavailable because of the existence of a defect or the like, removing traces of a transfer pattern remaining on a principal surface of the mask blank substrate which has been used in the transfer mask.例文帳に追加

転写用マスクに欠陥が存在するなどのために使用が不可能な場合、転写用マスクに使用されていたマスクブランク用基板の主表面に残る転写パターンの痕跡を除去することにより、マスクブランク用基板の再生を可能にする、マスクブランク用基板の製造方法及びマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of a short-circuiting defect between lead terminal electrodes by spreading a conductive adhesive by a surface tension when connecting the exposed connection part of a lead terminal provided on the inner bottom of a case and the electrode of an electronic component element by the conductive adhesive since an interval between the electrodes of the electronic component becomes narrow with the miniaturization of the electronic component.例文帳に追加

電子部品の小型化にともない、電子部品の電極の間隔が狭まり、ケースの内底面に設けたリード端子の露出接続部と電子部品素子の電極を導電性接着剤で接続する際、導電性接着剤が表面張力により広がり、リード端子電極間で短絡不良が発生するのを防止する。 - 特許庁

A magnetic inspection equipment 4 is composed of a magnetizer 5 for impressing a magnetic field to a running steel plate 1, magnetic sensors 6a, 6b arranged in a position opposed to the magnetizer 5 to sandwich the steel plate 1, and a signal processor 7 for detecting a defect 8 in the inside or surface of the steel plate 1 based on detection signals from the sensors 6a, 6b.例文帳に追加

磁気探傷装置４は、走行状態の鋼板１に磁界を印加する磁化器５と、鋼板１を挟んで磁化器５の対向位置に配設された磁気センサ６ａ、６ｂと、この磁気センサ６ａ、６ｂからの検出信号に基づいて鋼板１の内部または表面の欠陥８を検出する信号処理装置７とで構成されている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an SOI substrate which efficiently removes an ion implantation defect layer present in an ion-implantation layer near a flaked face flaked by an ion-implantation flaking method, obtains film thickness uniformity between substrates and in the surface of the substrate, and is also applied to the SOI substrate which uses low melting point material for a handle wafer.例文帳に追加

イオン注入剥離法によって剥離した剥離面近傍のイオン注入層に存在するイオン注入欠陥層を効率的に除去し、かつ基板間・基板面内の膜厚均一性を取ることができ、またハンドルウェーハに低融点材料を用いたＳＯＩ基板にも適用することのできるＳＯＩ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

An indentation device 5a constituting the defect marker 5 includes a cylindrical part 8a, a roller 8 consisting of a plurality of projections 8b formed along an outer peripheral surface thereof, bearings 9 rotatably supporting the roller 8, a cylinder 10 supporting the bearings 9, and a speed controller 11 controlling a driving speed for the cylinder 10.例文帳に追加

欠陥マーキング装置５を構成する圧痕装置５ａは、円筒部８ａと、その外周面に沿って形成された複数の突起部８ｂからなるローラ８と、前記ローラ８を回転自在に支持するベアリング９と、前記ベアリング９を支持するシリンダ１０と、前記シリンダ１０の駆動速度を制御するスピードコントローラ１１と、を備えている。 - 特許庁

The position marks 3 indicating the positions from an end in a longitudinal direction of the hose 1 are marked at predetermined intervals on an outer surface of the hose 1 and therefore, even when a quality defect is found after the hose is cut to an arbitrary length at a shipping destination, the length position of the hose 1 in a production lot can be identified by the position marks 3.例文帳に追加

ホース１の外面に、ホース１の長さ方向一端からの位置を示す位置表示３を所定間隔おきに表示するようにしたので、例えば出荷先で任意の長さに切断された後に品質不良が発見された場合であっても、位置表示３によって生産ロットにおけるホース１の長さ位置を特定することができる。 - 特許庁

To provide hyperfine-grained base metal powder, and a method for mass production of such hyperfine-grained base metal powder, and an electronic component, wherein the obtained hyperfine-grained base metal powder is used for a conductive paste, so that a conductor film of a thin layer is formed on the surface of an insulator and the occurrence of a defect such as delamination is suppressed.例文帳に追加

超微粒の卑金属粉末と、このような超微粒の卑金属粉末を大量に生産するための製法を提供すること、ならびに、こうして得られた超微粒の卑金属粉末を導体ペーストに用いて、絶縁体の表面に薄層の導体膜を有し、デラミネーション等の不良の発生を抑制できる電子部品を提供する。 - 特許庁

The laminated sheet is composed by laminating on at least one surface of a polycarbonate resin layer (A), a methacrylic resin layer (B) and a methacrylic resin layer (C) that includes the rubbery polymer in this order, and as a result the linear defect that occurs along the squeezing flow direction can be made difficult to stand out and, therefore, the appearance of the laminated sheet can be made superior.例文帳に追加

ポリカーボネート樹脂層（Ａ）の少なくとも一方の面に、メタクリル樹脂層（Ｂ）と、ゴム状重合体を含有するメタクリル樹脂層（Ｃ）とが、この順に積層されてなる積層板であり、これにより押出流れ方向に沿って発生する線状欠陥を目立ち難くすることができ、それゆえ積層板の外観を優れたものにすることができる。 - 特許庁

To provide a processing method after a development processing of a base material for manufacturing wiring plate which can remove sticky foreign matters adhered to a surface of the base material after the exposure processing and the development processing of a photosensitive resin coat formed on the base material, and which can prevent occurrence of circuit forming defect such as short circuit when a circuit is formed by an etching processing.例文帳に追加

基材に形成した感光性樹脂皮膜の露光・現像処理後に基材表面に付着した粘着性の異物を除去することができ、エッチング処理による回路形成時にショートサーキット等の回路形成不良の発生を防止することができる配線板製造用の基材の現像処理後の処理方法を提供する。 - 特許庁

The surface defect removal of the cast slab containing the expensive metals such as nickel, vanadium, molybdenum, tungsten, chromium, manganese is performed with a cutting-off method and made to solid-shape by classifying the generated cut-off scrap into the respective contained expensive metals and compression forming at the high pressure of 20-800 MPa, and melted and reused in a refining process for steel containing the same expensive metal.例文帳に追加

ニッケル、バナジウム、モリブデン、タングステン、クロム、マンガンなどの高価金属を含有する鋳片の表面欠陥除去を切削法により行い、発生する切削屑を含有する高価金属別に分別して２０〜８００ＭＰａの高圧で圧縮成形することにより固形化し、同じ高価金属を含有する鋼の精錬プロセスで溶解して再利用する。 - 特許庁

To provide a developing device which achieves smooth circulation of developer and uniformly and sufficiently electrifies toner even if a large amount of toner is replenished at once, consequently does not causes an image defect such as surface fogging nor contamination due to toner scattering or the like and which therefore can meet the need of increasing an image forming speed, and to provide an image forming apparatus including the developing device.例文帳に追加

現像剤が円滑に循環し、かつ多量のトナーが一度に補給されても、トナーを均一にかつ充分に帯電させ、地肌かぶりといった画像不良、トナーの飛散による汚染などの原因にならず、画像形成速度の高速化に対応可能な現像装置およびそれを含む画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method and an inspection device capable of stably detecting a small defect such as a stain and a foreign matter generated in the contour vicinity even when the contour direction cannot be determined since the contour in an inspection object image is not a simple straight line shape and is a complicated shape such as a waveform in an inside surface inspection of a package.例文帳に追加

パッケージの内面検査、等において、検査対象画像における輪郭が単純な直線状ではなく波形状等の複雑形状であって輪郭の方向が定まらないような場合であっても、輪郭近傍に発生する小さな、汚れ、異物、等の欠陥を安定して検出することができる検査方法および検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a hermetic scroll compressor solving a defect that an edge part interferes with a chip seal groove wall surface when force acts on a chip seal in a twisting direction due to a rectangular chip seal section shape, floating performance is dropped, and refrigerant leaks into a compression chamber in a lower pressure side by crossing the chip seal to degrade performance.例文帳に追加

チップシール断面形状が概矩形であることにより、チップシールにねじれ方向の力が働いた時にエッジ部がチップシール溝壁面に干渉して、浮上性能が低下し、チップシールを横断してより低圧側の圧縮室へ冷媒が漏れ込んで性能低下するするという課題を解決した密閉型スクロール圧縮機を提供する。 - 特許庁

The temperature distribution visualizing/imaging display or the defect detecting display includes: a temperature distribution object 1 having a surface applied with a light emitting material 2 for emitting a light in response to infrared rays; the color camera 5 for imaging the temperature distribution object 1; and a display means 7 or 8 for displaying a color distribution image corresponding to a temperature distribution imaged by the color camera 5.例文帳に追加

温度分布可視化撮影表示装置あるいは欠陥検出表示装置は、赤外線により発光する発光物質２を表面に塗布した温度分布被写体１と、温度分布被写体１を撮影するカラーカメラ５と、カラーカメラ５で撮影した温度分布に対応するカラー分布像の表示手段７または８とを備えている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a diaphragm for an air spring by which durability and molding accuracy of the diaphragm is considerably improved by satisfactorily preventing the occurrence of a defect such as a bare spot on the outer surface of the diaphragm without requiring the disposition of a vent hole in a vulcanization mold, that is, without causing a vent spew on a product diaphragm.例文帳に追加

加硫金型にベントホールを設ける必要なしに、いいかえれば、製品ダイアフラムにベルトスピューを発生させることなしに、そのダイアフラムの外表面へのベア等の欠陥の発生を十分に防止することで、ダイアフラムの耐久性および成形精度を大きく向上させた空気ばね用ダイアフラムの製造方法を提供する。 - 特許庁

To enhance the productivity of a thermoplastic resin sheet excellent in its thickness uniformity and reduced in its surface defect to a large extent by increasing the rotational speed of a cooling drum at a time of the extrusion molding of a thermoplastic resin and suppressing the generation of deteriorated resin increased in generation frequency as an increase in the rotational speed of the cooling drum.例文帳に追加

熱可塑性樹脂を押出し成形するに際し、冷却ドラム回転速度を上げることができ、しかも冷却ドラム回転速度を上げるに従いその発生頻度が高くなる目やにの発生を抑制することで、厚み均一性に優れた表面欠点の少ない熱可塑性樹脂シートの生産性を大幅に向上できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed circuit board in which a damage, a dirt does not occur on the surface of a photoresist layer from the contact of a board for a printed circuit board with a member in a conveying step or the like, and which has excellent followability of the photoresist layer to a ruggedness such as a nick or the like on a conductive board and very little defect.例文帳に追加

搬送工程等の部材とプリント配線板用基板の接触から生じるフォトレジスト層表面のキズ、汚れが発生せず、またフォトツールの汚れが生じず、また、導電性基板上の打痕等の凹凸部に対するフォトレジスト層の追従性が優れ、欠陥が非常に少ない、プリント配線板の作製方法を提供しようとするものである。 - 特許庁

In an optical element 1 having optical function surfaces 7, 8 including optically effective regions 10, 11, there are provided comparison standard parts 12, 14 for the visual inspection, that become comparison references when performing the visual inspection of surface defect of the optically effective regions 10, 11 based on their appearances, outside the optically effective regions 10, 11.例文帳に追加

光学有効領域１０、１１を含む光学機能面７、８を有する光学素子１において、前記光学有効領域１０、１１の外側に、前記光学有効領域１０、１１の表面欠陥を外観に基づいて検査する外観検査を行う際の比較基準となる外観検査用比較基準部１２、１４を有すること。 - 特許庁

A defect inspection device 1 includes a light source 2 for irradiating an inspection target surface 10 of a box B with a plurality of beans of slit light L; a camera 3 for photographing the slit light L emitted from the light source 2; and an image processing part 4 for determining the quality of the box B by processing an image G photographed by the camera 3.例文帳に追加

不良検査装置１は、箱Ｂの検査対象とする面１０に対して複数本のスリット光Ｌを照射する光源部２と、光源部２により照射されたスリット光Ｌを撮像するカメラ部３と、カメラ部３によって撮像された画像Ｇを処理して箱Ｂの良・不良を判定する画像処理部４と、を備えている。 - 特許庁

Therefore, even if the heater plate has slight unevenness or projections on its surface, the mounting jig is placed in secure contact, temperature tracking characteristics of the mounting jig for the temperature of the heater plate are improved, and the mounting jig can be brought under temperature control suitable for liquid crystal injection through the heater plate, so defect generation during the liquid crystal injection are reduced to improve the yield.例文帳に追加

従って、ヒータ・プレートの表面に多少の凹凸や突起があっても接触は確実となり、ヒータ・プレートの温度に対する搭載治具の温度の追従性がよく、ヒータ・プレートを経て前記搭載治具を液晶注入に最適な温度制御を行うことができるので、液晶注入時の不良発生が少なくなり歩留まりが向上する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device and its method capable of executing inspection by discriminating an adhering foreign matter from scratches having various shapes generated on the surface when abrading or grinding such as CMP or the like is applied to a processing object (for example, an insulating film on a semiconductor substrate) in semiconductor manufacture or magnetic head manufacture.例文帳に追加

半導体製造や磁気ヘッド製造において、被加工対象物（例えば、半導体基板上の絶縁膜）に対してＣＭＰなどの研磨または研削加工を施した際、その表面に生じる様々な形状を有するスクラッチと付着する異物とを弁別して検査することができるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an inexpensive high performance supported copper foil laminate wherein the defect of a conventional CAC(copper-aluminum-copper) laminated article is improved, that is, workability is enhanced, the generation of a defective article is prevented, handling is made easy and a contaminant such as a resin powder or the like is not bonded to the surface of a copper foil and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

従来のＣＡＣ（銅−アルミニウム−銅）積層品の欠点を改善する、すなわち作業性を高め、不良品の発生を防止しするとともに、取扱いを容易にし、しかも銅箔表面に樹脂の粉等の汚染物が付着しないようにした安価で高性能な支持体付き銅箔積層体及びその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a three-dimensional circuit board, capable of overcoming the occurrence of an overlap or a gap between both ends of the metal wiring layer, when manufacturing the three-dimensional circuit board by forming a metal wiring layer around an outer circumferential surface of a cylindrical body, and also capable of preventing a conduction defect caused by deposition of an adhesive without creasing the metal wiring layer.例文帳に追加

円筒体外周面に金属配線層を形成して立体的回路基板を製造する際に、金属配線層の両端部で重なりや間隙が発生する問題を解消すると共に、金属配線層にシワなどが発生することなく、また接着剤などの付着による導通不良を防ぐことができる立体的回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

When the diameter of the opening 28 is made, for example, 1 to 2 μm larger than the diameter of the lower columnar electrode 10, fringing of an inner wall surface bottom part of the opening 28 is suppressed by a side face of the lower columnar electrode 10 even in case of occurrence of an exposure defect to the plating resist film 27 for columnar electrode formation, thereby reducing deformation of the shape of the upper columnar electrode 11.例文帳に追加

開口部２８の直径を下部柱状電極１０の直径より例えば１〜２μｍ大きく形成すると、柱状電極形成用メッキレジスト膜２７に露光不良が生じても、開口部２８の内壁面底部に発生する裾引きが下部柱状電極１０の側面で抑制され、上部柱状電極１１の形状が歪になるのを軽減できる。 - 特許庁

To provide a CMOS image sensor which can improve light efficiency of blue light by reducing the depth of a p-type impurity region to be introduced to isolate a photodiode and the surface of a silicon substrate, reduce a determination defect which may occur during an ion implantation process, and improve light characteristics by forming a high-density p-type impurity region.例文帳に追加

フォトダイオードとシリコン基板の表面との間の隔離のために導入されるＰ型不純物領域の深さを浅くしてブルー系の光の光効率を改善し、イオン注入時に生じる決定欠陥を抑制し、高濃度のＰ型不純物領域を形成することにより光特性を改善させるＣＭＯＳイメージセンサの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing a photomask determines a drawing position of a transfer pattern so that, in a drawing step, at least a part of the defects existing in a thin film of the photomask blank and/or a surface of a resist film is within an area of the transfer pattern and the defects of the part disappear after etching processing on the basis of defect information of the photomask blank grasped beforehand.例文帳に追加

描画工程において、予め把握したフォトマスクブランクの欠陥情報に基づき、フォトマスクブランクの薄膜及び／又はレジスト膜表面に存在する欠陥の少なくとも一部分が、転写パターンの領域内にあって、かつエッチング加工後には該一部分の欠陥が消滅するように、転写パターンの描画位置を決定するフォトマスクの製造方法である。 - 特許庁

A defect inspection device is provided with a first irradiating means S for irradiating a sample 9 by emitting primary electron beams, mapping optical mechanisms 11 to 13 or imaging secondary electrons emitted from the surface of the sample 9 irradiated with the secondary electron beams, a detector D for detecting the secondary electrons, and an image treatment mechanism 18 for treating signals from the detector D.例文帳に追加

欠陥検査装置は、一次電子線を放出して試料９を照射するための第１の照射手段Ｓと、一次電子線で照射された試料９の表面から放出された二次電子を結像させるための写像光学機構１１〜１３と、二次電子を検出するための検出器Ｄと、検出器Ｄからの信号を処理する画像処理機構１８とを具備する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor capable of preventing the occurrence of an image defect of an interference fringe pattern without performing treatment of surface-roughening or the like even when being used to an electrophotographic apparatus for image forming using coherent light such as semiconductor laser light and forming a satisfactory image and having high performance and satisfactory electric characteristics and to provide an image forming apparatus using the photoreceptor.例文帳に追加

半導体レーザー光等の可干渉光を用いて像形成を行う電子写真装置に用いた場合でも、粗面化等の処理をすることなく干渉縞模様の画像欠陥の発生を防止し、良好な画像を形成することが可能で、且つ、電気特性も良好である高性能な電子写真感光体、および該感光体を用いた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a system and method for defect inspection which can discriminate various shaped scratches from adhered foreign substances, generated on the surface of any processed subject to be inspected, when implementing of grinding or polishing, such as Chemical Mechanical Polishing (CMP) on the processed subject (for example, insulating film on semiconductor substrate) is conducted, in the manufacturing of semiconductor or magnetic head.例文帳に追加

半導体製造や磁気ヘッド製造において、被加工対象物（例えば、半導体基板上の絶縁膜）に対してＣＭＰなどの研磨または研削加工を施した際、その表面に生じる様々な形状を有するスクラッチと付着する異物とを弁別して検査することができるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for jointing a ceramic powder molded product which does not need the high accuracy processing of the jointing surface of the molded product, has high jointing strength possible to process similarly to the molded product, and, before and after baking, can make the molded product having a jointing part of characteristics equivalent to a matrix material without a defect, density nonuniformity, etc.例文帳に追加

本発明は、成形体の接合面の高精度の加工が不要であり、成形体と同様の加工が可能な高強度の接合強度を有すると共に、焼成前及び焼成後において、欠陥や密度の不均一等が無い母材と同等の特性の接合部を有する成形体とすることのできるセラミックス粉末成形体の接合方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a conductive resin cube which has high electrostatic chargeability, makes it possible to stably obtain an adequate resistance value even during impression of a high voltage, has the strength to withstand repetitive and continuous use and more particularly good bending durability and does not give rise to a surface defect, etc., with lapse of time and a conductive roller which makes it possible to stably obtain a high-quality image.例文帳に追加

高い帯電能力を有し、高電圧印加時にも適正な抵抗値を安定して得ることができるとともに、繰り返し連続使用に耐える強度、特には良好な屈曲耐久性を備え、さらには経時による表面欠陥等の発生もない導電性樹脂チューブ、および、高品質な画像を安定して得ることができる導電性ローラを提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor excellent in surface mechanical durability and oxidation resistance, suppressing an image defect caused by deposition of a discharge product, while having excellent sensitivity, having low friction against sliding and high water repellency, and easily maintaining the characteristics at a high level with time, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus using the photoreceptor.例文帳に追加

表面の機械的耐久性や耐酸化性に優れ、放電生成物の付着に起因する画像欠陥も抑制できると共に感度にも優れ、摺動に対する低摩擦や高撥水性、さらにこれらの特性を経時的に高いレベルで維持することが容易な電子写真用感光体、並びに、これを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することである。 - 特許庁

To provide glass fiber for reinforcement capable of being excellently bound and processed, excellent in shaping characteristics, mechanical strength, water resistance, hot water resistance and the like, and particularly excellent in color tone change resistance, surface appearance without defect of appearance, and to provide a fiber-reinforced unsaturated polyester resin composition using the glass fiber for reinforcement.例文帳に追加

集束性および作業性に優れた強化用ガラス繊維であって、成形性、機械的強度、耐水性および耐熱水性などに優れ、特に前記外観欠点がなく、色調劣化や表面外観に優れた繊維強化不飽和ポリエステル樹脂成形体を実現できる強化用ガラス繊維と、かかる強化用ガラス繊維を用いた繊維強化不飽和ポリエステル樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To detect defects, such as surface cracks, generated in a large steel structure, such as a bridge and each kind of cargo handling equipment, remotely, easily, and reliably by a simple apparatus configuration without assembling a scaffold for defect detection work, without requiring any heating means of the steel structure, and without requiring any means for applying a load to the steel structure, such as a shaking apparatus.例文帳に追加

橋梁や各種荷役機械などの大型鋼構造物に生じた表面亀裂などの欠陥を、欠陥検出作業用の足場を組むことなく、鋼構造物の加熱手段を必要とせず、しかも、加振装置などの鋼構造物への荷重負荷の付与手段を必要とせずに、簡単な装置構成によって、離れた場所から容易かつ確実に検出することができる。 - 特許庁

In the ultrasonic flaw detection method of solid shaft 1 for detecting a defect occurring from the surface at the step part 12 of a solid shaft 1 using an ultrasonic wave, a variable angle probe 14 capable of varying the incident angle is used when a longitudinal ultrasonic wave enters from the end face 10a of the solid shaft 1 and the refraction angle α satisfies the following conditions.例文帳に追加

段付部１２を有する中実軸１の段付部表面から生じる欠陥を超音波により検査する中実軸の超音波探傷方法において、中実軸１の軸端面１０ａから縦波超音波を入射するに際して、入射角を変化可能な可変角探触子１４を使用するものであり、屈折角αが下記条件式を満足する。 - 特許庁

(1) This manufacturing method includes processes of: forming polysilicon layers on outer surfaces of a silicon wafer formed with a non-defect region cut out from a silicon single-crystal ingot grown by Czochralski method; applying an RTA process to the wafer with the polysilicon layers formed thereon; and removing the polysilicon layer at least on one-side principal surface of the wafer after the RTA process.例文帳に追加

（１）チョクラルスキー法により育成されたシリコン単結晶インゴットから切り出された無欠陥領域からなるシリコンウェーハの外表面にポリシリコン層を形成する工程と、前記ポリシリコン層を形成したウェーハにＲＴＡ処理を施す工程と、ＲＴＡ処理後のウェーハのすくなくとも一方の主面のポリシリコン層を除去する工程とを有する製造方法。 - 特許庁

To provide a processing apparatus for a CTP printing plate that gives no adverse influence on an automatic platemaking machine caused by an elution defect portion on an end face of a photosensitive material due to pressure fog upon developing, even in a CTP printing plate requiring a chamfering process, and that can carry out stable development for a long period of time without depositing dirt on the surface of a conveyer roll.例文帳に追加

面取り処理を必要とするＣＴＰ印刷版においても現像時に圧力カブリによる感光材料端面部の溶出不良部に起因する自動製版機への悪影響が無く、また搬送ロールの表面に汚れが固着することなく長期に渡って安定な現像処理を行うことが可能なＣＴＰ印刷版の処理装置を提供する事。 - 特許庁

This defect inspecting device is provided with a laser beam source 1 for generating a light beam, a sample table 11 for observation, an objective lens 9 for converging the beam from the light source to irradiate a surface of a sample, a half-mirror 6a for separating a light beam reflected by the sample from the beam incident into the sample, and a wedge 17 for branching the separated light beam.例文帳に追加

本発明にかかる欠陥検査装置は光ビームを発生するレーザー光源１と、観察すべき試料台１１と、前記光源からの光ビームを集束して試料の表面に照射する対物レンズ９と、試料で反射した光ビームを試料に入射する光ビームから分離するハーフミラー６ａと、分離された光ビームを分岐するウェッジ１７を備えている。 - 特許庁

Consequently, since oxidation film can be securely formed even in the part where surface area of the end parts of fins 122, 132 is very small if oxidation film is formed by the anode oxidation film treatment, it is possible to prevent the generation of hydrogen gas securely due to chemical reaction of aluminum and water, even if SiO_2 film cannot be formed and a crack defect occurs in the SiO_2 film.例文帳に追加

したがって、陽極酸化皮膜処理にて酸化皮膜を形成すれば、フィン１２２、１３２の端部等の表面積が非常に小さい部分にも確実に酸化皮膜を形成することができるので、仮に端部にＳｉＯ_２皮膜が形成できなかった場合やＳｉＯ_２皮膜にクラック欠陥が発生していたとしても、アルミニウムと水とが化学反応して水素ガスが発生することを確実に防止できる。 - 特許庁

The method of processing the substrate where the substrate is processed by dividing the same in a depth direction includes the steps of injecting protons from a main surface of the substrate S11; and irradiating to the substrate a light, having a wavelength substantially equal to the absorption wavelength of the defect level formed in the substrate by the proton injection so as to divide the substrate S12.例文帳に追加

基板加工方法は、基板を深さ方向において分断することによって加工する基板加工方法であって、基板の一主面側からプロトン注入を行うプロトン注入工程Ｓ１１と、プロトン注入によって基板中に形成された欠陥準位の吸収波長と略等しい波長をもつ光を基板に照射することにより基板を分断する照射工程Ｓ１２と、を具備する。 - 特許庁

To prevent a generation of a bird's beak on a surface of an element formation region due to a thick element isolation film formed in an element isolation region, to prevent an occurrence of a crystal defect in a semiconductor layer near an end of the element isolation film, and to reduce a stress received by the semiconductor layer, in a semiconductor device having a plurality of element formation regions and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

複数の素子分離領域で分離された複数の素子形成領域を有する半導体装置及びその製造方法において、素子分離領域に形成される膜厚の厚い素子分離膜による素子形成領域の表面のバーズビークの発生を防ぐこと、並びに素子分離膜の端部近傍の半導体層に結晶欠陥が発生することを防止し、且つ該半導体層が受けるストレスの低減を図る。 - 特許庁

To provide an aluminum oxide precursor sol which suppresses a defect in the appearance of a film caused by the flocculation of an organic aluminum compound upon film formation by removing the organic aluminum compound from the aluminum oxide precursor sol, and which enables a surface rugged structure having antireflection performance at low temperature to be produced, and to provide a method for producing the aluminum oxide precursor sol, and a method for producing an optical member using the same.例文帳に追加

有機アルミニウム化合物を酸化アルミニウム前駆体ゾルから除去することで製膜時の有機アルミニウム化合物の凝集による外観不良を抑制し、かつ低温で反射防止性能を有する表面凹凸構造を作製可能な酸化アルミニウム前駆体ゾルおよび酸化アルミニウム前駆体ゾルの製造方法、それ用いた光学用部材の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a hetero epitaxial wafer structured so that an element layer constituted of a compound semiconductor is hetero-epitaxially grown through a buffer layer on the main surface of a substrate capable of reducing a residual stress even when a linear expansion coefficient difference between the substrate and the element layer is large, and effectively suppressing the bending of the wafer or crystal defect generation to the element layer or the like.例文帳に追加

基板の主表面上に、バッファ層を介して化合物半導体よりなる素子層をヘテロエピタキシャル成長させた構造とされるヘテロエピタキシャルウエーハにおいて、基板と素子層との間の線膨張係数差が大きい場合にも、残留する応力を低減することができ、ひいては、ウエーハの反りや素子層への結晶欠陥発生などを効果的に抑制できるヘテロエピタキシャルウエーハを提供する。 - 特許庁